CN105603511A - 一种用于单晶炉的导流筒 - Google Patents
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- C30—CRYSTAL GROWTH
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- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
Abstract
本发明涉及一种用于单晶炉的导流筒,上筒体、下筒体、第一导流板、第二导流板和分散机构,所述的上筒体为上宽下窄的棱台体,所述的下筒体连接在上筒体的底部,所述的第一导流板倾斜设置在上筒体内,所述的第一导流板的上端连接在上筒体进料口下方的侧壁上,所述的上筒体相对的两侧壁上各连接有一块第一导流板,所述的第二导流板位于第一导流板的下方,所述的第二导流板的下端活动连接在上筒体出料口上方的侧壁上,所述的上筒体相对的两侧壁上各连接有一块第二导流板,所述的分散机构安装在下筒体内,所述的分散机构活动连接在上筒体出料口的下方。本设计具有结构简单、易于制造和实用高效的优点。
Description
技术领域
本发明专利涉及单晶炉技术领域,特别是一种用于单晶炉的导流筒。
背景技术
单晶炉拉制单晶硅棒时,盛装多晶硅块等原料的石英坩埚放入位于埚托之上的石墨坩埚托内,在保护性气氛中加热融化,调控到工艺温度后,籽晶经导流筒插入溶融多晶硅液中,与坩埚作逆向旋转并向上提升,使多晶硅液按籽晶的硅原子排列顺序结晶凝固成单晶硅棒。
目前单晶炉的导流筒的结构为逐渐减小直径的圆筒状结构,起高温气体导流的作用,高温气体为氩气流,在氩气流动过程中,不断的从晶体表面带走热量,因此,氩气流对晶体表面的吹拂对于晶体中的径向和纵向温度分布有着重要的影响,而温度梯度又对晶体中的杂质状况,原生缺陷的形成以及电阻率和氧含量的径向分布,有着密切的关系。另外氩气流过溶硅液面,除了与融硅有对流换热外,还带走挥发的SiO,它在溶硅表面的流动与流速对溶硅表面的流动图样也有一定影响,通过影响熔体中温度与杂质的分布来影响晶体中杂质的引入。
但现有的这种结构,因为高温气体在导流筒中流动的速度快,流动阻力小,所以晶体生长过程中固液界面凹向固体的一侧,如果凹陷过大,就会引起径向含氧量、电阻率、原生缺陷的起伏过大,使硅片的响应参数均匀性变差。
发明内容
本发明的目的是通过设置分散机构来进行导料,防止积料的发生,提高了其的实用性能;而发明了一种用于单晶炉的导流筒。
为解决上述的技术问题,本发明提供了一种用于单晶炉的导流筒,其特征在于:包括
上筒体,所述的上筒体为上宽下窄的棱台体,
下筒体,所述的下筒体连接在上筒体的底部,
第一导流板,所述的第一导流板倾斜设置在上筒体内,所述的第一导流板的上端连接在上筒体进料口下方的侧壁上,所述的上筒体相对的两侧壁上各连接有一块第一导流板,
第二导流板,所述的第二导流板位于第一导流板的下方,所述的第二导流板的下端活动连接在上筒体出料口上方的侧壁上,所述的上筒体相对的两侧壁上各连接有一块第二导流板,所述的两块第二导流板与上筒体之间还各设置有一个角度调节装置,
分散机构,所述的分散机构安装在下筒体内,所述的分散机构活动连接在上筒体出料口的下方。
进一步:所述的角度调节装置包括电动缸和传动杆,所述的电动缸安装在上筒体的侧壁上,所述的电动缸通过传动杆与第二导流板相连,所述的传动杆与第二导流板活动连接。
又进一步:所述的第二导流板的上端位于第一导流板的正下方。
再进一步:所述的分散机构包括第二气缸、连杆和第三导流板,所述的上筒体出料口下方的两侧各活动连接有一块第三导流板,所述的下筒体两侧的侧壁上各安装有一个第二气缸,所述的两个第二气缸分别通过一根连杆与两块第三导流板相连,所述的连杆与第三导流板活动连接。
采用上述结构后本发明通过设置分散机构来进行导料,防止积料的发生,提高了其的实用性能;而且其还具有结构简单、易于制造和实用高效的优点。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示的一种用于单晶炉的导流筒,包括上筒体1、下筒体5、第一导流板2、第二导流板3和分散机构,所述的上筒体1为上宽下窄的棱台体,所述的下筒体5连接在上筒体1的底部,所述的第一导流板2倾斜设置在上筒体1内,所述的第一导流板2的上端连接在上筒体1进料口下方的侧壁上,所述的上筒体1相对的两侧壁上各连接有一块第一导流板2,所述的第二导流板3位于第一导流板2的下方,所述的第二导流板3的下端活动连接在上筒体1出料口上方的侧壁上,所述的上筒体1相对的两侧壁上各连接有一块第二导流板3,所述的两块第二导流板3与上筒体1之间还各设置有一个角度调节装置,所述的分散机构安装在下筒体5内,所述的分散机构活动连接在上筒体1出料口的下方,所述的第二导流板3的上端位于第一导流板2的正下方。工作时,把物料从进料口倒入上筒体1内,物料进入上筒体1内后会先掉落在第一导流板2上,然后沿着第一导流板2掉落在第二导流板3,最终沿着第二导流板3从出料口掉落进下筒体5内,在此同时启动分散机构对掉落进下筒体5内的物料进行导料,防止积料现象的发生,提高了其的工作效率;并且本社还可以通过角度调节装置调节第二导流板3的倾斜角度,从而改变物料沿着第二导流板3下落的速度,增加其的实用性能。
如图1所示的角度调节装置包括电动缸4和传动杆,所述的电动缸4安装在上筒体1的侧壁上,所述的电动缸4通过传动杆与第二导流板3相连,所述的传动杆与第二导流板3活动连接。当需要调节第二导流板3的倾斜角度时,启动电动缸4使其通过传动杆驱动第二导流板3进行旋转,改变第二导流板3的倾斜角度,从而调节物料沿着第二导流板3下落的速度。
如图1所示的分散机构包括第二气缸6、连杆7和第三导流板8,所述的上筒体1出料口下方的两侧各活动连接有一块第三导流板8,所述的下筒体5两侧的侧壁上各安装有一个第二气缸6,所述的两个第二气缸6分别通过一根连杆7与两块第三导流板8相连,所述的连杆7与第三导流板8活动连接。当物料从上筒体1的出料口掉落入下筒体5内时,启动第二气缸6使其通过连杆7驱动第三导流板8进行旋转,通过两侧转动的第三导流板8来进行导料,从而防止积料现象的发生;并且其还具有结构简单、易于制造和实用高效的优点。
Claims (4)
1.一种用于单晶炉的导流筒,其特征在于:包括
上筒体(1),所述的上筒体(1)为上宽下窄的棱台体,
下筒体(5),所述的下筒体(5)连接在上筒体1的底部,
第一导流板(2),所述的第一导流板(2)倾斜设置在上筒体(1)内,所述的第一导流板(2)的上端连接在上筒体(1)进料口下方的侧壁上,所述的上筒体(1)相对的两侧壁上各连接有一块第一导流板(2),
第二导流板(3),所述的第二导流板(3)位于第一导流板(2)的下方,所述的第二导流板(3)的下端活动连接在上筒体(1)出料口上方的侧壁上,所述的上筒体(1)相对的两侧壁上各连接有一块第二导流板(3),所述的两块第二导流板(3)与上筒体(1)之间还各设置有一个角度调节装置,
分散机构,所述的分散机构安装在下筒体5内,所述的分散机构活动连接在上筒体1出料口的下方。
2.根据权利要求1所述的一种用于单晶炉的导流筒,其特征在于:所述的角度调节装置包括电动缸(4)和传动杆,所述的电动缸(4)安装在上筒体(1)的侧壁上,所述的电动缸(4)通过传动杆与第二导流板(3)相连,所述的传动杆与第二导流板(3)活动连接。
3.根据权利要求1或2中任一项所述的一种用于单晶炉的导流筒,其特征在于:所述的第二导流板(3)的上端位于第一导流板(2)的正下方。
4.根据权利要求1所述的一种用于单晶炉的导流筒,其特征在于:所述的分散机构包括第二气缸(6)、连杆(7)和第三导流板(8),所述的上筒体(1)出料口下方的两侧各活动连接有一块第三导流板(8),所述的下筒体(5)两侧的侧壁上各安装有一个第二气缸(6),所述的两个第二气缸(6)分别通过一根连杆(7)与两块第三导流板(8)相连,所述的连杆(7)与第三导流板(8)活动连接。
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- 2016-03-16 CN CN201610150437.2A patent/CN105603511A/zh active Pending
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