CN105590573B - Amoled显示面板线缺陷的修复结构及修复方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种AMOLED显示面板线缺陷的修复结构及修复方法,通过将修复线路中的导电薄膜(410)对应层叠覆盖于AMOLED显示面板检测线路中的测试TFT(310)上方并与测试TFT(310)绝缘,将修复线路中的修复导线(420)与AMOLED显示面板检测线路中所有的信号扇出线(200)、及对应的测试线(330)绝缘交叉,实现了将修复线路直接嫁接在AMOLED显示面板检测线路上,能够利用现有的AMOLED显示面板检测线路布局,既引入了修复线路具有修复功能,又节省布局空间,且对控制IC没有额外要求,尤其适用于小尺寸、高解析度的AMOLED显示面板的线缺陷修复。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种AMOLED显示面板线缺陷的修复结构及修复方法。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Display,OLED)显示面板具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽,可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点,被业界公认为是最有发展潜力的显示面板。
OLED显示面板按照驱动方式可以分为无源矩阵型OLED(Passive Matrix OLED,PMOLED)和有源矩阵型OLED(Active Matrix OLED,AMOLED)两大类,即直接寻址和薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)矩阵寻址两类。其中,AMOLED具有呈阵列式排布的像素,属于主动显示类型,发光效能高。
AMOLED显示面板在制造完成之后出厂之前,必须先经过面板检测(Cell Test,CT)的过程,以测试AMOLED显示面板中用以控制各个像素的薄膜晶体管的运行是否正常、已及向各个薄膜晶体管传递信号的扫描线、与数据线是否正常,因此,通常在AMOLED显示面板的显示区域之外设置面板检测线路。
图1为一种现有的AMOLED显示面板检测线路的示意图,该现有的AMOLED显示面板检测线路包括多条信号线100’、与信号线100’一一对应相连的多条信号扇出线200’、与信号线100’一一对应相连的多个测试TFT 310’、与所有测试TFT 310’相连的一测试控制线320’、以及数条测试线330’。所述测试TFT 310’包括栅极、源极312’、有源层313’、及漏极314’,其中,所有的栅极由测试控制线320’充当,所述源极312’、及漏极314’与信号线100’位于同一层,一漏极314’对应与一信号线100’相连,所有的负责测试同一颜色像素的测试TFT 310’的源极312’与一测试线330’相连。该AMOLED显示面板检测线路开始工作时,测试控制线320’接收面板测试端子提供的测试控制信号开启所有的测试TFT 310’,同时测试线330’接收面板测试端子提供的测试信号通过测试TFT 310’传输至对应的信号线100’上,从而测试出显示面板是否正常运行。检测结束后,面板测试端子停止提供测试控制信号及测试信号,测试控制线320’无信号接收使得测试TFT 310’关闭,显示面板正常显示。该现有的AMOLED显示面板检测线路占用了一定的布局空间,但仅作测试之用。
目前,AMOLED显示面板的缺陷修复,特别是线缺陷修复相对困难,通常只能将亮线修复为暗线,这样会影响AMOLED显示面板的品质,故需要设计修复线路以最大程度的提升良率。现有的针对AMOLED显示面板线缺陷的修复线路往往需要在显示面板内额外增加修复总线、及修复线等,不仅占用了更多的布局空间,且缺陷信号线的信号需要返回控制IC进行控制,对控制IC有额外的要求,不适用于小尺寸、高解析度的AMOLED显示面板。
发明内容
本发明的目的在于提供一种AMOLED显示面板线缺陷的修复结构,能够利用现有的AMOLED显示面板检测线路布局,既引入修复线路,又节省布局空间,且对控制IC没有额外要求,尤其适用于小尺寸、高解析度的AMOLED显示面板。
本发明的另一目的在于提供一种AMOLED显示面板线缺陷的修复方法,能够节省面板内的布局空间,尤其适用于对小尺寸、高解析度的AMOLED显示面板线缺陷的修复。
为实现上述目的,本发明首先提供一种AMOLED显示面板线缺陷的修复结构,包括:AMOLED显示面板检测线路、及直接嫁接在所述AMOLED显示面板检测线路上的修复线路;
所述AMOLED显示面板检测线路包括多条信号线、与信号线一一对应相连的多条信号扇出线、与信号线一一对应相连的多个测试TFT、与所有测试TFT相连的一测试控制线、及数条测试线;所述测试TFT包括栅极、源极、有源层、及漏极;所有测试TFT的栅极由所述测试控制线充当,一测试TFT的漏极对应与一信号线相连,一测试线对应与部分测试TFT的源极相连;
所述修复线路包括多块导电薄膜、及数条修复导线;所述导电薄膜的数量与测试TFT的数量对等,一导电薄膜对应层叠覆盖于一测试TFT上方并与该测试TFT绝缘;所述修复导线的数量与测试线的数量对等,一修复导线与所有的信号扇出线、及一对应的测试线绝缘交叉。
所述信号线为显示面板的数据线或扫描线。
所述测试TFT的源极、及漏极与信号线位于同一层。
所有的负责测试同一颜色像素的测试TFT的源极对应与一测试线相连。
所述导电薄膜的材料为透明的ITO,所述修复导线的材料为导电金属。
本发明还提供一种AMOLED显示面板线缺陷的修复方法,包括以下步骤:
步骤1、提供一AMOLED显示面板;
所述AMOLED显示面板包括:AMOLED显示面板检测线路、及直接嫁接在所述AMOLED显示面板检测线路上的修复线路;
所述AMOLED显示面板检测线路包括多条信号线、与信号线一一对应相连的多条信号扇出线、与信号线一一对应相连的多个测试TFT、与所有测试TFT相连的一测试控制线、及数条测试线;所述测试TFT包括栅极、源极、有源层、及漏极;所有测试TFT的栅极由所述测试控制线充当,一测试TFT的漏极对应与一信号线相连,一测试线对应与部分测试TFT的源极相连;
所述修复线路包括多块导电薄膜、及数条修复导线;所述导电薄膜的数量与测试TFT的数量对等,一导电薄膜对应层叠覆盖于一测试TFT上方并与该测试TFT绝缘;所述修复导线的数量与测试线的数量对等,一修复导线与所有的信号扇出线、及一对应的测试线绝缘交叉;
步骤2、当某一信号线产生线缺陷,将该信号线位于缺陷点两侧的部分进行激光切断,该信号线原本与对应的信号扇出线相连的部分继续正常工作;
步骤3、将与该出现线缺陷的信号线对应相连的测试TFT的源极、漏极分别和位于该测试TFT上方的导电薄膜进行激光熔接,将与该测试TFT的源极相连的测试线和对应与该测试线绝缘交叉的修复导线进行激光熔接,将该修复导线和对应相连出现线缺陷的信号线的信号扇出线的绝缘交叉点进行激光熔接,使该信号线原本与对应的测试TFT相连的部分继续正常工作。
所述信号线为显示面板的数据线或扫描线。
所述测试TFT的源极、及漏极与信号线位于同一层。
所有的负责测试同一颜色像素的测试TFT的源极对应与一测试线相连。
所述导电薄膜的材料为透明的ITO,所述修复导线的材料为导电金属。
本发明的有益效果:本发明提供的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构及修复方法,通过将修复线路中的导电薄膜对应层叠覆盖于AMOLED显示面板检测线路中的测试TFT上方并与测试TFT绝缘,将修复线路中的修复导线与AMOLED显示面板检测线路中所有的信号扇出线、及对应的测试线绝缘交叉,实现了将修复线路直接嫁接在AMOLED显示面板检测线路上,能够利用现有的AMOLED显示面板检测线路布局,既引入了修复线路具有修复功能,又节省布局空间,且对控制IC没有额外要求,尤其适用于小尺寸、高解析度的AMOLED显示面板的线缺陷修复。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
附图中,
图1为一种现有的AMOLED显示面板检测线路的示意图;
图2为本发明的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构的示意图;
图3为本发明对AMOLED显示面板线缺陷进行修复的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2,本发明首先提供一种AMOLED显示面板线缺陷的修复结构,包括:AMOLED显示面板检测线路、及直接嫁接在所述AMOLED显示面板检测线路上的修复线路。所谓“直接嫁接”是指修复线路仅占用AMOLED显示面板检测线路现有的布局空间,不再额外占用另外的布局空间,并且所述AMOLED显示面板检测线路复用于AMOLED显示面板线缺陷的修复。
具体地,如图2所示,所述AMOLED显示面板检测线路包括多条信号线100、与信号线100一一对应相连的多条信号扇出线200、与信号线100一一对应相连的多个测试TFT 310、与所有测试TFT 310相连的一测试控制线320、及数条测试线330。所述测试TFT 310包括栅极、源极312、有源层313、及漏极314。所有测试TFT 310的栅极由所述测试控制线320充当,一测试TFT 310的漏极314对应与一信号线100相连,一测试线330对应与部分测试TFT 310的源极312相连。
所述修复线路包括多块导电薄膜410、及数条修复导线420。所述导电薄膜410的数量与测试TFT 310的数量对等,一导电薄膜410对应层叠覆盖于一测试TFT 310上方并与该测试TFT 310绝缘;所述修复导线420的数量与测试线330的数量对等,一修复导线420与所有的信号扇出线200、及一对应的测试线330绝缘交叉。
进一步地,所述信号线100为显示面板的数据线或扫描线。
为便于制作,所述测试TFT 310的源极312、及漏极314与信号线100位于同一层;所有的负责测试同一颜色像素的测试TFT 310的源极312对应与一测试线330相连,例如所有负责测试红色像素的测试TFT 310的源极312对应与第一条测试线330相连,所有负责测试绿色像素的测试TFT 310的源极312对应与第二条测试线330相连,所有负责测试蓝色像素的测试TFT 310的源极312对应与第三条测试线330相连。
所述测试控制线320、及测试线330均呈倒置的“L”形,均包括与信号线100平行的线段用于与修复导线420绝缘交叉、及与信号线100垂直的线段用于与测试TFT 310相连。所述修复导线420的延伸方向与信号扇出线200的延伸方向垂直,二者之间垂直绝缘交叉。
所述导电薄膜410的材料优选透明的氧化铟锡(Indium Tin Oxid,ITO),所述修复导线420的材料优选为导电金属,如钼、钛、铝、铜等。
当所述AMOLED显示面板检测线路进行检测工作时,测试控制线320接收面板测试端子提供的测试控制信号开启所有的测试TFT 310,同时测试线330接收面板测试端子提供的测试信号通过测试TFT 310传输至对应的信号线100上,从而测试出显示面板是否正常运行。检测结束后,面板测试端子停止提供测试控制信号及测试信号,测试控制线320无信号接收使得测试TFT 310关闭,信号线100传输显示信号,显示面板正常显示。
结合图3,当AMOLED显示面板在显示过程中某一信号线100产生线缺陷时:将该信号线100位于缺陷点两侧的部分进行激光切断(图3中的1处、2处),该信号线100原本与对应的信号扇出线200相连的部分继续正常工作;将与该出现线缺陷的信号线100对应相连的测试TFT 310的源极312、漏极314分别和位于该测试TFT 310上方的导电薄膜410进行激光熔接(图3中的3处、4处),将与该测试TFT 310的源极312相连的测试线330和对应与该测试线330绝缘交叉的修复导线420进行激光熔接(图3中的5处),将该修复导线420和对应相连出现线缺陷的信号线100的信号扇出线200的绝缘交叉点进行激光熔接(图3中的6处),显示信号经对应的信号扇出线200、测试线330、测试TFT 310的源极312、导电薄膜410、测试TFT310的漏极314传输到该信号线100原本与对应的测试TFT 310相连的部分,使其正常工作,即完成了对线缺陷的修复。
本发明的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构,将修复线路直接嫁接在AMOLED显示面板检测线路上,能够利用现有的AMOLED显示面板检测线路布局,既引入了修复线路具有修复功能,又节省布局空间,且对控制IC没有额外要求,尤其适用于小尺寸、高解析度的AMOLED显示面板的线缺陷修复。
基于同一发明构思,本发明还提供一种AMOLED显示面板线缺陷的修复方法,包括以下步骤:
步骤1、提供一AMOLED显示面板。
所述AMOLED显示面板包括:AMOLED显示面板检测线路、及直接嫁接在所述AMOLED显示面板检测线路上的修复线路。所谓直接嫁接是指修复线路仅占用AMOLED显示面板检测线路现有的布局空间,不再额外占用另外的布局空间,并且所述AMOLED显示面板检测线路复用于AMOLED显示面板线缺陷的修复。
具体地,如图2所示,所述AMOLED显示面板检测线路包括多条信号线100、与信号线100一一对应相连的多条信号扇出线200、与信号线100一一对应相连的多个测试TFT 310、与所有测试TFT 310相连的一测试控制线320、及数条测试线330。所述测试TFT 310包括栅极、源极312、有源层313、及漏极314。所有测试TFT 310的栅极由所述测试控制线320充当,一测试TFT 310的漏极314对应与一信号线100相连,一测试线330对应与部分测试TFT 310的源极312相连。
所述修复线路包括多块导电薄膜410、及数条修复导线420。所述导电薄膜410的数量与测试TFT 310的数量对等,一导电薄膜410对应层叠覆盖于一测试TFT 310上方并与该测试TFT 310绝缘;所述修复导线420的数量与测试线330的数量对等,一修复导线420与所有的信号扇出线200、及一对应的测试线330绝缘交叉。
进一步地,所述信号线100为显示面板的数据线或扫描线。
为便于制作,所述测试TFT 310的源极312、及漏极314与信号线100位于同一层;所有的负责测试同一颜色像素的测试TFT 310的源极312对应与一测试线330相连,例如所有负责测试红色像素的测试TFT 310的源极312对应与第一条测试线330相连,所有负责测试绿色像素的测试TFT 310的源极312对应与第二条测试线330相连,所有负责测试蓝色像素的测试TFT 310的源极312对应与第三条测试线330相连。
所述测试控制线320、及测试线330均呈倒置的“L”形,均包括与信号线100平行的线段用于与修复导线420绝缘交叉、及与信号线100垂直的线段用于与测试TFT 310相连。所述修复导线420的延伸方向与信号扇出线200的延伸方向垂直,二者之间垂直绝缘交叉。
所述导电薄膜410的材料优选透明的ITO,所述修复导线420的材料优选为导电金属,如钼、钛、铝、铜等。
步骤2、当某一信号线100产生线缺陷,将该信号线100位于缺陷点两侧的部分进行激光切断(图3中的1处、2处),该信号线100原本与对应的信号扇出线200相连的部分继续正常工作。
步骤3、将与该出现线缺陷的信号线100对应相连的测试TFT 310的源极312、漏极314分别和位于该测试TFT 310上方的导电薄膜410进行激光熔接(图3中的3处、4处),将与该测试TFT 310的源极312相连的测试线330和对应与该测试线330绝缘交叉的修复导线420进行激光熔接(图3中的5处),将该修复导线420和对应相连出现线缺陷的信号线100的信号扇出线200的绝缘交叉点进行激光熔接(图3中的6处),显示信号经对应的信号扇出线200、测试线330、测试TFT 310的源极312、导电薄膜410、测试TFT 310的漏极314传输到该信号线100原本与对应的测试TFT 310相连的部分,使其正常工作,即完成了对线缺陷的修复。
本发明的AMOLED显示面板线缺陷的修复方法,将修复线路直接嫁接在AMOLED显示面板检测线路上,能够利用现有的AMOLED显示面板检测线路布局,既引入了修复线路具有修复功能,又节省布局空间,且对控制IC没有额外要求,尤其适用于小尺寸、高解析度的AMOLED显示面板的线缺陷修复。
综上所述,本发明的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构及修复方法,通过将修复线路中的导电薄膜对应层叠覆盖于AMOLED显示面板检测线路中的测试TFT上方并与测试TFT绝缘,将修复线路中的修复导线与AMOLED显示面板检测线路中所有的信号扇出线、及对应的测试线绝缘交叉,实现了将修复线路直接嫁接在AMOLED显示面板检测线路上,能够利用现有的AMOLED显示面板检测线路布局,既引入了修复线路具有修复功能,又节省布局空间,且对控制IC没有额外要求,尤其适用于小尺寸、高解析度的AMOLED显示面板的线缺陷修复。
以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种AMOLED显示面板线缺陷的修复结构,其特征在于,包括:AMOLED显示面板检测线路、及直接嫁接在所述AMOLED显示面板检测线路上的修复线路;
所述AMOLED显示面板检测线路包括多条信号线(100)、与信号线(100)一一对应相连的多条信号扇出线(200)、与信号线(100)一一对应相连的多个测试TFT(310)、与所有测试TFT(310)相连的一测试控制线(320)、及数条测试线(330);所述测试TFT(310)包括栅极、源极(312)、有源层(313)、及漏极(314);所有测试TFT(310)的栅极由所述测试控制线(320)充当,一测试TFT(310)的漏极(314)对应与一信号线(100)相连,一测试线(330)对应与部分测试TFT(310)的源极(312)相连;
所述修复线路包括多块导电薄膜(410)、及数条修复导线(420);所述导电薄膜(410)的数量与测试TFT(310)的数量对等,一导电薄膜(410)对应层叠覆盖于一测试TFT(310)上方并与该测试TFT(310)绝缘;所述修复导线(420)的数量与测试线(330)的数量对等,一修复导线(420)与所有的信号扇出线(200)、及一对应的测试线(330)绝缘交叉。
2.如权利要求1所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构,其特征在于,所述信号线(100)为显示面板的数据线或扫描线。
3.如权利要求1所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构,其特征在于,所述测试TFT(310)的源极(312)、及漏极(314)与信号线(100)位于同一层。
4.如权利要求2所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构,其特征在于,所有的负责测试同一颜色像素的测试TFT(310)的源极(312)对应与一测试线(330)相连。
5.如权利要求1所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构,其特征在于,所述导电薄膜(410)的材料为透明的ITO,所述修复导线(420)的材料为导电金属。
6.一种AMOLED显示面板线缺陷的修复方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、提供一AMOLED显示面板;
所述AMOLED显示面板包括:AMOLED显示面板检测线路、及直接嫁接在所述AMOLED显示面板检测线路上的修复线路;
所述AMOLED显示面板检测线路包括多条信号线(100)、与信号线(100)一一对应相连的多条信号扇出线(200)、与信号线(100)一一对应相连的多个测试TFT(310)、与所有测试TFT(310)相连的一测试控制线(320)、及数条测试线(330);所述测试TFT(310)包括栅极、源极(312)、有源层(313)、及漏极(314);所有测试TFT(310)的栅极由所述测试控制线(320)充当,一测试TFT(310)的漏极(314)对应与一信号线(100)相连,一测试线(330)对应与部分测试TFT(310)的源极(312)相连;
所述修复线路包括多块导电薄膜(410)、及数条修复导线(420);所述导电薄膜(410)的数量与测试TFT(310)的数量对等,一导电薄膜(410)对应层叠覆盖于一测试TFT(310)上方并与该测试TFT(310)绝缘;所述修复导线(420)的数量与测试线(330)的数量对等,一修复导线(420)与所有的信号扇出线(200)、及一对应的测试线(330)绝缘交叉;
步骤2、当某一信号线(100)产生线缺陷,将该信号线(100)位于缺陷点两侧的部分进行激光切断,该信号线(100)原本与对应的信号扇出线(200)相连的部分继续正常工作;
步骤3、将与该出现线缺陷的信号线(100)对应相连的测试TFT(310)的源极(312)、漏极(314)分别和位于该测试TFT(310)上方的导电薄膜(410)进行激光熔接,将与该测试TFT(310)的源极(312)相连的测试线(330)和对应与该测试线(330)绝缘交叉的修复导线(420)进行激光熔接,将该修复导线(420)和对应相连出现线缺陷的信号线(100)的信号扇出线(200)的绝缘交叉点进行激光熔接,使该信号线(100)原本与对应的测试TFT(310)相连的部分继续正常工作。
7.如权利要求6所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复方法,其特征在于,所述信号线(100)为显示面板的数据线或扫描线。
8.如权利要求6所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复方法,其特征在于,所述测试TFT(310)的源极(312)、及漏极(314)与信号线(100)位于同一层。
9.如权利要求7所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复方法,其特征在于,所有的负责测试同一颜色像素的测试TFT(310)的源极(312)对应与一测试线(330)相连。
10.如权利要求7所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复方法,其特征在于,所述导电薄膜(410)的材料为透明的ITO,所述修复导线(420)的材料为导电金属。
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