CN105492966B - 液晶显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明所涉及的液晶显示装置包括：对置配置的第1和第2基板(21、22)；液晶层(23)，被所述第1和第2基板(21、22)夹持，具有P型的液晶分子，在无电场时成为垂直取向，其弹性常数为13pN以上且15pN以下；像素，具有反射区域和透射区域，所述反射区域和所述透射区域的盒间隙相同；一个像素电极(25)，以线状设置于所述第1基板(21)；第1共用电极(40)，以夹持所述像素电极(25)的方式设置于所述第1基板(21)；第2共用电极(29)，设置于所述第2基板(22)；以及反射膜(24)，以与所述像素电极(25)的一部分重叠的方式设置于所述反射区域，由导电材料构成。

Description

液晶显示装置
技术领域
本发明涉及一种液晶显示装置，特别涉及一种兼顾透射型的显示和反射型的显示的半透射型液晶显示装置。
背景技术
作为提高户外视觉识别性的液晶显示装置，已知能够以透射模式和反射模式这两种模式显示图像的半透射型液晶显示装置。在该半透射型液晶显示装置中，对设置于液晶盒内部的反射金属膜进行图案形成来形成反射区域和透射区域，将一个显示像素分割为反射区域和透射区域。而且，通过改变反射区域与透射区域的比例来谋求光学特性的最优化。并且，在反射区域设置透明台阶膜等，改变反射区域与透射区域的盒间隙来谋求(多间隙)光学特性的最优化(例如参照专利文献1和专利文献2)。
在具有这种多间隙的液晶显示装置中，在反射区域与透射区域之间形成台阶，因此在该台阶的边界产生取向不良，引起光泄漏。因此，存在对比度下降的问题。另外，在为了防止对比度降低而遮住该台阶部分的情况下，存在有效开口率降低的问题。
另外，由于为了改变盒间隙而需要在反射区域设置透明台阶膜，因此导致与透射型液晶显示装置等相比制造工序增加。并且，在反射区域形成透明台阶膜时，存在将反射区域集中配置于局部等、在反射区域的配置上也受限制的问题。特别是，在超过300ppi(pixels per inch：每英寸像素数)的高精细面板中上述影响大，将高精细面板设为半透射型是非常困难的。
另外，一般来说，在向液晶层的厚度方向施加电压来使厚度方向的全部液晶分子一致地运动来进行显示动作的情况下，不利于实现响应速度的高速化。
现有技术文件
专利文献
专利文献1：日本特开2003-262852号公报
专利文献2：日本特开2003-270627号公报
专利文献3：日本特开2011-149966号公报
专利文献4：日本特开2011-149967号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明提供一种能够兼顾反射显示和透射显示、并提高响应速度和显示性能的液晶显示装置。
用于解决问题的方案
本发明的一个方式所涉及的液晶显示装置的特征在于，具备：对置配置的第1基板和第2基板；液晶层，被所述第1基板和第2基板夹持，具有P型的液晶分子，在无电场时成为垂直取向，其弹性常数为13pN以上且15pN以下；像素，具有反射区域和透射区域，所述反射区域和所述透射区域的盒间隙相同；一个像素电极，以线状设置于所述第1基板；第1共用电极，以夹持所述像素电极的方式设置于所述第1基板；第2共用电极，设置于所述第2基板；以及反射膜，以与所述像素电极的一部分重叠的方式设置于所述反射区域，由导电材料构成。
发明效果
根据本发明，能够提供一种能够兼顾反射显示和透射显示、并提高响应速度和显示性能的液晶显示装置。
附图说明
图1是本实施方式所涉及的液晶显示装置的框图。
图2是液晶显示面板的电路图。
图3是液晶显示装置的剖面图。
图4是像素的俯视图。
图5是从图4的俯视图中去除反射膜后的俯视图。
图6是沿图4的A-A′线的像素的剖面图。
图7是沿图4的B-B′线的像素的剖面图。
图8是沿图4的C-C′线的像素的剖面图。
图9A是说明未施加电场的状态下的透射区域的液晶层的取向状态的图。
图9B是说明未施加电场的状态下的反射区域的液晶层的取向状态的图。
图10A是说明施加了电场的状态下的透射区域的液晶层的取向状态的图。
图10B是说明施加了电场的状态下的反射区域的液晶层的取向状态的图。
图11是表示实施例所涉及的液晶显示装置的响应特性的图表。
图12是表示比较例所涉及的液晶显示装置的响应特性的图表。
图13是VA模式下的液晶分子的动作的模式图。
图14是IPS模式下的液晶分子的动作的模式图。
具体实施方式
下面，参照附图来说明实施方式。其中，需注意的是，附图是示意性或概念性的，各附图的尺寸和比率等未必与实际相同。另外，即使在附图相互间表示相同的部分的情况下，也存在将相互之间的尺寸的关系、比率不同地表示的情况。特别是，以下所示的几个实施方式例示了用于将本发明的技术思想具体化的装置和方法，并不是通过构成部件的形状、构造、配置等来确定本发明的技术思想。此外，在以下说明中，对于具有相同的功能和结构的要素附加同一标记，仅在需要的情况下进行重复说明。
[1.液晶显示装置的整体结构]
本实施方式的液晶显示装置是在1个像素内具有通过选择性地反射外光来显示图像的反射部、以及通过选择性地使背光透射来显示图像的透射部的半透射型液晶显示装置。另外，在本实施方式中，作为一例，说明有源矩阵型的液晶显示装置。
图1是本实施方式所涉及的液晶显示装置的框图。液晶显示装置具备液晶显示面板10、栅极驱动器(扫描线驱动器)11、源极驱动器(信号线驱动器)12以及控制器13。
在液晶显示面板10上配置有分别沿行方向延伸的多个扫描线GL1～GLm、以及分别沿列方向延伸的多个信号线SL1～SLn。在一条扫描线GL与一条信号线SL的交叉区域配置一个像素。
栅极驱动器11基于控制器13的控制，向扫描线GL1～GLm依次提供扫描信号。源极驱动器12基于控制器13的控制，在各行的开关元件通过扫描信号而接通(ON)的定时向信号线SL1～SLn提供影像信号。由此，像素中包含的像素电极被设定为与经由开关元件提供的影像信号相应的像素电位。控制器13控制栅极驱动器11和源极驱动器12，并且向液晶显示面板10提供共用电压Vcom(例如0V)。
图2是液晶显示面板10的电路图。液晶显示面板10由在扫描线GL的延伸方向和信号线SL的延伸方向上配置的多个像素14构成。作为开关元件15，例如使用薄膜晶体管(TFT：Thin Film Transistor)。TFT 15的栅极与扫描线GL电连接，TFT 15的源极与信号线SL电连接，TFT 15的漏极与像素电极电连接。像素电极和与其对置的共用电极以及被填充在像素电极与共用电极之间的液晶一起构成像素电容Clc。
另外，在液晶显示面板10中，与各像素行对应地形成保持电容线，通过配置于该保持电容线与像素电极之间的绝缘膜按每个像素构成保持电容(蓄积电容)Cs。保持电容线例如被设定为与共用电极相等的电位(共用电压Vcom)。写入到像素的电压被蓄积在保持电容Cs中，直到下一次写入数据为止保持其电压。
此外，在本说明书中，关于TFT的漏极和源极，将连接于信号线SL的一方称为源极，将连接于像素电极的一方称为漏极，但是，还有与其相反，即，将连接于信号线SL的一方称为漏极，将连接于像素电极的一方称为源极的情况。
接着，说明液晶显示装置的具体构造。图3是液晶显示装置的剖面图。此外，在图3中，省略了各种布线，关于这些各种布线的构造，后面进行说明。
在液晶显示面板10的与显示面相反的面上，对置地配置有面光源(背光灯)20。作为该背光灯20，例如使用侧灯(side light)型的背光灯装置。即，背光灯20构成为由LED(发光二极管)等构成的多个发光元件从导光板的短边的一方进行入射，从导光板的板面的一方朝向液晶显示面板10射出光。
液晶显示装置具备：形成TFT和像素电极等的TFT基板21；形成滤色器、共用电极、且与TFT基板21对置地配置的滤色器基板(CF基板)22；以及被夹持在两基板21与22间的液晶层23。TFT基板21和CF基板22分别由透明基板(例如，玻璃基板)构成。
液晶层23由被使TFT基板21与CF基板22之间贴合的密封件(未图示)封入的液晶材料构成。在液晶材料中，随着被施加到TFT基板21与CF基板22间的电场，液晶分子的取向方向被操作，从而光学特性发生变化。构成液晶层23的液晶分子是正型(P型)，并且在未施加电压时相对于基板面几乎垂直地取向。此外，P型的液晶层在被施加电场的情况下，液晶分子的长轴(Director：指向矢)朝向电场方向。
在TFT基板21上设置有TFT 15、反射膜24以及像素电极25。另外，在TFT基板21上以覆盖TFT 15、反射膜24以及像素电极25的方式设置有取向膜26。此外，一个显示像素(pixel)由具有红(R)、绿(G)、蓝(B)的滤色器的三个子像素构成。在以下说明中，除了特别需要区分显示像素和子像素的情况以外，将子像素称为像素。
TFT 15是形成于TFT基板21的液晶层23侧而对像素的接通/断开进行切换的开关元件。即，本实施方式的液晶显示装置使用有源矩阵型的驱动方式。反射膜24设置于像素14的例如一半区域，具有对从液晶显示装置的显示画面入射的外光进行反射的功能。多个像素电极25与TFT 15的电流路径的一端电连接，以矩阵状的图案来形成在TFT基板21的液晶层23侧。像素电极25由ITO(铟锡氧化物)等透明导电膜构成。取向膜26控制液晶分子的取向。
在CF基板22上设置有滤色器27、共用电极29、电介质膜30以及取向膜31。滤色器27设置于CF基板22的液晶层23侧，由红、绿、蓝这三个颜色的滤色器27R、27G、27B构成。滤色器27R、27G、27B配置于与像素电极25对置的位置，在滤色器27R、27G、27B之间形成有用于防止混色的遮光膜(黑矩阵)28。
共用电极29设置于滤色器27的液晶层23侧，具有与全部像素电极25对置的尺寸。共用电极29由ITO等透明导电膜构成。电介质膜30例如由透明树脂构成，具有调整对液晶层23施加的电场的功能。具体地说，若使透明树脂膜30厚，则对液晶层23施加的电场变弱，若使透明树脂膜30薄，则对液晶层23施加的电场变强。透明树脂膜30的膜厚例如是3μm以下。另外，未必需要设置透明树脂膜30。取向膜31与取向膜26成对，对液晶分子的取向进行控制。在本实施方式中，取向膜26和31在像素电极25与共用电极29之间几乎无电位差的状态、即像素电极25与共用电极29之间未被施加电场的状态下，使液晶分子相对于基板面几乎垂直地取向。
像素14具有反射区域14R和透射区域14T。反射区域14R对应于像素14中设置有反射膜24的区域，透射区域14T对应于像素14中未设置反射膜24的区域。在本实施方式中，如图3所示，使反射区域14R和透射区域14T的液晶层23的厚度(盒间隙(Cell gap))CG均匀(平面间隙)。盒间隙CG通过在液晶层23内配置例如柱状的间隔物，来能够在画面整个区域中保持均匀性。
在TFT基板21的背光灯20侧设置有相位差片32和偏振片33。在CF基板22的显示面侧设置有扩散粘接件34。在扩散粘接件34的显示面侧设置有相位差片35和偏振片36。扩散粘接件34具有通过使光扩散(散射)来使透射光和反射光均匀化的功能、以及减轻反射光的干涉(彩虹色)的功能。扩散粘接件34也可以配置于相位差片35与偏振片36之间。
偏振片33和36用于从具有随机方向的振动面的光取出具有与透射轴平行的一个方向的振动面的光、即具有直线偏振光的偏振状态的光。偏振片33和36各自在与光的前进方向正交的平面内具有相互正交的吸收轴和透射轴。
相位差片32和35各自具有折射率各向异性，在面内具有相互正交的慢轴和快轴。相位差片32和35具有以Δn·d(nm)(其中，Δn＝ne-no、d是相位差片的厚度)定义的规定的延迟量(Retardation)(相位差)。相位差片32和35具有对分别透射慢轴和快轴的规定波长的光之间赋予规定的延迟量(在将λ设为透射的光的波长时，λ/4的相位差)的功能。即，相位差片32和35由λ/4片构成。
偏振片33的吸收轴与相位差片32的慢轴被配置成形成45°的角度。同样地，偏振片36的吸收轴与相位差片35的慢轴被配置成形成45°的角度。另外，偏振片33和36被配置成各自的吸收轴形成90°的角度。
[2.像素的构造]
接着，说明像素14的具体构造。图4是像素14的俯视图。图5是从图4的俯视图中去除反射膜24后的俯视图。图6是沿图4的A-A′线的像素14的剖面图。图7是沿图4的B-B′线的像素14的剖面图。图8是沿图4的C-C′线的像素14的剖面图。此外，在图6～图8的剖面图中仅抽出TFT基板21与CF基板22间的构造来示出。另外，在图6～图8的剖面图中省略了取向膜26和31的图示。
在TFT基板21上设置有沿行方向延伸的扫描线GL、同样沿行方向延伸的保持电容线Cs。扫描线GL作为TFT 15的栅极电极而发挥功能。保持电容线Cs形成按每个像素14设置的保持电容。在TFT基板21上以覆盖扫描线GL和保持电容线Cs的方式设置有绝缘膜45。扫描线GL上的绝缘膜45还作为TFT 15的栅极绝缘膜而发挥功能。
在扫描线GL的上方且绝缘膜45上设置有半导体层41。该半导体层41例如由非晶硅或多晶硅构成。在栅极电极GL的两侧且绝缘膜45上设置有源极电极42和漏极电极43。源极电极42和漏极电极43局部地与半导体层41接触。TFT 15由栅极电极GL、栅极绝缘膜45、源极电极42以及漏极电极43构成。源极电极42与信号线SL电连接。
在TFT 15上设置有绝缘膜46。在绝缘膜46上设置有反射膜24。形成反射区域14R的反射膜24设置于像素14的一部分区域。反射膜24由导电材料构成，能够施加共用电压Vcom。TFT 15配置于反射膜24的下方，在从显示画面观察时被反射膜24隐藏。由此，能够抑制因TFT 15引起的画质的劣化。
在反射膜24上设置有绝缘膜47。在绝缘膜47上设置有像素电极25和共用电极40。即，像素电极25和共用电极40由相同水平的布线层构成。像素电极25通过接触插塞(Contact plug)44而与漏极电极43电连接。保持电容线Cs配置于接触插塞44的下方。
像素电极25以直线状形成在像素14的中央部。即，列方向的多个像素电极25形成为带状。期望的是，像素电极25的宽度更小，例如被设定为起因于所使用的制造工序(例如光刻工序)的最小加工尺寸(minimum feature size：最小特征尺寸)左右的宽度。在本实施方式中，像素电极25的宽度例如是2～3μm左右。像素电极25被配置成一部分与反射膜24重叠。
共用电极40形成为隔着规定的间隔地将像素电极25从列方向的两侧夹持。共用电极40与像素电极25的间隔被设定为15μm以下，期望的是3～4μm左右。此外，共用电极40形成为隔着规定的间隔地包围像素电极25。共用电极40形成为覆盖信号线SL以防止来自信号线SL的电场的影响。即，共用电极40、信号线SL以及黑矩阵28被配置成相互重叠。在本实施方式中，在如图5所示那样以包围像素电极25的方式形成有共用电极40的情况下，共用电极40能够覆盖信号线SL的几乎全部区域。
绝缘膜45～47由透明绝缘材料构成，例如使用氮化硅膜。共用电极40和接触插塞44由透明导电材料构成，例如使用ITO。作为反射膜24，例如使用铝(Al)。源极电极42、漏极电极43、扫描线GL、信号线SL以及保持电容线Cs例如使用铝(Al)、钼(Mo)、铬(Cr)、钨(W)中的任一个、或者包含它们中的1种以上的合金等。
[3.动作]
接着，说明如上所述那样构成的液晶显示装置的动作。首先，说明未对液晶层23施加电场的状态下的显示。图9A和图9B是说明未对液晶层23施加电场的状态下的液晶层23的取向状态的图。图9A是透射区域14T的液晶层23的取向状态，图9B是反射区域14R的液晶层23的取向状态。
控制器13对共用电极29和40施加共用电压Vcom(0V)，并且对像素电极25也施加共用电压Vcom。另外，反射区域14R的反射膜24被施加与共用电极40相同的共用电压Vcom。由此，成为透射区域14T和反射区域14R的液晶层23未被施加电场的状态，液晶分子维持初始取向。
在本实施方式中，液晶层23是正型(P型)，并且在未施加电压时(断开(OFF)状态)液晶分子相对于基板面几乎垂直地取向。因此，在断开状态下，透射区域14T和反射区域14R的液晶分子相对于基板面几乎垂直地取向。在该断开状态下，在透射区域14T中，透射了偏振片33的背光在透射延迟量几乎为零的状态的液晶层23之后，被相对于偏振片33以正交偏振(Crossed nicol)状态配置的偏振片36吸收而成为黑显示。
另一方面，在反射区域14R中，透射了偏振片36的外光在透射延迟量几乎为零的状态的液晶层23之后，被反射膜24反射，从而圆偏振光的旋转方向被翻转。然后，被反射膜24反射的外光在再次透射液晶层23之后，被偏振片36吸收而成为黑显示。因而，在断开状态下，透射区域14T和反射区域14R都成为黑显示。
接着，说明对液晶层23施加了电场的状态下的显示。图10A和图10B是说明对液晶层23施加了电场的状态下的液晶层23的取向状态的图。图10A是透射区域14T的液晶层23的取向状态，图10B是反射区域14R的液晶层23的取向状态。
控制器13对共用电极29和40施加共用电压Vcom(0V)，并且对像素电极25施加比共用电压Vcom高的像素电压(例如5V)。另外，反射区域14R的反射膜24被施加与共用电极40相同的共用电压Vcom。由此，在透射区域14T中，通过像素电极25与共用电极40间的横电场、以及像素电极25与共用电极29间的纵电场，液晶分子如半弯曲(half bend)取向那样倒向共用电极40侧。即，越接近像素电极25和共用电极40，则液晶分子向水平方向的倒向越大，随着接近共用电极29，因共用电极40引起的横电场变弱，因此液晶分子向垂直方向取向。
另一方面，在反射区域14R中，反射膜24被施加0V，因此在像素电极25与反射膜24之间产生电场。因此，通过像素电极25与反射膜24的重叠部分的边缘处产生的横电场、以及像素电极25与共用电极29之间的纵电场，液晶分子如半弯曲取向那样倒向水平方向。此时，反射区域14R的横电场比透射区域14T的横电场小，因此反射区域14R的液晶分子相比于透射区域14T的液晶分子而言倒向水平方向的角度小。即，能够使反射区域14R的延迟量小于透射区域14T的延迟量(接近1/2)。由此，不改变透射区域14T与反射区域14R的液晶层的间隙(即，不设为多间隙)而能够使透射显示和反射显示最优化。
具体地说，液晶层23的间隙被调整成接通状态下的延迟量成为λ/2。因此，在施加电压时(接通状态)，在透射区域14T中，透射了偏振片33的背光在透射液晶层23而被赋予延迟量之后，透射偏振片36而成为白显示。
另一方面，在反射区域14R中，透射了偏振片36的外光在透射液晶层23而被赋予透射区域14T的1/2的延迟量之后，被反射膜24反射。然后，被反射膜24反射的外光在再次透射液晶层23而被赋予透射区域14T的1/2的延迟量之后，透射偏振片36而成为白显示。因而，在接通状态下，透射区域14T和反射区域14R都成为白显示。
接着，说明本实施方式的液晶显示装置的响应特性。
图11是表示本实施例所涉及的液晶显示装置的响应特性的图表。此处的液晶层的折射率各向异性是Δn＝0.10～0.13(包括两方)，介电常数各向异性是Δε＝16～19(包括两方)，弹性常数是K33＝13～15pN(皮牛顿)(包括两方)。此外，弹性常数K33是弯曲模式的弹性常数。图11的X轴表示原灰度，Y轴表示后灰度，Z轴表示响应速度(msec)。原灰度是指改变灰度之前的灰度。后灰度是指改变灰度之后的灰度。在图11中，X轴和Y轴的数字表示灰度，在此，示出显示64灰度(0灰度～63灰度)的情况下的响应速度。0灰度是黑(BK)，63灰度是白(W)。
看图11的图表的方法如下：在从第1灰度(原灰度)向第2灰度(后灰度)改变了显示的情况下，根据X轴(原灰度)上记载的第1灰度的数字与Y轴(后灰度)上记载的第2灰度的数字交叉的位置的柱形图的高度，可知响应速度。
图12是表示多间隙构造且具有VA(Vertical Alignment：垂直对齐)取向的比较例(以往例)所涉及的液晶显示装置的响应特性的图表。将图11与图12进行比较可知，实施例相比于比较例而言响应速度显著提高。
[4.效果]
如以上详述的那样，在第1实施方式中，像素14由反射区域14R和透射区域14T构成，使反射区域14R和透射区域14T的液晶层23的厚度(盒间隙)相同。液晶层23具有P型的液晶分子，在无电场时使液晶分子向相对于基板垂直的方向取向。另外，在TFT基板21中设置线状的像素电极25、夹持像素电极25的共用电极40、以及与像素电极25的一部分重叠的反射膜，在CF基板22中设置覆盖像素的共用电极29。而且，在施加电压时(接通状态)，将反射区域14R的液晶层的延迟量设定为透射区域14T的液晶层的延迟量的1/2左右。
因而，根据本实施方式，不改变反射区域与透射区域的盒间隙(平面间隙)，而能够实现最优的反射显示和透射显示。由此，不会产生以往(多间隙)在反射区域与透射区域的边界处产生的取向不良，无需进行基于光泄漏对策的遮光，因此能够防止开口率的降低。另外，无需形成用于改变反射区域与透射区域的盒间隙的透明台阶膜等，因此能够削减处理工序，能够实现成本降低。
另外，本实施方式的液晶显示装置由于液晶分子取半弯曲取向，因此与使用TN(Twisted Nematic：扭曲向列)取向、均匀取向以及VA(Vertical Alignment)取向、IPS(In-Plane Switching：平面转换)取向等的液晶显示装置相比，能够使响应速度高速化。例如图13所示的VA取向必须通过对配置于夹持液晶层的两个基板上的电极施加的电压来使液晶层的厚度方向的全部液晶分子运动。另外，在图14所示的IPS取向的情况下，必须通过配置于一侧的基板上的两个电极间的电压来使液晶层的厚度方向的全部液晶分子运动。这些电压抵抗液晶的弹性而起作用，因此响应性差。而在本实施方式中，如图10A和图10B所示，在通过单面基板的2个电极间的电压以及相面对的2个基板的2个电极间的电压来使液晶分子运动的情况下，响应速度变快。另外，本实施方式的液晶显示装置对于按压液晶面板时的显示不良(按面)的抗性也强。
另外，本实施方式的构造对于目前为止难以实现的超过300ppi的高精细面板非常有效，在高精细面板中也能够应用半透射型。
另外，通过配置由λ/4片构成的相位差片32和35，能够使反射显示的光学设计最优化，并且在透射显示中也能够取出通过直线偏振片是无法取出的倒向偏振片的轴方向的液晶分子的区域的光。由此，能够提高透射区域14T的透射率。
另外，本实施方式的液晶显示装置在共用电极29与液晶层23之间具备透明树脂膜30。若使透明树脂膜30变厚，则能够使施加到液晶层23的横电场相对变强，若使透明树脂膜30变薄，则能够使施加到液晶层23的纵电场相对变强。由此，能够通过根据液晶层23的特性调整透明树脂膜30的膜厚，来使液晶分子的取向最优化。
说明了本发明的几个实施方式，但是这些实施方式是作为例子来提示的，其旨不在于限定发明的范围。这些新的实施方式能够通过其它各种方式来实施，在不脱离发明的宗旨的范围内能够进行各种省略、置换、变更。这些实施方式、其变形包含在发明的范围及宗旨，并且包含在权利要求书所记载的发明及其等同范围内。
附图标记说明
10…液晶显示面板
11…栅极驱动器
12…源极驱动器
13…控制器
14…像素
14R…反射区域
14T…透射区域
15…开关元件
20…背光灯
21…TFT基板
22…CF基板
23…液晶层
24…反射膜
25…像素电极
26、31…取向膜
27…滤色器
28…黑矩阵
29…共用电极
30…电介质膜
32、35…相位差片
33、36…偏振片
34…扩散粘接件
40…共用电极
41…半导体层
42…源极电极
43…漏极电极
44…接触插塞
45～47…绝缘膜

Claims (7)

1.一种液晶显示装置，其特征在于，具备：
对置配置的第1基板和第2基板；
液晶层，被所述第1基板和第2基板夹持，具有P型的液晶分子，在无电场时成为垂直取向；
像素，具有反射区域和透射区域，所述反射区域和所述透射区域的盒间隙相同；
一个像素电极，以在所述液晶显示装置的信号线所延伸的列方向上延伸的方式设置于所述第1基板，且被设置在所述反射区域及所述透射区域；
第1共用电极，以从所述列方向的两侧夹持所述像素电极的方式设置于所述第1基板，且被设置在所述反射区域及所述透射区域；
第2共用电极，设置于所述第2基板，且被设置在所述反射区域及所述透射区域；以及
反射膜，以与所述像素电极的一部分重叠的方式设置于所述反射区域，由导电材料构成。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，
所述反射膜被施加与所述第1共用电极相同的电压。
3.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，
在第1显示模式下，所述像素电极、所述第1共用电极、所述第2共用电极以及所述反射膜被施加共用电压，
在第2显示模式下，所述像素电极被施加比所述共用电压高的电压，所述第1共用电极、所述第2共用电极以及所述反射膜被施加所述共用电压。
4.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，
还具备设置于所述第2共用电极与所述液晶层之间的电介质膜。
5.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，
所述第1共用电极包围所述像素电极。
6.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，
还具备对所述像素电极提供电压的布线，
所述第1共用电极被配置成与所述布线重叠。
7.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，还具备：
设置于所述第1基板的第1相位差片；以及
设置于所述第2基板的第2相位差片，
所述第1相位差片与所述第2相位差片的相位差是λ/4。
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