CN105487353A - 一种液体涂布装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及半导体行业晶片处理设备，具体地说是一种用于涂布显影液的液体涂布装置，包括喷嘴盖及喷嘴主体，其中喷嘴盖与喷嘴主体密封连接，中间形成密闭腔室，所述喷嘴盖上设有进液口，所述喷嘴主体上开有螺旋状的流道，该流道内设有排出显影液的出液孔；由所述进液口流入的显影液流至所述流道中，并从所述出液孔排出，同时涂布于整个晶圆的表面；所述喷嘴盖上设有排气孔。本发明的液体涂布装置具有螺旋状的流道和出液孔，显影液通过螺旋状的流道从出液孔流出，螺旋状分布的出液孔可将显影液同时涂布在整个晶圆表面，使晶圆表面显影均匀，保证了产品晶圆良率；本发明的喷嘴盖上具有排气孔，避免排气不畅造成的显影液不均匀和气泡。
Description
技术领域
本发明涉及半导体行业晶片处理设备，具体地说是一种用于涂布显影液的液体涂布装置。
背景技术
半导体集成电路制造过程中需要对曝光后的晶圆进行显影操作。对于12寸的晶圆，现有的显影液涂布装置需要经过特定的路径对晶圆表面进行显影液涂布。由于路径限制，显影液涂布在晶圆表面各处的时间有差异，导致晶圆表面各处的显影时间不同，显影不均匀，降低了产品晶圆良率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于涂布显影液的液体涂布装置。该液体涂布装置可同时对整个晶圆表面进行显影液涂布，避免由于显影时间不同造成的显影不均匀现象发生。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：
本发明包括喷嘴盖及喷嘴主体，其中喷嘴盖与喷嘴主体密封连接，中间形成密闭腔室，所述喷嘴盖上设有进液口，所述喷嘴主体上开有螺旋状的流道，该流道内设有排出显影液的出液孔；由所述进液口流入的显影液流至所述流道中，并从所述出液孔排出，同时涂布于整个晶圆的表面。
其中：所述喷嘴盖上设有排气孔；所述进液口的轴向中心线与排气孔的轴向中心线平行，且分别垂直于所述喷嘴主体；所述出液孔按螺旋状分布，与所述流道的螺旋状轨迹相对应；所述喷嘴盖为中空的圆锥状，其顶端设有进液口，所述喷嘴盖下端的边缘通过密封圈与所述喷嘴主体密封连接。
本发明的优点与积极效果为：
1.本发明的液体涂布装置具有螺旋状的流道和出液孔，显影液通过螺旋状的流道从出液孔流出，螺旋状分布的出液孔可将显影液同时涂布在整个晶圆表面，使晶圆表面显影均匀，保证了产品晶圆良率。
2.本发明的喷嘴盖上具有排气孔，避免排气不畅造成的显影液不均匀和气泡。
附图说明
图1为本发明的立体结构示意图；
图2为本发明的主视剖视图；
图3为本发明喷嘴主体的结构示意图；
其中：1为喷嘴盖，2为进液口，3为排气孔，4为喷嘴主体，5为密封圈，6为密闭腔室，7为流道，8为出液孔。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步详述。
如图1～3所示，本发明包括喷嘴盖1及喷嘴主体4，其中喷嘴盖1为中空的圆锥状，其顶端设有进液口2，喷嘴盖1下端的边缘通过密封圈5与喷嘴主体4密封连接。喷嘴盖1上设有排气孔3，该排气孔3位于进液口2的一侧，设置在喷嘴盖1轴向截面一侧的斜边上。进液口2的轴向中心线与排气孔3的轴向中心线平行，且分别垂直于喷嘴主体4。
喷嘴主体4为圆盘状，外边缘通过密封圈5与喷嘴盖1密封连接，中间开成密闭腔室6。喷嘴主体4上开有螺旋状的流道7，该流道7内设有排出显影液的出液孔8；该出液孔8按螺旋状分布，与流道(7)的螺旋状轨迹相对应。
本发明的工作原理为：
喷嘴盖1与喷嘴主体4之间用密封圈5进行密封，形成密闭腔室6，防止显影液泄漏。显影液从进液口2流入密闭腔室6中，流入螺旋状的流道7内，并从螺旋分布的出液孔8排出，同时涂布于整个晶圆的表面。显影液逐渐布满密闭腔室6，密闭腔室6内原有的气体从排气孔3排出。
Claims (5)
1.一种液体涂布装置，其特征在于：包括喷嘴盖(1)及喷嘴主体(4)，其中喷嘴盖(1)与喷嘴主体(4)密封连接，中间形成密闭腔室(6)，所述喷嘴盖(1)上设有进液口(2)，所述喷嘴主体(4)上开有螺旋状的流道(7)，该流道(7)内设有排出显影液的出液孔(8)；由所述进液口(2)流入的显影液流至所述流道(7)中，并从所述出液孔(8)排出，同时涂布于整个晶圆的表面。
2.按权利要求1所述的液体涂布装置，其特征在于：所述喷嘴盖(1)上设有排气孔(3)。
3.按权利要求2所述的液体涂布装置，其特征在于：所述进液口(2)的轴向中心线与排气孔(3)的轴向中心线平行，且分别垂直于所述喷嘴主体(4)。
4.按权利要求1或2所述的液体涂布装置，其特征在于：所述出液孔(8)按螺旋状分布，与所述流道(7)的螺旋状轨迹相对应。
5.按权利要求1或2所述的液体涂布装置，其特征在于：所述喷嘴盖(1)为中空的圆锥状，其顶端设有进液口(2)，所述喷嘴盖(1)下端的边缘通过密封圈(5)与所述喷嘴主体(4)密封连接。
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