CN105483706B - 一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置及其方法 - Google Patents

一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置及其方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105483706B
CN105483706B CN201510858476.3A CN201510858476A CN105483706B CN 105483706 B CN105483706 B CN 105483706B CN 201510858476 A CN201510858476 A CN 201510858476A CN 105483706 B CN105483706 B CN 105483706B
Authority
CN
China
Prior art keywords
raffinate
organic
circuit board
printed circuit
waste liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201510858476.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105483706A (zh
Inventor
刘继承
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Huizhou Junya Precision Circuit Co ltd
Original Assignee
Guangdong Champion Asia Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangdong Champion Asia Electronics Co Ltd filed Critical Guangdong Champion Asia Electronics Co Ltd
Priority to CN201510858476.3A priority Critical patent/CN105483706B/zh
Publication of CN105483706A publication Critical patent/CN105483706A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105483706B publication Critical patent/CN105483706B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46Regeneration of etching compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F9/00Multistage treatment of water, waste water or sewage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/001Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/444Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by ultrafiltration or microfiltration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

本发明涉及一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置,由萃余液罐、萃余液进料泵、棉芯过滤器、有机过滤器、压力表、流量计、清洗水槽及仪表控制系统组成,其中有机过滤器为并联的两组,其中装有有机过滤膜组件;采用两组有机过滤器并联方式运行,由于使用了超滤膜或纳滤膜,除去了印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液经过萃取后的萃余液(再生液)中有机物,实现了在线过滤方式,结构简单、造价低、操作方便。通过在线过滤的方法就可以有效的过滤萃余液(再生液)中有机杂质,提升印制电路板高密度互联(HDI)产品蚀刻工艺精度及效率。本发明还公开了印刷电路板酸、碱性蚀刻废液循环利用方法。

Description

一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置及其 方法
技术领域
本发明涉电路板制造领域,涉及一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置,特别涉及在电路板制造过程中酸、碱性氯化铜蚀刻废液经萃取回收铜后萃余液(再生液)中有机物杂质的过滤装置。
背景技术
在印制电路板(PCB)生产过程中利用氯化铜系列酸、碱性蚀刻来蚀刻线路是一个至关重要的环节,酸、碱蚀刻废液是一个高污染的物质,而目前在印制电路板企业为到达环保“节能减排、清洁生产、零排放”要求,在氯化铜酸、碱性蚀刻废液萃取铜后再循环利用,其产生的萃余液(再生液)普遍碰到的是萃余液(再生液)会受到萃取油夹带及分相不理想带来的污染(油包水或水包油),另一方面氯化铜酸、碱性蚀刻废液在萃取中受萃取量大小的因素,会破坏蚀刻液中原始的有机添加剂。所以在后期萃余液(再生液)回用调配中无法计算出其残留的添加剂含量,只能估算,因而在蚀刻线路板(PCB)时会存在药水的稳定性问题,将影响再生液在蚀板过程中速度、品质。
发明内容
本发明提供一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置及方法,过滤酸、碱性氯化铜蚀刻废液萃取后萃余液(再生液)中的有机污染,实现萃余液循环利用。
为实现上述目的,本发明的方案为:一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置,由萃余液罐、萃余液进料泵、棉芯过滤器、有机过滤器、压力表、流量计、清洗水槽及仪表控制系统组成,其中有机过滤器为并联的两组,其中装有有机过滤膜组件;萃余液由管道接入萃余液罐,萃余液罐下部通过管道与萃余液进料泵进口相连,萃余液进料泵出口与有机过滤器底部进口相连,相连的管道安有压力表与流量计;有机过滤器顶部出口是经过过滤后用于回收利用的萃余液出口,同时也是反冲清洗水的进口;有机过滤器侧面有两个浓缩的有机物出口;清洗水槽与有机过滤器顶部出口相连,在相连的管道上设有压力表与流量计,清洗水槽与有机过滤器通过管道形成循环回路;其中萃余液进料泵采用耐酸碱磁力泵浦,采用仪表控制系统通过压力表和流量计控制有机过滤膜组的压力及流量;为减少液体压力对过滤膜的损坏。
有机过滤膜使用超滤膜或纳滤膜,材质为纤维素、聚酰胺及聚砜类,优选聚酰胺。
一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用方法,由萃余液罐、萃余液进料泵、棉芯过滤器、有机过滤器、压力表、流量计、清洗水槽及仪表控制系统组成回收利用装置;将酸、碱性氯化铜蚀刻废液经过萃取铜后萃余液加入到萃余液罐中,用萃余液进料泵将萃余液加压到0.5-0.7MPa进入棉芯过滤器过滤,通过仪表控制系统控制萃余液压力0.2-0.4MPa与流量经过有机过滤器过滤除去萃余液中的有机物,有机过滤器中装有有机过滤膜组件;有机过滤器为两组,经过有机器过滤后的萃余液用作蚀刻液的调配;在过滤过程中收集浓缩的有机物;有机过滤器是一组过滤,一组清洗;清洗时通清洗水槽建立反冲循环清洗过程。
本发明采用两组有机过滤膜组并联方式运行,由于使用了超滤膜或纳滤膜,除去了印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液经过萃取后的萃余液(再生液)中有机物,实现了在线过滤方式,结构简单、造价低、操作方便。通过在线过滤的方法就可以有效的过滤萃余液(再生液)中有机杂质,提升印制电路板高密度互联(HDI)产品蚀刻工艺精度及效率。
经过处理后的再生蚀刻液:有机物重量含量在0.3ppm以下;最小蚀刻精度为0.07mm,蚀刻因子大于3;印制电路板蚀刻速度提高8.9%。
附图说明
图1是本发明酸、碱性蚀刻液萃取后萃余液过滤的工艺流程示意图。
1-萃余液(再生液)罐2-萃余液进料泵3-棉芯过滤器4-压力表5-有机过滤器A6-有机过滤器B7-压力表8-清洗水槽9,10-流量计。
具体实施方式
下面结合上述附图说明本发明的具体实施例。
实施例1:将碱性蚀刻废液进行萃取回收铜后,收集到萃余液罐、萃取液罐液位由液位仪表控制,通过耐酸碱的磁力泵将萃余液加压到0.5-0.7MPa,进入棉芯过滤器,除去萃余液中的颗粒物;然后经过压力仪表与流量计控制萃余液压力为0.25-0.35MPa、流量为5L/h进入有机过滤膜组除去萃余液中的有机物,有机过滤膜为超滤膜,材质为聚酰胺,在过滤过程中收集浓缩的有机物。当经过有机过滤膜组过滤后的再生蚀刻液有机重量含量高于0.3ppm时,进行过滤膜组切换;切换出的过滤膜组进行反冲循环清洗,反冲是用水反冲有机过滤膜组。
实验结果:1)再生蚀刻液有机物含量在0.3pppm以下;2)再生蚀刻液的最小蚀刻精度为0.07mm,蚀刻因子大于3;3)印制电路板蚀刻速度提高8.9%。
实施例2:将酸性蚀刻废液进行萃取回收铜后,收集到萃余液罐、萃取液罐液位由液位仪表控制,通过耐酸碱的磁力泵将萃余液加压到0.5-0.7MPa,进入棉芯过滤器,除去萃余液中的颗粒物;然后经过压力仪表与流量计控制萃余液压力为0.20-0.30MPa、流量为5L/h进入有机过滤膜组除去萃余液中的有机物,有机过滤膜为纳滤膜,材质为聚酰胺,在过滤过程中收集浓缩的有机物。当经过有机过滤膜组过滤后的再生蚀刻液有机重量含量高于0.3ppm时,进行过滤膜组切换;切换出的过滤膜组进行反冲循环清洗,反冲是用水反冲有机过滤膜组。
实验结果:1)再生蚀刻液有机物含量在0.2ppm以下;2)再生蚀刻液的最小蚀刻精度为0.07mm,蚀刻因子大于3;3)印制电路板蚀刻速度提高9.5%。
实施例3:将酸性蚀刻废液进行萃取回收铜后,收集到萃余液罐、萃取液罐液位由液位仪表控制,通过耐酸碱的磁力泵将萃余液加压到0.5-0.7MPa,进入棉芯过滤器,除去萃余液中的颗粒物;然后经过压力仪表与流量计控制萃余液压力为0.20-0.30MPa、流量为5L/h进入有机过滤膜组除去萃余液中的有机物,有机过滤膜为纳滤膜,材质为纤维素,在过滤过程中收集浓缩的有机物。当经过有机过滤膜组过滤后的再生蚀刻液有机重量含量高于0.3ppm时,进行过滤膜组切换;切换出的过滤膜组进行反冲循环清洗,反冲是用水反冲有机过滤膜组。
实验结果:1)再生蚀刻液有机物含量在0.3ppm以下;2)再生蚀刻液的最小蚀刻精度为0.07mm,蚀刻因子大于3;3)印制电路板蚀刻速度提高7.5%。
已上内容是结合印制电路板(PCB)酸、碱性氯化铜蚀刻液铜回收及再生循环系统对本发明所作的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干简单的推演或替换,都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (7)

1.一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置,由萃余液罐、萃余液进料泵、棉芯过滤器、有机过滤器、压力表、流量计、清洗水槽及仪表控制系统组成,其中有机过滤器为并联的两组,其中装有有机过滤膜组件;萃余液由管道接入萃余液罐,萃余液罐下部通过管道与萃余液进料泵进口相连,萃余液进料泵出口与有机过滤器底部进口相连,其中,萃余液进料泵出口与有机过滤器底部进口相连的管道安有棉芯过滤器、压力表与流量计,压力表与流量计位于棉芯过滤器与有机过滤器底部进口之间的管道上;有机过滤器顶部出口是经过过滤后用于回收利用的萃余液出口,同时也是反冲清洗水的进口;有机过滤器侧面有两个浓缩的有机物出口;清洗水槽与有机过滤器顶部出口相连,在相连的管道上设有压力表与流量计,清洗水槽与有机过滤器通过管道形成循环回路;其中萃余液进料泵采用耐酸碱磁力泵浦,采用仪表控制系统通过压力表和流量计控制有机过滤膜组的压力及流量。
2.根据权利要求1的印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置,其特征在于有机过滤膜是超滤膜或纳滤膜。
3.根据权利要求1的印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置,其特征在于有机过滤膜的材质是纤维素、聚酰胺及聚砜类。
4.一种采用权利要求1-3所述的印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置的印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用方法,由萃余液罐、萃余液进料泵、棉芯过滤器、有机过滤器、压力表、流量计、清洗水槽及仪表控制系统组成回收利用装置;将酸、碱性氯化铜蚀刻废液经过萃取铜后萃余液加入到萃余液罐中,用萃余液进料泵将萃余液加压到0.5-0.7MPa进入棉芯过滤器过滤,通过仪表控制系统控制萃余液压力0.2-0.4MPa与流量经过有机过滤器过滤除去萃余液中的有机物,有机过滤器中装有有机过滤膜组件;有机过滤器为两组,经过有机器过滤后的萃余液用作蚀刻液的调配;在过滤过程中收集浓缩的有机物;有机过滤器是一组过滤,一组清洗;清洗时通清洗水槽建立反冲循环清洗过程。
5.根据权利要求4的印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用方法,其特征在于有机过滤膜是超滤膜或纳滤膜。
6.根据权利要求5的印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用方法,其特征在于有机过滤膜的材质是纤维素、聚酰胺及聚砜类。
7.根据权利要求5的印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用方法,其特征在于有机过滤膜的材质是聚酰胺。
CN201510858476.3A 2015-11-30 2015-11-30 一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置及其方法 Active CN105483706B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510858476.3A CN105483706B (zh) 2015-11-30 2015-11-30 一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置及其方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510858476.3A CN105483706B (zh) 2015-11-30 2015-11-30 一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置及其方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105483706A CN105483706A (zh) 2016-04-13
CN105483706B true CN105483706B (zh) 2019-04-23

Family

ID=55670964

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510858476.3A Active CN105483706B (zh) 2015-11-30 2015-11-30 一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置及其方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105483706B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107460315B (zh) * 2017-08-24 2019-10-25 中国有色集团刚果矿业有限公司 一种采用纳滤膜浓缩分离-中和沉淀回收铜萃余液中铜、钴的方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102356454A (zh) * 2009-03-31 2012-02-15 栗田工业株式会社 蚀刻液的处理装置以及处理方法
CN103628069A (zh) * 2012-08-24 2014-03-12 成都虹华环保科技有限公司 碱性蚀刻液循环再生系统
CN205062185U (zh) * 2015-10-23 2016-03-02 惠州市臻鼎环保科技有限公司 碱性蚀刻废液资源再生处理装置
CN205556784U (zh) * 2015-11-30 2016-09-07 广东骏亚电子科技股份有限公司 一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102356454A (zh) * 2009-03-31 2012-02-15 栗田工业株式会社 蚀刻液的处理装置以及处理方法
CN103628069A (zh) * 2012-08-24 2014-03-12 成都虹华环保科技有限公司 碱性蚀刻液循环再生系统
CN205062185U (zh) * 2015-10-23 2016-03-02 惠州市臻鼎环保科技有限公司 碱性蚀刻废液资源再生处理装置
CN205556784U (zh) * 2015-11-30 2016-09-07 广东骏亚电子科技股份有限公司 一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN105483706A (zh) 2016-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN201447391U (zh) 高干度注汽锅炉水处理系统
CN102976450A (zh) 一种粘胶纤维生产中压榨废液的碱回收工艺
CN104370331A (zh) 一种蒽醌法生产双氧水萃余液除水工艺
CN105483706B (zh) 一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置及其方法
CN205556784U (zh) 一种印刷电路板酸、碱性氯化铜蚀刻废液循环利用装置
CN204958618U (zh) 采用管式微滤膜去除工业用水及废水中硅化物的系统
CN107585914A (zh) 肠衣肝素生产废水资源化利用装置
CN104086011A (zh) 适用于粘胶纤维工业酸站废水的零排放工艺
CN103848422B (zh) 活性炭清洗系统及其方法
CN209098263U (zh) 一种碱减量废水回收装置
CN209271205U (zh) 一种水处理超滤系统
CN103523802A (zh) 联合制碱法制碱母液ⅱ的净化方法
CN209010278U (zh) 一种重金属废水高标准排放与回收装置
CN106430391B (zh) 湿法水刺专用双气浮水处理系统
CN1247249A (zh) 一种无废水排放的废纸再生技术
CN203663710U (zh) Led切割液回收处理装置
CN206014465U (zh) 一种基于自动分段清洗的反渗透装置
CN203728671U (zh) 一种清洁生产中的超纯水清洗完后减排系统
CN102070227A (zh) 切割研磨废水之uf回收处理系统
CN206232539U (zh) 玻璃研磨废水回收处理装置
CN204714648U (zh) 一种豆粕浸出车间水洗水过滤装置
CN209554904U (zh) 一种脱模剂循环利用装置
CN204911249U (zh) 一种用于制备中水的浸没式超滤系统
JP5802580B2 (ja) 膜ろ過装置
CN208292762U (zh) 一种印刷清洗污水循环回用管网系统

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20220708

Address after: 516000 6th floor, No. 25 (plant a), Sandong Digital Industrial Park, Huicheng District, Huizhou City, Guangdong Province

Patentee after: Huizhou Junya precision circuit Co.,Ltd.

Address before: 516080 area 25, digital industrial park, Huicheng District, Huizhou City, Guangdong Province

Patentee before: GUANGDONG CHAMPION ASIA ELECTRONICS Co.,Ltd.