CN105482716A - 一种酸性纳米陶瓷抛光液 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种酸性纳米陶瓷抛光液，包括按重量份计的以下组分：30-80份胶体二氧化硅、0.1-2份阻垢分散剂和20-70份水；所述胶体二氧化硅固含量为30-50％，粒径范围为5-80nm；所述阻垢分散剂为醇胺、醚、聚胺或聚醚中的一种或两种以上；所述酸性纳米陶瓷抛光液的pH值为2-4。该酸性纳米陶瓷抛光液pH值适宜，具有较高的稳定性，耐存贮，抛光速率快。
Description
技术领域
本发明涉及一种酸性纳米陶瓷抛光液。
背景技术
超洁亮技术是采用一种专用的高精度抛光机将纳米液滴到抛光砖的表面，通过抛光磨头的反复施压、打磨、抛光，将纳米液更好地渗透到抛光砖的毛孔内部，堵塞了抛光砖的毛孔及微裂纹，形成一种特殊的、连续的纳米膜，从而使抛光砖具有亮丽的表面。并且该表面能有效阻止污染物的入侵，具有较好的防污性能。
超洁亮技术是目前抛光砖防护处理的最有效方法，需要使用到高精度抛光机和纳米材料抛光液。目前，碱性的抛光液在市面上较常见，如专利CN20140838043.7公开的一种含有多孔二氧化硅糜烂的抛光液及其制备方法以及如专利CN200810247567.3公开的一种用于硅晶片抛光的抛光组合物。然而，碱性的抛光液在抛光过程中容易出现表面浊点和轻微划伤的问题。
超洁亮纳米陶瓷抛光液采用纳米二氧化硅溶胶作为研磨材料已有很多报道，但稳定的酸性纳米抛光液鲜有报道。
发明内容
为了克服现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种稳定的、抛光效果佳的酸性纳米陶瓷抛光液。
为解决上述问题，本发明所采用的技术方案如下：
一种酸性纳米陶瓷抛光液，包括按重量份计的以下组分：30-80份胶体二氧化硅、0.1-2份阻垢分散剂和20-70份的水；所述胶体二氧化硅固含量为30-50％，粒径范围为5-80nm；所述阻垢分散剂为醇胺、醚、聚胺或聚醚中的一种或两种以上；
所述酸性纳米陶瓷抛光液的pH值为2-4。
作为优选，所述胶体二氧化硅为酸性胶体二氧化硅或碱性胶体二氧化硅。
作为优选，所述醚为乙二醇乙醚、乙二醇丁醚和二乙二醇二甲基醚中的一种或两种以上；所述醇胺为二乙醇胺和/或三乙醇胺；所述聚胺为丙烯酸-丙烯酰胺共聚物；所述聚醚为壬基酚聚氧乙烯醚、异构十三醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和聚氧乙烯醚中的一种或多种。
作为优选，所述聚醚或聚胺的分子量为100-8000。
作为优选，所述阻垢分散剂由聚醚与醇胺以1：0.1-10的比例混合。
作为优选，所述阻垢分散剂由壬基酚聚氧乙烯醚与三乙醇胺以1：0.1-10的比例混合。
作为优选，所述酸性纳米陶瓷抛光液还包括pH调节剂，所述pH调节剂为磷酸、盐酸、草酸和硫酸中的一种或两种以上。
作为优选，所述酸性纳米陶瓷抛光液还包括0.5-2份的添加剂。
作为优选，所述添加剂为增光剂、防污剂或杀茵剂等。
相比现有技术，本发明的有益效果在于：
1、本发明直接制备pH值为2-4的酸性纳米陶瓷抛光液，体系稳定，抛光效果好；
2、本发明采用聚醚与醇胺作为复合稳定剂，能有效促进该酸性纳米陶瓷抛光液的稳定性。
下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细说明。
具体实施方式
以下实施例中，如未特殊说明，所用试剂均为市售或经过常规的试验手段获得。
本实施例中，所述碱性胶体二氧化硅中二氧化硅的粒径范围为5-80nm。
实施例1
将50kg市售固含量为30％的碱性胶体二氧化硅加入40kg水中，依次加入0.3kg的壬基酚聚氧乙烯醚，加入加水补足至100kg，搅拌均匀，加入磷酸调节pH至3，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
实施例2
将50kg市售固含量为30％的碱性胶体二氧化硅加入40kg水中，依次加入0.3kg的壬基酚聚氧乙烯醚、0.1kg三乙醇胺，加水补足至100kg，搅拌均匀，加入磷酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
实施例3
将50kg市售固含量为30％的碱性胶体二氧化硅加入40kg水中，依次加入0.3kg的壬基酚聚氧乙烯醚、0.1kg三乙醇胺，加水补足至100kg，搅拌均匀，加入磷酸调节pH至3，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
实施例4
将50kg市售固含量为30％的碱性胶体二氧化硅加入50kg水中，依次加入0.3kg的壬基酚聚氧乙烯醚、0.1kg二乙醇胺，加水补足至100kg，搅拌均匀，加入磷酸调节pH至4，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
实施例5
将50kg市售固含量为30％的碱性胶体二氧化硅加入60kg水中，依次加入0.3kg的壬基酚聚氧乙烯醚、0.1kg三乙醇胺，加水补足至100kg，搅拌均匀，加入磷酸调节pH至5，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
实施例6
将30kg市售固含量为50％酸性胶体二氧化硅加入70kg水中，再加入0.5kg的丙烯酸-丙烯酰胺共聚物、0.2kg增光剂、0.1kg防污剂和0.1kg的杀菌剂，搅拌均匀，加盐酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
实施例7
将30kg市售固含量为50％酸性胶体二氧化硅加入50kg水中，再加入0.5kg的丙烯酸-丙烯酰胺共聚物、1kg二乙醇胺，0.2kg增光剂、0.1kg防污剂和0.1kg的杀菌剂，搅拌均匀，加草酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
实施例8
将50kg市售固含量为30％酸性胶体二氧化硅加入70kg水中，再加入0.5kg的丙烯酸-丙烯酰胺共聚物、1kg二乙醇胺、0.2kg增光剂、0.1kg防污剂和0.1kg的杀菌剂，搅拌均匀，加草酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
实施例9
将60kg市售固含量为30％碱性胶体二氧化硅加入80kg水中，再加入0.5kg的异构十三醇聚氧乙烯醚、0.5kg二乙醇胺、0.2kg增光剂、0.1kg防污剂和0.1kg的杀菌剂，搅拌均匀，加硫酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
实施例10
将60kg市售固含量为30％碱性胶体二氧化硅加入70kg水中，再加入0.5kg的异构十三醇聚氧乙烯醚、0.5kg三乙醇胺、0.2kg增光剂、0.1kg防污剂和0.1kg的杀菌剂，搅拌均匀，加硫酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
实施例11
将60kg市售固含量为30％碱性胶体二氧化硅加入70kg水中，再加入0.5kg的三乙醇胺、0.2kg增光剂、0.1kg防污剂和0.1kg的杀菌剂，搅拌均匀，加硫酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
实施例12
将60kg市售固含量为30％碱性胶体二氧化硅加入50kg水中，再加入0.5kg的乙二醇乙醚、0.2kg增光剂、0.1kg防污剂和0.1kg的杀菌剂，搅拌均匀，加硫酸调节pH至2，得到酸性纳米陶瓷抛光液。
对比例1
与实施例1不同的是，对比例1的pH自然，即不调节pH值。
检测实施例
取100mL实施例1-9得到的酸性纳米陶瓷抛光液试样，置于PE瓶，封装置于25±2℃恒温环境下，于试验的第7、14天、28天、60天、90天、180天、360天进行稳定性其稳定性检测结果如表1所示，
表1稳定性试验结果
比对施例1与实施例2，以及比对实施例6与实施例7可知，使用聚醚与醇胺配合，比单独使用聚醚作阻垢分散剂，对体系的稳定性维持效果更佳。醇胺在酸性条件下以季铵盐的形式存在，从而协同性地提高聚醚对酸性纳米陶瓷抛光液体系稳定能力。其中，壬基酚聚氧乙烯醚与三乙醇胺复合使用效果较理想。由实施例2至实施例5与对比例1的比较可知，酸性纳米陶瓷抛光液体系的pH值对本酸性纳米陶瓷抛光液体系的稳定性有较大影响，其中，pH在2-4范围内，酸性纳米陶瓷抛光液相对稳定。由实施例2-4与实施例6-10的比较可知，相对于碱性胶体二氧化硅，以酸性胶体二氧化硅为原料配制的酸性纳米陶瓷抛光液的稳定性更高。由实施例11与实施例12的稳定性检测结果可知，单独使用醇胺或醚，稳定性效果不理想。
取100mL实施例1-12以及对比例1得到的酸性纳米陶瓷抛光液试样，地陶瓷表面进行抛光，计算抛光速率，其结果如表2所示。
表2抛光速率及抛光表面结构
由表2可知，酸性纳米陶瓷抛光液的pH值对抛光速率存在较大的影响。pH值在2-4时，抛光速率较快，用扫描电子显微镜观察陶瓷表面微观结构显示二氧化硅在陶瓷表面分布均匀，陶瓷表面结构平整。
上述实施方式仅为本发明的优选实施方式，不能以此来限定本发明保护的范围，本领域的技术人员在本发明的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本发明所要求保护的范围。
Claims (9)
1.一种酸性纳米陶瓷抛光液，包括按重量份计的以下组分：30-80份胶体二氧化硅、0.1-2份阻垢分散剂和20-70份水；
所述胶体二氧化硅固含量为30-50％，粒径范围为5-80nm；
所述阻垢分散剂为醇胺、醚、聚胺或聚醚中的一种或两种以上；
所述酸性纳米陶瓷抛光液的pH值为2-4。
2.如权利要求1所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述胶体二氧化硅为酸性胶体二氧化硅或碱性胶体二氧化硅。
3.如权利要求1所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述醚为乙二醇乙醚、乙二醇丁醚和二乙二醇二甲基醚中的一种或两种以上；所述醇胺为二乙醇胺和/或三乙醇胺；所述聚胺为丙烯酸-丙烯酰胺共聚物；所述聚醚为壬基酚聚氧乙烯醚、异构十三醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和聚氧乙烯醚中的一种或多种。
4.如权利要求1或3所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述聚醚或聚胺的分子量为100-8000。
5.如权利要求1所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述阻垢分散剂由聚醚与醇胺以1：0.1-10的比例混合。
6.如权利要求5所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述阻垢分散剂由壬基酚聚氧乙烯醚与三乙醇胺以1：0.1-10的比例混合。
7.如权利要求1所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述酸性纳米陶瓷抛光液还包括pH调节剂，所述pH调节剂为磷酸、盐酸、草酸和硫酸中的一种或两种以上。
8.如权利要求1所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述酸性纳米陶瓷抛光液还包括0.5-2份的添加剂。
9.如权利要求8所述的酸性纳米陶瓷抛光液，其特征在于，所述添加剂为增光剂、防污剂或杀茵剂等。
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|---|---|---|---|---|
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101451046A (zh) * | 2008-12-30 | 2009-06-10 | 清华大学 | 一种用于硅晶片抛光的抛光组合物 |
| CN103484026A (zh) * | 2013-09-30 | 2014-01-01 | 江苏中晶科技有限公司 | 高效陶瓷抛光液及其制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 528200, Shishan, Guangdong District, Nanhai District, Foshan Province Applicant after: Guangdong Nade New Materials Co., Ltd. Address before: 528000, Foshan City, Guangdong Province Nanhai District Shishan mu (soil name):Jin Zigang) Applicant before: FOSHAN NAMING PRECISION WORK TECHNOLOGY CO., LTD. |
|
| COR | Change of bibliographic data | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20160413 |