CN105319756A - 液晶显示器及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及液晶显示器及其制造方法,根据示例性实施方式的液晶显示器包括:基板;薄膜晶体管,设置在基板上;像素电极,连接至薄膜晶体管;以及滤色片,设置为面对像素电极,其中,多个微腔在像素电极与滤色片之间,微腔形成包括液晶材料的液晶层,微腔被分隔部划分,和分隔部通过滤色片中的一种颜色的滤色片形成。

Description

液晶显示器及其制造方法
技术领域
本申请涉及一种液晶显示器及其制造方法。
背景技术
作为广泛使用的平板显示器装置之一的液晶显示器包括其中形成诸如像素电极和共用电极的场生成电极的两个显示面板,并且液晶层介于两个面板之间。
液晶显示器通过施加电压至场生成电极在液晶层中产生电场以确定液晶层的液晶分子的方位并控制入射光的偏振,从而显示图像。
针对液晶显示器之一,已经开发了通过在像素中形成多个微腔并在微腔中填充液晶来实现显示器的技术。这个技术可以形成诸如顶层的结构以支撑微腔。为了形成顶层,可能需要几个层使得过程很复杂。
在背景部分披露的上述信息仅是为了加强对背景的理解,并且因此,其可包含不形成在该国中为本领域的普通技术人员所知的现有技术的信息。
发明内容
实施方式提供一种简化制造过程的液晶显示器及其制造方法。
根据示例性实施方式的液晶显示器包括基板、薄膜晶体管、像素、和滤色片。薄膜晶体管设置在基板上。像素电极连接至薄膜晶体管。滤色片设置为面对像素电极,其中,多个微腔被设置在像素电极和滤色片之间。微腔形成包括液晶材料的液晶层,并且微腔被分隔部划分。分隔部包括滤色片中的一种颜色的滤色片。
分隔部可以是一种颜色的滤色片填充彼此邻近的微腔之间的分离空间的部分。
分隔部可以沿着连接至薄膜晶体管的数据线的延伸方向设置。
可以进一步包括设置在微腔与滤色片之间的下绝缘层。
滤色片彼此可以具有岛状形状。
彼此邻近的滤色片彼此相遇的边界面可以被设置在分隔部上。
滤色片可以包括第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片,并且设置在第一滤色片、第二滤色片和第三滤色片中的彼此邻近的滤色片之间的三个分隔部可以包括第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片中的一个滤色片。
滤色片可以包括第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片,并且设置在第一滤色片、第二滤色片和第三滤色片中的彼此邻近的滤色片之间的三个分隔部可以分别包括第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片。
彼此邻近的滤色片的分离空间可以被设置在分隔部上,可以进一步包括覆盖分离空间的上绝缘层,并且上绝缘层可以包括无机层。
滤色片可以包括第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片,并且第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片可以分别是蓝色滤色片、红色滤色片、和绿色滤色片。
蓝色滤色片可以形成分隔部。
可以进一步包括设置在滤色片上的有机层。
滤色片可以包括第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片,并且第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片可以被设置为彼此分离,并且滤色片的分离空间用有机层填充。
分隔部可以是彼此邻近的微腔之间的分离空间用一种颜色的滤色片填充的部分。
第一滤色片可以形成分隔部,并且第一滤色片可以是蓝色滤色片。
可以进一步包括设置在微腔和滤色片之间的共用电极和下绝缘层,设置在滤色片上的上绝缘层,以及设置在上绝缘层上的封盖层。
根据示例性实施方式的液晶显示器的制造方法包括:在基板上形成薄膜晶体管;形成连接至薄膜晶体管的像素电极;在像素电极上形成具有开口部分的牺牲层;在牺牲层上形成第一滤色片;在牺牲层上形成第二滤色片;在牺牲层上形成第三滤色片;移除牺牲层以形成多个微腔;将液晶材料注入到微腔中;形成封盖层以覆盖微腔的液晶注入孔;并利用第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片中的一个滤色片填充开口部分。
填充开口部分的滤色片可以形成分隔部,并且分隔部可以限定微腔。
分隔部可以沿着连接至薄膜晶体管的数据线的延伸方向形成。
第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片可以由岛状形状形成。
可以进一步包括在牺牲层上形成下绝缘层。
在第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片中彼此邻近的滤色片相互相遇的边界面可以被设置在分隔部上。
在第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片中彼此邻近的滤色片的分离空间可以形成在分隔部上,该方法可以进一步包括形成覆盖分离空间的上绝缘层,并且上绝缘层可以包括无机层。
第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片可以分别形成蓝色滤色片、红色滤色片、和绿色滤色片,并且蓝色滤色片可以形成分隔部。
该方法可以进一步包括在第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片上形成有机层。
第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片可以形成为在分隔部上彼此分离。
第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片的分离空间可以利用有机层填充。
第一滤色片可以形成分隔部,并且第一滤色片可以是蓝色滤色片。
该方法可进一步包括:在第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片上形成上绝缘层;并且使上绝缘层图案化以形成液晶注入孔形成区域,并且液晶注入孔形成区域可以沿着连接至薄膜晶体管的栅极线的延伸方向形成。
根据示例性实施方式,通过在微腔上形成滤色片,可以替换顶层。因此,可以简化制造过程。
附图说明
图1是根据示例性实施方式的液晶显示器的俯视平面图。
图2是沿着图1的线II-II截取的液晶显示器的截面图。
图3是沿着图1的线III-III截取的液晶显示器的截面图。
图4是根据示例性实施方式的液晶显示器中的滤色片和分隔部的俯视平面图。
图5是沿着图4的线V-V截取的液晶显示器中的滤色片和分隔部的截面图。
图6是图5中描述的示例性实施方式的变型示例性实施方式的截面图。
图7是图5中描述的示例性实施方式的变型示例性实施方式的截面图。
图8是图5中描述的示例性实施方式的变型示例性实施方式的截面图。
图9是图3中描述的示例性实施方式的变型示例性实施方式的截面图。
图10是图4中描述的示例性实施方式的变型示例性实施方式的俯视平面图。
图11是图10中描述的示例性实施方式的变型示例性实施方式的俯视平面图。
图12、图13、图14、图15、图16、图17、图18、图19、图20、图21、图22、图23、图24、图25、图26、图27、图28、图29、和图30是示出根据示例性实施方式的液晶显示器的制造方法的俯视平面图和截面图。
具体实施方式
在下文中,将参考附图详细描述示例性实施方式。如本领域技术人员意识到的,所描述的实施方式在不完全背离本发明构思的精神或范围的情况下,可以以各种不同的方式被修改。相反地,本文中介绍的示例性实施方式被提供为以使所公开的内容充分且完整,并且足以将本发明构思的精神传递给本领域技术人员。
在附图中,为清晰起见,夸大了层、膜、面板、区域等的厚度。将理解的是,当层被称为在另一个层或基板“上”时,其可以直接在另一个层或基板上,或其间也可以存在插入的层或基板。贯穿说明书,相同的参考标号表示相同的部件。
图1是根据示例性实施方式的液晶显示器的俯视平面图。图2是沿着图1的线II-II截取的液晶显示器的截面图。图3是沿着图1的线III-III截取的液晶显示器的截面图。
图1示出作为多个像素的中心部分的2*2像素部分,这些像素可以重复地上/下和左/右排列在根据示例性实施方式的液晶显示器中。
参考图1至图3,栅极线121和存储电极线131形成在由透明玻璃或塑料制成的基板110上。栅极线121包括栅电极124。存储电极线131主要在水平方向上延伸,并且传输诸如共用电压Vcom的预定电压。存储电极线131包括基本上垂直于栅极线121延伸的一对竖直存储电极部135a和将一对竖直存储电极部135a的端部彼此连接的水平存储电极部135b。竖直存储电极部135a和水平存储电极部135b具有围绕像素电极191的结构。
栅极绝缘层140形成在栅极线121和存储电极线131上。设置在数据线171下面的半导体层151和设置在源/漏电极下面并对应于薄膜晶体管Q的沟道区的半导体层154均形成在栅极绝缘层140上。
多个欧姆触点可以形成在半导体层151和数据线171之间,以及在源/漏电极下面并对应于沟道区的半导体层154与源/漏电极之间,并且在附图中被省去。
包括源电极173、连接至源电极173的数据线171、以及漏电极175的数据导体171、173、和175形成在半导体层151和154以及栅极绝缘层140上。
栅电极124、源电极173、以及漏电极175连同半导体层154一起形成薄膜晶体管Q,并且薄膜晶体管Q的沟道形成在源电极173与漏电极175之间的半导体层154的暴露部分中。
第一夹层绝缘层180a形成在数据导体171、173、和175以及暴露的半导体层154上。第一夹层绝缘层180a可以包括诸如硅氮化物(SiNx)和硅氧化物(SiOx)的无机绝缘体。
第二夹层绝缘层180b和第三夹层绝缘层180c可以设置在第一夹层绝缘层180a上。第二夹层绝缘层180b可以由有机材料形成,并且第三夹层绝缘层180c可以包括诸如硅氮化物(SiNx)和硅氧化物(SiOx)的无机绝缘体。第二夹层绝缘层180b由有机材料形成从而减小或者移除台阶。与本示例性实施方式不同,第一夹层绝缘层180a、第二夹层绝缘层180b、和第三夹层绝缘层180c中的一个或两个可以省去。
可以形成通过第一夹层绝缘层180a、第二夹层绝缘层180b、和第三夹层绝缘层180c的接触孔185。被设置在第三夹层绝缘层180c上的像素电极191可以通过接触孔185电物理地连接至漏电极175。下文中,将详细地描述像素电极191。
像素电极191可以由诸如ITO或者IZO的透明导电材料制成。
像素电极191的总体形状是四边形,并且像素电极191包括通过水平主干191a和与水平主干191a交叉的竖直主干191b配置的交叉主干。此外,像素电极191被水平主干191a和竖直主干191b分成四个子区域,每个子区域包括多个微小分支191c。在本示例性实施方式中,像素电极191可以进一步包括在像素电极191的右外周和左外周连接微小分支191c的外主干191d。在本示例性实施方式中,外主干191d被设置在像素电极191的左外部和右外部,然而,其可以设置为延伸至像素电极191的上部分或下部分。
像素电极191的微小分支191c与栅极线121或者水平主干191a形成大约40°至45°的角度。此外,两个相邻子区域的微小分支191c可以彼此垂直。另外,每个微小分支191c的宽度可以逐渐增加,或者微小分支191c之间的距离可以改变。
像素电极191包括延伸部197,该延伸部连接在竖直主干191b的下端部,具有比竖直主干191b大的面积,并通过在延伸部197的接触孔185电物理连接至漏电极175,从而接收来自漏电极175的数据电压。
上述的薄膜晶体管Q和像素电极191仅作为示例描述,并且可以为了提高侧面可视性修改薄膜晶体管的结构和像素电极的设计。
覆盖薄膜晶体管Q形成的区域的遮光件220被设置在像素电极191上。根据本示例性实施方式的遮光件220可以沿着栅极线121延伸的方向形成。遮光件220可以由遮光的材料形成。
绝缘层181可以形成在遮光件220上,并且覆盖遮光件220的绝缘层181可以在像素电极191上延伸。
下取向层11形成在像素电极191上,并且可以是垂直取向层。作为由诸如聚酰胺酸、聚硅氧烷、聚酰亚胺等的材料制成的液晶取向层的下取向层11可以包括通常使用的材料的至少一种。并且,下取向层11可以是光取向层。
上取向层21被设置在面向下取向层11的部分处,并且微腔305形成在下取向层11与上取向层21之间。包括液晶分子310的液晶材料被注入到微腔305中,并且微腔305具有液晶注入孔307。微腔305可以沿着像素电极191的列方向,即,在竖直方向上形成。在本示例性实施方式中,形成取向层11和21的取向材料和包括液晶分子310的液晶材料可以通过使用毛细管力注入到微腔305中。
微腔305在竖直方向上被设置在与栅极线121重叠的部分处的多个液晶注入孔形成区域307FP划分,从而限定多个微腔305,并且多个微腔305可以沿着像素电极191的列方向,即,在竖直方向上形成。并且,微腔305在水平方向上被随后将描述的分隔部PWP划分,从而限定多个微腔305,并且多个微腔305可以沿着像素电极191的行方向(换言之,栅极线121延伸的水平方向)形成。多个形成的微腔305可以分别与像素区域对应,并且像素区域可以与显示图像的区域对应。
共用电极270和下绝缘层350被设置在上取向层21上。共用电极270接收共用电压,并与施加有数据电压的像素电极191一起产生电场,以确定设置在两个电极270、191之间的微腔305处的液晶分子310倾斜的方向。共用电极270与像素电极191一起形成电容器以甚至在薄膜晶体管Q截止之后保持所接收的电压。下绝缘层350可以由硅氮化物(SiNx)或者硅氧化物(SiOx)形成。
在本示例性实施方式中,描述了共用电极270形成在微腔305上,但在另一个示例性实施方式中,共用电极270形成在微腔305的下方,使得根据共面电极(CE)模式的液晶驱动是可行的。
在本示例性实施方式中,滤色片230被设置在下绝缘层350上。如图3所示,在彼此邻近的滤色片230中,一种颜色的滤色片230形成分隔部PWP。分隔部PWP被设置在水平方向上邻近的微腔305之间。分隔部PWP是填充在水平方向上邻近的微腔305的分离空间的部分。如图3所示,分隔部PWP完全填充微腔305的分离空间,然而其不限于此,其可以部分地填充分离空间。分隔部PWP可以沿着数据线171的延伸方向形成。
在分隔部PWP上彼此邻近的滤色片230可以重叠。邻近的滤色片230彼此相遇的边界面可以被设置在对应于分隔部PWP的部分处。
在本示例性实施方式中,滤色片230和分隔部PWP起支撑微腔305以保持其形状的顶层的作用。
此后,将参考图4和图5描述根据示例性实施方式的滤色片230。
图4是根据示例性实施方式的液晶显示器中的滤色片和分隔部的俯视平面图。图5是沿着图4的线V-V截取的液晶显示器中的滤色片和分隔部的截面图。图4和图5是示意性地解释根据示例性实施方式的液晶显示器中的滤色片和分隔部的示图,基板110与微腔305之间的组成元件可以如在图1至图3中的描述应用。
参考图4和图5,根据本示例性实施方式的滤色片230包括第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片。第一滤色片可以包括蓝色滤色片B,第二滤色片可以包括红色滤色片R,并且第三滤色片可以包括绿色滤色片G。
根据本示例性实施方式,分隔部PWP通过第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片中的任一个形成。在一个示例性实施方式中,对应于蓝色滤色片B的第一滤色片形成分隔部PWP。蓝色滤色片B可以包括从对应于像素区PX的部分延伸的分隔部PWP和设置在红色滤色片R和绿色滤色片G之间的分隔部PWP。在这种情况下,覆盖在分隔部PWP中彼此相对的边缘的红色滤色片R和绿色滤色片G同时彼此邻近,并且可以在分隔部PWP上重叠。
代替蓝色滤色片B,可以形成由红色滤色片R或绿色滤色片G制成的分隔部PWP。然而,与红色滤色片R或者绿色滤色片G相比,蓝色滤色片B具有较大的阻断效果使得如果分隔部PWP由蓝色滤色片B形成,存在减小光的反射的优点。而且,蓝色滤色片B具有滤色片的光阻材料的良好流动性以及遮光效果,从而获得良好的锥角。因此,与形成分隔部PWP的滤色片的端部形状是竖直的情形相比较,滤色片的端部倾斜大于约45度的角度,所以在覆盖分隔部PWP的侧壁时涂敷在分隔部PWP上的滤色片可以良好地形成。
如图4所示,滤色片230可以由岛状形状形成以与像素区PX对应。
再次参考图2和图3,上绝缘层370被设置在滤色片230上。上绝缘层370可以由硅氮化物(SiNx)或者硅氧化物(SiOx)形成。如图2所示,滤色片230的侧面表面可以被覆盖。
封盖层390被设置在上绝缘层370上。封盖层390也被设置在液晶注入孔形成区域307FP处和通过液晶注入孔形成区域307FP暴露的微腔305的液晶注入孔307处。封盖层390包括有机材料或者无机材料。在本示例性实施方式中,液晶材料在液晶注入孔形成区域307FP中被移去。但是,在修改的示例性实施方式中,液晶材料在注入微腔305之后可以保持在液晶注入孔形成区域307FP。
在本示例性实施方式中,如图3所示,通过一种颜色的滤色片230形成的分隔部PWP形成在水平方向上相邻的微腔305之间。分隔部PWP可以通过形成分隔壁划分或者限定微腔305。在本示例性实施方式中,由于在微腔305之间存在有时称为分隔壁形成部分PWP的诸如分隔部PWP的分隔壁结构,所以即使绝缘基板110弯曲,产生的压力也较小,并且单元间隙的变化程度可以显著减小。
图6是根据图5的示例性实施方式的液晶显示器的变型的截面图。
参考图6,根据本示例性实施方式的液晶显示器与图5的示例性实施方式的大部分相同,然而,接近每个分隔部PWP的滤色片230延伸从而形成分隔部PWP。如图6所示,两个滤色片230接近一个分隔部PWP,并且每个滤色片B、R、和G在相同方向上延伸从而形成分隔部PWP。更具体地,设置在蓝色滤色片B与红色滤色片R之间的分隔部PWP可以通过延伸蓝色滤色片B形成,设置在红色滤色片R与绿色滤色片G之间的分隔部PWP可以通过延伸红色滤色片R形成,并且设置在绿色滤色片G与蓝色滤色片B之间的分隔部PWP可以通过延伸绿色滤色片G形成。彼此邻近的滤色片230在分隔部PWP以外的位置处具有边界。然而,滤色片230具有在分隔部PWP上重叠的部分。滤色片230可以在从分隔部PWP偏离的部分处具有边界。
然而,不限于这个示例性实施方式,设置在蓝色滤色片B与红色滤色片R之间的分隔部PWP可以通过延伸红色滤色片R形成,或者设置在红色滤色片R与绿色滤色片G之间的分隔部PWP可以通过延伸绿色滤色片G形成。
图5的除了上述差异的描述可以应用于本示例性实施方式。
图7是图5中描述的示例性实施方式的变型示例性实施方式的截面图。
参考图7,本示例性实施方式与图5中描述的示例性实施方式的大部分相同,然而,彼此邻近的滤色片230在分隔部PWP上分离。该分离空间被设置在滤色片230上的上绝缘层370和封盖层390覆盖。
图5的除了上述差异的描述可以应用于本示例性实施方式。
图8是图5中描述的示例性实施方式的变型示例性实施方式的截面图。
参考图8,本示例性实施方式与图5中描述的示例性实施方式的大部分相同,然而彼此邻近的滤色片230在分隔部PWP上分离。这个分离空间可以利用设置在滤色片230上的有机层360填充。有机层360可以是平坦化层,并且减小相邻滤色片230之间的台阶使得可以防止形成在有机层360上的上绝缘层370的封盖劣化。
图5的除了上述差异的描述可以应用于本示例性实施方式。
图9是图3中描述的示例性实施方式的变型示例性实施方式的截面图。
参考图9,本示例性实施方式与图3中描述的示例性实施方式的大部分相同,然而,遮光件220沿着数据线171的延伸方向形成。遮光件220被设置在第三夹层绝缘层180c或像素电极191上。本文描述的遮光件220可以与在栅极线121的方向上延伸的遮光件220一起形成为格子形状。
图10是图4中描述的示例性实施方式的变型示例性实施方式的俯视平面图。
图10中描述的示例性实施方式与图4中描述的示例性实施方式大部分相同。然而,在图4中描述的示例性实施方式中,彼此竖直相邻的滤色片形成为岛状形状以在像素区PX中设置和划分。相比之下,在图10的示例性实施方式中,彼此竖直相邻的滤色片可以包括连接。例如,蓝色滤色片B没有被竖直划分,但可以通过第一连接B-1在竖直方向上连接。红色滤色片R和绿色滤色片G可以分别通过第二连接R-1和第三连接G-1在竖直方向上连接。
如果第一连接B-1、第二连接R-1、和第三连接G-1的大小增加,则可以减小液晶注入孔形成区域307FP的面积。因此,连接B-1、R-1、和G-1的大小和位置可以被调节为使得取向材料和液晶材料通过液晶注入孔307自由地被注入到微腔305中。
图11是图10中描述的示例性实施方式的变型示例性实施方式的俯视平面图。
图11中描述的示例性实施方式与图10中描述的示例性实施方式大部分相同。然而,在图10中描述的示例性实施方式中,竖直相邻的滤色片的连接被设置在相对于像素区PX的短边缘的中心处。相比之下,在图11的示例性实施方式中,竖直相邻的滤色片的连接可以被设置在相对于像素区PX的右边缘和左边缘。
现在,将参考图12至图30描述根据示例性实施方式的液晶显示器的制造方法。以下示例性实施方式是制造方法的示例性实施方式并且可以改变。
图12至图30是示出根据示例性实施方式的液晶显示器的制造方法的俯视平面图和截面图。图12、图14、图16、图24、图26、图27、和图29连续示出了沿着图1的线II-II截取的截面图。图13、图15、图17、图25、图28、和图30连续示出了沿着图1的线III-III截取的截面图。图18、图20、和图22是根据示例性实施方式的液晶显示器的制造方法中的滤色片和分隔部的俯视平面图。图19、图21、和图23分别是沿着图18的线XVI-XVI、图20的线XVIII-XVIII、和图22的线XX-XX截取的截面图。
参考图1、图12和图13,为了在基板110上形成通常已知的开关元件,形成沿着水平方向延伸的栅极线121和在栅极线121上的栅极绝缘层140,在栅极绝缘层140上形成半导体层151和154,以及形成源电极173和漏电极175。此时,连接至源电极173的数据线171可以形成为在与栅极线121交叉的同时在竖直方向上延伸。
在包括源电极173、漏电极175、和数据线171的数据导体171、173、和175以及半导体层154的暴露部分上形成第一夹层绝缘层180a。
在第一夹层绝缘层180a上形成第二夹层绝缘层180b和第三夹层绝缘层180c并形成通过它们的接触孔185。随后,在第三夹层绝缘层180c上形成像素电极191,并且像素电极191可以通过接触孔185电物理连接至漏电极175。
在像素电极191或者第三夹层绝缘层180c上形成遮光件220。可以根据栅极线121的延伸方向形成遮光件220。遮光件220可以由遮光的材料形成。在遮光件220上形成绝缘层181,并且绝缘层181可以在覆盖遮光件220的同时在像素电极191上延伸。
随后,在像素电极191上形成牺牲层300。在这种情况下,开口部分OPN沿着平行于数据线171的方向在牺牲层300中形成。在开口部分OPN中,滤色片230可以在后面的处理中被填充从而形成分隔部PWP。牺牲层300可以由光阻材料或者有机材料形成。
参考图1、图14、和图15,共用电极270和下绝缘层350顺次地形成在牺牲层300上。如图15所示,共用电极270和下绝缘层350可以覆盖开口部分OPN。
参考图1、图16、和图17,滤色片230形成在下绝缘层350上。通过图案化处理或者曝光/显影处理可以在对应于设置在竖直方向上相邻的像素区之间的遮光件220的区域中移去滤色片230。如图16所示,滤色片230将下绝缘层350暴露在对应于遮光件220的区域的外部。此时,如图17中所示,滤色片230在填充牺牲层300的开口部分OPN的同时形成分隔部PWP。在本示例性实施方式中,填充开口部分OPN的滤色片230是一种颜色的滤色片230。邻近形成分隔部PWP的滤色片230的滤色片230可以在分隔部PWP上彼此重叠。然而,作为示例性实施方式的变型,邻近的滤色片230可以形成为在分隔部PWP上分离。
此后,将参考图18至图23描述根据示例性实施方式的滤色片230的制造过程。
参考图18和图19,在牺牲层300上形成蓝色滤色片B。在这种情况下,蓝色滤色片B形成为填充在水平方向上分离的牺牲层300之间的分离空间。蓝色滤色片B形成在对应于像素区PX的部分处,并且对应于像素区PX形成的蓝色滤色片B延伸从而形成分隔部PWP。而且,分隔部PWP仅形成为在没有形成蓝色滤色片B的两个像素区PX之间分离。优选的是,通过使用一个掩模形成与通过使蓝色滤色片B延伸形成的分隔部PWP分离的分隔部PWP。然而,为了形成图6中描述的结构,蓝色滤色片B可以形成为对应于像素区PX形成的部分和从中延伸的分隔部PWP,并且分隔部可不形成在形成蓝色滤色片B的两个像素区PX之间的分离空间中。通过滤色片230填充的牺牲层300之间的分离空间可以在以下形成红色滤色片R或者绿色滤色片G的处理中利用分隔部填充。
参考图20和图21,在牺牲层300上形成红色滤色片R。红色滤色片R形成为与分隔部PWP重叠,并且可以在蓝色滤色片B和分隔部PWP上重叠。
参考图22和图23,在牺牲层300上形成绿色滤色片G。绿色滤色片G形成为与分隔部PWP重叠,并且可以在分隔部PWP上分别与蓝色滤色片B和红色滤色片R重叠。
上述红色滤色片R和绿色滤色片G的形成位置和顺序可以改变。而且,与图23中示出的不同,蓝色滤色片B、红色滤色片R、和绿色滤色片G的厚度可以不同。区分蓝色滤色片B、红色滤色片R、和绿色滤色片G的厚度的原因是为了调节每个滤色片中的颜色坐标。而且,蓝色滤色片B、红色滤色片R、和绿色滤色片G的高度可以不同。为了区分每个滤色片的高度,对应于每个滤色片R、G、和B的牺牲层300的厚度可以改变。接下来,如果牺牲层300被移除,可以形成具有不同高度的微腔305,并且设置在其上的每个滤色片的高度可以不同。
随后,参考图1、图24、和图25,形成覆盖滤色片230和暴露的下绝缘层350的上绝缘层370。
参考图26,蚀刻上绝缘层370、下绝缘层350、和共用电极270以部分地移去上绝缘层370、下绝缘层350、和共用电极270,以形成液晶注入孔形成区域307FP。在这种情况下,上绝缘层370具有覆盖滤色片230的侧表面的结构,然而,这不限于此,可以移除覆盖滤色片230的侧表面的上绝缘层370以将滤色片230的侧表面暴露外部。
参考图27和图28,利用氧气(O2)粉尘处理或者湿刻蚀方法通过液晶注入孔形成区域307FP移去牺牲层300。此时,形成具有液晶注入孔307的微腔305。微腔305是在牺牲层300移除时形成的空的空间。
参考图29和图30,通过液晶注入孔307注入取向材料以在像素电极191和共用电极270上形成取向层11和21。详细地,在通过液晶注入孔307注入包括固体物和溶剂的取向材料之后进行烘烤处理。
随后,使用喷墨方法等将包括液晶分子310的液晶材料经由液晶注入孔307注入到微腔305中。
此后,在绝缘层350上形成封盖层390以覆盖液晶注入孔307和液晶注入孔形成区域307FP以形成图2中示出的液晶显示器。
尽管已经结合目前视为实用的示例性实施方式描述了本发明构思,应当理解的是,本发明构思不限于所公开的实施方式,而是相反,本发明旨在涵盖包含在所附权利要求的精神和范围内的各种修改和等同布置。
<附图标记说明>
230滤色片300牺牲层305微腔
307液晶注入孔350下绝缘层370上绝缘层
390封盖层

Claims (17)

1.一种液晶显示器,包括:
基板;
薄膜晶体管,被设置在所述基板上;
像素电极,连接至所述薄膜晶体管;以及
滤色片,被设置为面对所述像素电极,
其中,多个微腔被设置在所述像素电极与所述滤色片之间,所述微腔形成包括液晶材料的液晶层,
所述微腔被分隔部划分,以及
所述分隔部包括所述滤色片中的一种颜色的滤色片。
2.根据权利要求1所述的液晶显示器,其中,
所述分隔部是所述一种颜色的滤色片填充彼此邻近的所述微腔之间的分离空间的部分。
3.根据权利要求2所述的液晶显示器,其中,
所述分隔部沿着被连接至所述薄膜晶体管的数据线的延伸方向设置。
4.根据权利要求3所述的液晶显示器,进一步包括
下绝缘层,被设置在所述微腔与所述滤色片之间。
5.根据权利要求4所述的液晶显示器,其中,
所述滤色片彼此具有岛状形状。
6.根据权利要求5所述的液晶显示器,其中,
彼此邻近的所述滤色片彼此汇合的边界面被设置在所述分隔部上。
7.根据权利要求5所述的液晶显示器,其中,
所述滤色片包括第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片,并且设置在所述第一滤色片、所述第二滤色片和所述第三滤色片中的彼此邻近的所述滤色片之间的三个分隔部包括所述第一滤色片、所述第二滤色片和所述第三滤色片中的一个滤色片。
8.根据权利要求5所述的液晶显示器,其中,
所述滤色片包括第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片,并且设置在所述第一滤色片、所述第二滤色片和所述第三滤色片中的彼此邻近的所述滤色片之间的三个分隔部分别包括所述第一滤色片、所述第二滤色片、和所述第三滤色片。
9.根据权利要求5所述的液晶显示器,其中,
彼此邻近的所述滤色片的分离空间被设置在所述分隔部上,并且还包括覆盖所述分离空间的上绝缘层,以及
所述上绝缘层包括无机层。
10.根据权利要求5所述的液晶显示器,其中,
所述滤色片包括第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片,并且所述第一滤色片、所述第二滤色片、和所述第三滤色片分别是蓝色滤色片、红色滤色片、和绿色滤色片。
11.根据权利要求10所述的液晶显示器,其中,
所述蓝色滤色片形成所述分隔部。
12.根据权利要求1所述的液晶显示器,进一步包括
有机层,被设置在所述滤色片上。
13.根据权利要求12所述的液晶显示器,其中,
所述滤色片包括第一滤色片、第二滤色片、和第三滤色片,并且所述第一滤色片、所述第二滤色片、和所述第三滤色片被设置为彼此分离,所述滤色片的分离空间用所述有机层填充。
14.根据权利要求13所述的液晶显示器,其中,
所述分隔部是彼此邻近的所述微腔之间的所述分离空间填充有所述一种颜色的滤色片的部分。
15.根据权利要求14所述的液晶显示器,其中,
所述第一滤色片形成所述分隔部,并且所述第一滤色片是所述蓝色滤色片。
16.根据权利要求15所述的液晶显示器,其中,
所述滤色片彼此具有岛状形状。
17.根据权利要求1所述的液晶显示器,进一步包括:
共用电极和下绝缘层,被设置在所述微腔与所述滤色片之间;
上绝缘层,被设置在所述滤色片上;以及
封盖层,被设置在所述上绝缘层上。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105931986A (zh) * 2016-05-18 2016-09-07 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板的制造方法、阵列基板和显示装置
CN111427210A (zh) * 2020-04-10 2020-07-17 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6299783B2 (ja) * 2016-02-15 2018-03-28 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置、および電子機器
KR102347665B1 (ko) * 2017-03-21 2022-01-07 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
CN109239963B (zh) * 2018-09-12 2021-04-02 重庆惠科金渝光电科技有限公司 一种显示面板及其制程方法和显示装置
TWI706194B (zh) * 2019-09-06 2020-10-01 友達光電股份有限公司 液晶面板及其製作方法

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07318950A (ja) * 1994-05-27 1995-12-08 Sony Corp 電気光学表示セルのスペーサ形成方法
US5757451A (en) * 1995-09-08 1998-05-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Liquid crystal display device spacers formed from stacked color layers
KR20040009903A (ko) * 2002-07-26 2004-01-31 삼성전자주식회사 컬러 필터 기판 및 이의 제조방법
KR20060017998A (ko) * 2004-08-23 2006-02-28 삼성전자주식회사 어레이 기판, 이의 제조방법 및 이를 갖는 표시장치
US20060146267A1 (en) * 2004-12-30 2006-07-06 Lg Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device and fabrication method thereof
KR20070069409A (ko) * 2005-12-28 2007-07-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치 및 그의 제조방법
CN101201499A (zh) * 2006-12-12 2008-06-18 三星电子株式会社 液晶显示装置
US20120062448A1 (en) * 2010-09-10 2012-03-15 Kim Yeun Tae Display apparatus and manufacturing method thereof
CN102549487A (zh) * 2009-09-30 2012-07-04 夏普株式会社 液晶显示面板
KR20130034277A (ko) * 2011-09-28 2013-04-05 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
US20130250220A1 (en) * 2012-03-23 2013-09-26 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and manufacturing method thereof
US20140055726A1 (en) * 2012-08-21 2014-02-27 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and manufacturing method thereof
CN103809332A (zh) * 2012-11-06 2014-05-21 三星显示有限公司 液晶显示器及其制造方法
CN103838040A (zh) * 2012-11-21 2014-06-04 三星显示有限公司 液晶显示器及其制造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101108360B1 (ko) 2004-12-30 2012-01-25 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20140112288A (ko) 2013-03-13 2014-09-23 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20140137958A (ko) 2013-05-24 2014-12-03 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07318950A (ja) * 1994-05-27 1995-12-08 Sony Corp 電気光学表示セルのスペーサ形成方法
US5757451A (en) * 1995-09-08 1998-05-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Liquid crystal display device spacers formed from stacked color layers
KR20040009903A (ko) * 2002-07-26 2004-01-31 삼성전자주식회사 컬러 필터 기판 및 이의 제조방법
KR20060017998A (ko) * 2004-08-23 2006-02-28 삼성전자주식회사 어레이 기판, 이의 제조방법 및 이를 갖는 표시장치
US20140094080A1 (en) * 2004-12-30 2014-04-03 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and fabrication method thereof
US20060146267A1 (en) * 2004-12-30 2006-07-06 Lg Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device and fabrication method thereof
KR20070069409A (ko) * 2005-12-28 2007-07-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치 및 그의 제조방법
CN101201499A (zh) * 2006-12-12 2008-06-18 三星电子株式会社 液晶显示装置
CN102549487A (zh) * 2009-09-30 2012-07-04 夏普株式会社 液晶显示面板
US20120062448A1 (en) * 2010-09-10 2012-03-15 Kim Yeun Tae Display apparatus and manufacturing method thereof
KR20130034277A (ko) * 2011-09-28 2013-04-05 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
US20130250220A1 (en) * 2012-03-23 2013-09-26 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and manufacturing method thereof
US20140055726A1 (en) * 2012-08-21 2014-02-27 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and manufacturing method thereof
CN103809332A (zh) * 2012-11-06 2014-05-21 三星显示有限公司 液晶显示器及其制造方法
CN103838040A (zh) * 2012-11-21 2014-06-04 三星显示有限公司 液晶显示器及其制造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105931986A (zh) * 2016-05-18 2016-09-07 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板的制造方法、阵列基板和显示装置
CN111427210A (zh) * 2020-04-10 2020-07-17 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板

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Publication number Publication date
KR20150140460A (ko) 2015-12-16
US9851598B2 (en) 2017-12-26
US20150355500A1 (en) 2015-12-10

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