CN105252425A - 一种金属制品磨具 - Google Patents

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Inventor
汪春洪
蒋建龙
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Suzhou Ruimeike Materials Technology Co Ltd
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Suzhou Ruimeike Materials Technology Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种金属制品磨具,包括以下材料成分:碳化硅、氧化硅、氧化锆和硅酸盐填料,所述碳化硅、氧化硅、氧化锆和硅酸盐填料在原料中所占的重量份分别为碳化硅占20%-30%、氧化硅占10%-20%、氧化锆占5%-10%、硅酸盐填料占18%-28%。通过本发明的方法制作的金属制品具有一定的抗菌能力,使金属制品可以用来盛装食物等对卫生要求很高的物品。

Description

一种金属制品磨具
技术领域
本发明涉及一种金属制品磨具。
背景技术
金属制品的研磨要用到磨料磨具,如铝制品、不锈钢制品等有一点粘性的金属材料在研磨时普通的磨具很难满足表面抛光的加工需要,产品的表面抛光效果和光亮度很难达到要求。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种金属制品磨具,该磨具在研磨抛光铝制品、不锈钢制品等有一点粘性的金属材料时,抛光效果好,产品表面光亮度高。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种金属制品磨具,其包括以下材料成分:碳化硅、氧化硅、氧化锆和硅酸盐填料,所述碳化硅、氧化硅、氧化锆和硅酸盐填料在原料中所占的重量份分别为碳化硅占20%-30%、氧化硅占10%-20%、氧化锆占5%-10%、硅酸盐填料占18%-28%。
在本发明一个较佳实施例中,还包括粘合剂,所述粘合剂在原料中所占的重量份为2%-5%。
在本发明一个较佳实施例中,所述粘合剂为合成树脂。
在本发明一个较佳实施例中,所述碳化硅在原料中所占的重量份为25%。
在本发明一个较佳实施例中,所述氧化硅在原料中所占的重量份为15%。
在本发明一个较佳实施例中,所述氧化锆在原料中所占的重量份为6%。
本发明的有益效果是:本发明的磨具含有耐高温材料成分,在研磨抛光铝制品、不锈钢制品等有一点粘性的金属材料时,抛光效果好,产品表面光亮度高。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例包括:
一种金属制品磨具,包括以下材料成分:碳化硅、氧化硅、氧化锆和硅酸盐填料,所述碳化硅、氧化硅、氧化锆和硅酸盐填料在原料中所占的重量份分别为碳化硅占20%-30%、氧化硅占10%-20%、氧化锆占5%-10%、硅酸盐填料占18%-28%。
优选地,还包括粘合剂,所述粘合剂在原料中所占的重量份为2%-5%。
优选地,所述粘合剂为合成树脂。
优选地,所述碳化硅在原料中所占的重量份为25%。
优选地,所述氧化硅在原料中所占的重量份为15%。
优选地,所述氧化锆在原料中所占的重量份为6%。氧化锆耐高温,使磨具在高转速研磨时能正常工作,高转速有利于克服金属材料的粘性。
本发明金属制品磨具的有益效果是:
本发明的磨具含有耐高温材料成分,在研磨抛光铝制品、不锈钢制品等有一点粘性的金属材料时,通过高转速研磨使抛光效果好,产品表面光亮度高。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (6)

1.一种金属制品磨具,其特征在于,包括以下材料成分:碳化硅、氧化硅、氧化锆和硅酸盐填料,所述碳化硅、氧化硅、氧化锆和硅酸盐填料在原料中所占的重量份分别为碳化硅占20%-30%、氧化硅占10%-20%、氧化锆占5%-10%、硅酸盐填料占18%-28%。
2.根据权利要求1所述的金属制品磨具,其特征在于,还包括粘合剂,所述粘合剂在原料中所占的重量份为2%-5%。
3.根据权利要求2所述的金属制品磨具,其特征在于,所述粘合剂为合成树脂。
4.根据权利要求1所述的金属制品磨具,其特征在于,所述碳化硅在原料中所占的重量份为25%。
5.根据权利要求1所述的金属制品磨具,其特征在于,所述氧化硅在原料中所占的重量份为15%。
6.根据权利要求1所述的金属制品磨具,其特征在于,所述氧化锆在原料中所占的重量份为6%。
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Date Code Title Description
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20160120

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