CN105241581A - 一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法和系统 - Google Patents

Abstract

本发明适用于轧钢领域，提供了一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法和系统，所述方法中，控制终端控制表面热电偶使之接触板带，以便获取板带的实际温度T；控制终端通过辐射高温计，获取测量温度Ts，根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值；使用所述光谱发射率的修正值调整辐射高温计的光谱发射率；周期性的进行所述实际温度和测量温度采集，以及辐射高温计的光谱发射率的调整，至到当前计算的温度差在预设阈值内，则记录对应光谱发射率。本发明实施例根据不同的工况环境，执行规定的判断和处理流程，并结合最小二乘法对捕获的数据进行拟合计算，进而得到准确且与工况匹配的光谱发射率。

Description

一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法和系统

技术领域

本发明属于轧钢领域，尤其涉及一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法和系统。

背景技术

连续退火炉是钢铁行业中常见的热处理工艺。由于不同钢种、牌号的板带在经过各处理段时，要求达到不同的板带温度，而退火炉生产线速度快，对板带的性能影响高，所以在线连续准确测量和控制板带温度是保证板带性能指标的重要条件。

目前国内生产线常采用辐射高温计进行炉内板带温度的在线测量。但由于物体发射率易受自身特性及环境影响，此类测温仪所测得的温度值与实际值之间一般存在较大偏差，因此需要经常调校。然而目前国内机组对此类测温仪的调校自动化程度较低，且调校误差大，直接影响了生产线的板温控制水平，进而影响了产品质量和生产经济效益。

发明内容

本发明实施例的目的在于提供一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法，以解决现有技术测温仪的调校自动化程度较低，且调校误差大的问题。

本发明实施例是这样实现的，一方面给本发明实施例提供了一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法，其中，控制终端跟踪板带上卷带尾和下卷带头的焊缝位置，并在确认到达所述焊缝位置时，启动测温准确度的调校过程，所述调校过程具体包括：

控制终端控制表面热电偶使之接触板带6，以便获取板带6的实际温度T；

控制终端通过辐射高温计，获取测量温度Ts，根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值；

使用所述光谱发射率的修正值调整辐射高温计的光谱发射率；

周期性的进行所述实际温度和测量温度采集，以及辐射高温计的光谱发射率的调整，至到当前计算的温度差在预设阈值内，则记录对应光谱发射率。

优选的，在记录对应光谱发射率后，结束本轮的测温准确度的调校，控制终端控制表面热电偶使之脱离板带6，进入辐射高温计稳定工作过程，则所述方法还包括：

在所述辐射高温计稳定工作过程中，控制终端实时的获取工况环境，所述工况环境包括板带规格、板带速度和环境温度中的一项或者多项；

并在所述工况环境中任一一项发生变化时，重新启动所述测温准确的调校过程。

优选的，所述根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值，具体包括：

若温度差ΔT>0，光谱发射率ε的修正向自减少方向调整，其中ε的自减值0.02；若ΔT≤0，光谱发射率ε的修正向自增加方向进行，即将ε自加0.02。

优选的，所述周期性的进行所述实际温度和测量温度采集，以及辐射高温计的光谱发射率的调整，具体包括

控制终端根据最小二乘法将之前计算得到的光谱发射率ε和温度差ΔT的数组拟合成线性函数，根据线性函数计算温度差ΔT＝0时的更加精确的光谱发射率ε₁，并以所述ε₁作为当前调整的光谱发射率值。

优选的，所述预设阈值具体为：

表面热电偶测量的真实温度T的0.5％。

优选的，所述记录对应光谱发射率，还包括：

同时记录完成所述测温准确度的调校过程时，对应板带规格、板带速度和环境温度中的一项或者多项。

另一方面，本发明实施例还提供了一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法系统，所述调校系统包括控制终端、表面热电偶和辐射高温计，具体的：

控制终端跟踪板带上卷带尾和下卷带头的焊缝位置，并在确认到达所述焊缝位置时，启动测温准确度的调校过程，所述调校过程具体包括：

控制终端控制表面热电偶使之接触板带6，以便获取板带6的实际温度T；

控制终端通过辐射高温计，获取测量温度Ts，根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值；

使用所述光谱发射率的修正值调整辐射高温计的光谱发射率；

周期性的进行所述实际温度和测量温度采集，以及辐射高温计的光谱发射率的调整，至到当前计算的温度差在预设阈值内，则记录对应光谱发射率。

优选的，在记录对应光谱发射率后，结束本轮的测温准确度的调校，控制终端控制表面热电偶使之脱离板带6，进入辐射高温计稳定工作过程，则所述方法还包括：

在所述辐射高温计稳定工作过程中，控制终端实时的获取工况环境，所述工况环境包括板带规格、板带速度和环境温度中的一项或者多项；

并在所述工况环境中任一一项发生变化时，重新启动所述测温准确的调校过程。

优选的，所述根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值，具体包括：

若温度差ΔT>0，光谱发射率ε的修正向自减少方向调整，其中ε的自减值0.02；若ΔT≤0，光谱发射率ε的修正向自增加方向进行，即将ε自加0.02。

优选的，所述控制终端具体为PLC控制系统中的操控平台。

本发明实施例提供的一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法的有益效果包括：本发明实施例根据不同的工况环境，执行规定的判断和处理流程，并结合最小二乘法对捕获的数据进行拟合计算，进而得到准确且与工况匹配的光谱发射率。这种方法能够在不损害板带表面质量的基础上，获取不同工况下更加准确的光谱发射率，进而大大提高辐射高温计测温的准确性，促进了板温测量和控制在退火炉的推广应用。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校系统的架构示意图；

图2是本发明实施例提供的一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法的流程示意图；

图3是本发明实施例提供的一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法的流程示意图；

图4是本发明实施例提供的一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法的流程示意图；

图1中：1、PLC控制系统；2、辐射高温计；3、表面热电偶；4、电动执行器；5、退火炉炉体；6、板带；7、表面热电偶入炉通道；8、屏蔽保护罩。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

为了说明本发明所述的技术方案，下面通过具体实施例来进行说明。

实施例一

如图1所示，本发明实施例提供了一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法系统，所述调校系统包括控制终端(在图1中呈现的是PLC控制系统1中的个人电脑，具体的还可以是平板或者其他控制设备)、辐射高温计2和表面热电偶3，具体的：

控制终端跟踪板带上卷带尾和下卷带头的焊缝位置，并在确认到达所述焊缝位置时，启动测温准确度的调校过程，所述调校过程具体包括：

控制终端控制表面热电偶3使之接触板带6，以便获取板带6的实际温度T；

控制终端通过辐射高温计2，获取测量温度Ts，根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值；

使用所述光谱发射率的修正值调整辐射高温计2的光谱发射率；

周期性的进行所述实际温度和测量温度采集，以及辐射高温计2的光谱发射率的调整，至到当前计算的温度差在预设阈值内，则记录对应光谱发射率。

本实施例能够根据不同的工况环境，执行规定的判断和处理流程，并结合最小二乘法对捕获的数据进行拟合计算，进而得到准确且与工况匹配的光谱发射率。这种方法能够在不损害板带表面质量的基础上，获取不同工况下更加准确的光谱发射率，进而大大提高辐射高温计2测温的准确性，促进了板温测量和控制在退火炉的推广应用。

结合图1可知，在某一具体实现的方案中，所示一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法系统除了包含所述PLC控制系统1、辐射高温计2、表面热电偶3和板带6以外，还包括电动执行器4、退火炉炉体5、表面热电偶入炉通道7、和屏蔽保护罩8。具体结构如图1所示，在此不一一赘述。

结合本实施例，存在一种优选的实现方案，其中，在记录对应光谱发射率后，结束本轮的测温准确度的调校，控制终端控制表面热电偶3使之脱离板带6，进入辐射高温计2稳定工作过程，则所述方法还包括：

在所述辐射高温计2稳定工作过程中，控制终端实时的获取工况环境，所述工况环境包括板带规格、板带速度和环境温度中的一项或者多项；

并在所述工况环境中任一一项发生变化时，重新启动所述测温准确的调校过程。

结合本实施例，存在一种优选的实现方案，其中，所述根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值，具体包括：

若温度差ΔT>0，光谱发射率ε的修正向自减少方向调整，其中ε的自减值0.02；若ΔT≤0，光谱发射率ε的修正向自增加方向进行，即将ε自加0.02。

结合本实施例，存在一种优选的实现方案，其中，所述控制终端具体为PLC控制系统中的操控平台。

实施例二

如图2所示为本发明实施例提供的一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法，其中，控制终端跟踪板带上卷带尾和下卷带头的焊缝位置，并在确认到达所述焊缝位置时，启动测温准确度的调校过程，所述调校过程具体包括：

在步骤201中，控制终端控制表面热电偶使之接触板带，以便获取板带的实际温度T。

在步骤202中，控制终端通过辐射高温计，获取测量温度Ts，根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值。

在步骤203中，使用所述光谱发射率的修正值调整辐射高温计的光谱发射率。

在步骤204中，周期性的进行所述实际温度和测量温度采集，以及辐射高温计的光谱发射率的调整，至到当前计算的温度差在预设阈值内，则记录对应光谱发射率。

本实施例能够根据不同的工况环境，执行规定的判断和处理流程，并结合最小二乘法对捕获的数据进行拟合计算，进而得到准确且与工况匹配的光谱发射率。这种方法能够在不损害板带表面质量的基础上，获取不同工况下更加准确的光谱发射率，进而大大提高辐射高温计2测温的准确性，促进了板温测量和控制在退火炉的推广应用。

由于调校过程中表面热电偶需要接触运动的高温板带，相互间必然存在摩擦，因此难免划伤板带，影响其表面质量。不过，由于连退线为保证板带的连续运行，常将上卷的带尾与下卷的带头焊接在一起，使得焊缝前后5米的板带成为废带，所以这一部分约10米的板带正好可以用于辐射高温计的调校。因此，在本实施例中所述上卷带尾和下卷带头的长度优选的选取5米。

结合本实施例，存在一种优选的实现方案，其中，在记录对应光谱发射率后，结束本轮的测温准确度的调校，控制终端控制表面热电偶使之脱离板带6，进入辐射高温计稳定工作过程，则所述方法还包括：

在所述辐射高温计稳定工作过程中，控制终端实时的获取工况环境，所述工况环境包括板带规格、板带速度和环境温度中的一项或者多项；

并在所述工况环境中任一一项发生变化时，重新启动所述测温准确的调校过程。

其中，由于退火炉内板带的发射率受到板带规格、板带速度、环境温度范围等因素影响，这样上下卷的板带如果规格不同，或者带速不同，或者环境温度范围不同，其发射率也不同，所以如果上下卷板带出现上述至少一项不同时，辐射高温计的调校都将从焊缝位置开始；如果上下卷板带规格、带速和环境温度范围都相同时，辐射高温计的调校将从上卷板带距离带尾焊缝5米线开始。这样，PLC控制系统1不间断地获取板带规格、板带速度和环境温度范围等信息，用以判断辐射高温计的调校是从焊缝还是带尾5米线开始。

结合本实施例，存在一种优选的实现方案，其中，所述根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值，具体包括：

若温度差ΔT>0，光谱发射率ε的修正向自减少方向调整，其中ε的自减值0.02；若ΔT≤0，光谱发射率ε的修正向自增加方向进行，即将ε自加0.02。

结合本实施例，存在一种优选的实现方案，其中，所述周期性的进行所述实际温度和测量温度采集，以及辐射高温计的光谱发射率的调整，具体包括

控制终端根据最小二乘法将之前计算得到的光谱发射率ε和温度差ΔT的数组拟合成线性函数，根据线性函数计算温度差ΔT＝0时的更加精确的光谱发射率ε₁，并以所述ε₁作为当前调整的光谱发射率值。

结合本实施例，存在一种优选的实现方案，其中，所述预设阈值具体为：表面热电偶测量的真实温度T的0.5％。

结合本实施例，存在一种优选的实现方案，其中，所述记录对应光谱发射率，还包括：同时记录完成所述测温准确度的调校过程时，对应板带规格、板带速度和环境温度中的一项或者多项。

实施例三

本实施例基于实施例二及其优选的实现方式，就高温计的首次调校一般在不同规格板带的情况下进行的情况，阐述利用本发明提出的一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法的实现流程。在后续的实施例中，实施例一中所描述的控制终端，均以具体实例中所涉及的PLC控制系统称呼替代，具体的：

在步骤301中，PLC控制系统1跟踪板带的焊缝位置，若焊缝到达高温计位置，则调校开始。

在步骤302中，PLC控制系统1控制电动执行器4带动表面热电偶3插入炉内，并使之接触带钢6(带钢属于所述板带)，同时将辐射高温计2的光谱发射率设置为1(其中1为默认初始值，在优选的方案中，所述光谱发射率可以采用历史计算的经验值)。

由于辐射高温计和表面热电偶的测量均需要响应时间，而且根据实际经验，其响应时间约2s，所以本方法设置了定时器t用于计时。

在步骤303中，启动定时器t。当定时器t计时2s满后，PLC控制系统1获取辐射高温计测量温度Ts0和表面热电偶测量的真实温度T0，计算并记录温度差ΔT0＝T0-Ts0。

根据普朗克定律，得到如下公式：

$\frac{1}{Ts}-\frac{1}{T}=\frac{\mathrm{\λ}}{C_2}Ln\frac{1}{\mathrm{\ϵ}}---\left(1\right)$

其中，Ts为辐射高温计测量温度(单位K)；T为表面热电偶测量的真实温度(单位K)；λ为辐射高温计可测光波的辐射波长(单位m)，属于辐射高温计自身的特性参数，当选定某个辐射高温计后，此参数即被明确；C₂＝1.4388×10^-2m·K，称为第2辐射常数；ε为板带的光谱发射率计算值。

在步骤304中，PLC控制系统1将辐射高温计测量温度Ts0、表面热电偶测量的真实温度T0、辐射波长λ代入公式(1)中，计算得到板带的光谱发射率计算值ε。

但此时计算的光谱发射率ε可能不准确，还需要进行修正，于是进入步骤305。

在步骤305中，PLC控制系统1将计算得到的光谱发射率再发给辐射高温计2，并启动定时器t计时。当定时器t计时2s满后，PLC控制系统1再次获取辐射高温计测量温度Ts1和表面热电偶测量的真实温度T1，计算并记录温度差ΔT1＝T1-Ts1。

在步骤306中，如果判断得出温度差ΔT1的绝对值不大于表面热电偶测量的真实温度T1的0.5％，即|ΔT1|≤0.5％〃T1，可以认为辐射高温计测量温度Ts1与表面热电偶测量的真实温度T1已经非常接近，也就是说此时计算所得的光谱发射率计算值ε已经十分接近板带实际的光谱发射率，进入步骤307。但如果温度差ΔT1的绝对值大于表面热电偶测量的真实温度T1的0.5％，即|ΔT1|>0.5％〃T1，即光谱发射率计算值ε与板带实际值有偏差，则PLC控制系统1将进行发射率修正，则进入步骤308。

在步骤307中，PLC控制系统1进入调校结束流程，即将带钢规格、带钢速度、环境温度范围及光谱发射率结果数值记录到数据库中，并将表面热电偶3拔出炉外，将辐射高温计2的发射率设置为ε并进入到正常的板温测量工作。

由于辐射高温计测量温度Ts随光谱发射率计算值ε变化而变化，所以发射率修正流程的，因此在步骤308中，根据ΔT1是否大于0来判断对光谱发射率计算值ε的修正是减少还是增加。若ΔT1>0，则进入步骤309。若ΔT1<0，则进入步骤316。

在步骤309中，此时PLC控制系统1将光谱发射率ε向自减少方向进行，即将ε自减0.02，再送给辐射高温计2，启动定时器t计时；定时器t计时2s满后，PLC控制系统1再次获取板带测量温度Ts2和真实温度T2，计算并记录温度差ΔT2＝T2-Ts2。

在步骤310中，判断，若|ΔT2|≤0.5％〃T2成立，认为计算所得的光谱发射率计算值ε已经十分接近板带实际的光谱发射率，则进入步骤307的调校结束流程。若|ΔT2|≤0.5％〃T2不成立，进入步骤311。

在步骤311中，判断带头5米线是否到达高温计位置。

上卷的带尾5米线至下卷的带头5米线区域为合适的调校区域，带头5米线后的板带为正常产品。为避免表面热电偶3与正常板带产品出现摩擦而影响其表面质量，所以需要判断带头5米线是否到达高温计位置。如果到达，则进入步骤312。如果没有到达，则进入步骤313。

在步骤312中，进入等待调校流程，具体的：PLC控制系统1将表面热电偶3拔出炉外，结束此次调校。同时，PLC控制系统1利用最小二乘法将之前记录的光谱发射率ε和温度差ΔT的数组拟合成线性函数，再根据线性函数计算温度差ΔT＝0时的光谱发射率ε。

在步骤313中，判断ΔT2≤0，如果判断结果成立，则说明光谱发射率计算值ε与板带实际值已经比较接近，进入步骤315；如果不成立，则进入步骤314。

在步骤314中，返回步骤309，进一步执行ε自减0.02及温度差ΔTi(其中i＝2,3,…n，表示对应计算次数)的计算流程，并反复执行直至ΔTn≤0。

在步骤315中，为了提高最小二乘法线性函数拟合的准确度，PLC控制系统1还会继续执行ε自减0.02及温度差ΔT的计算流程，直至带头5米线到达高温计位置后结束此次调校。

PLC控制系统1利用最小二乘法将之前记录的光谱发射率ε和温度差ΔT的数组拟合成线性函数，再根据线性函数计算温度差ΔT＝0时的光谱发射率ε。此时得到的光谱发射率计算值ε认为已经十分接近板带实际的光谱发射率。那么PLC控制系统1将带钢规格、带钢速度、环境温度范围及光谱发射率结果数值记录到数据库中，并将表面热电偶3拔出炉外，将辐射高温计2的发射率设置为ε并进入到正常的板温测量工作，即调校结束。

上述过程是以ΔT>0情况为例进行叙述。那么如果ΔT≤0，其过程与ΔT>0情况基本相同，只是PLC控制系统1将光谱发射率ε向自增加方向进行，即将ε自加0.02，以及后续的ΔT的判断略有不同。

实施例四

实施例三阐述的是针对于首次进行调校的流程，而对于具体实现环境中，还涉及一种情况，即对于实施例三种步骤312进入等待调校流程后，PLC控制系统如何再次开始调校的实现方式。通常情况下PLC控制系统1在执行完步骤312后，需要继续关注焊缝位置跟踪信息，等待下一个调校区域的到来。

当下一个调校区域到来后，或者人工启动调校，则系统进入常规调校流程，具体过程参见图3所示，在此不一一赘述。

常规调校流程与首次调校流程类似，但也存在1处不同。由于常规调校流程建立在已有的发射率数据库基础上，所以调校流程中第一次对辐射高温计2发射率的设定不是1，而是根据板带规格、板带速度、环境温度范围，从数据库中调出对应的光谱发射率，再送给辐射高温计2，然后再进行与首次调校一样的后续流程。

本发明提供的用于提高连续退火炉辐射高温计测温准确度的调校方法，根据不同的工况环境，执行规定的判断和处理流程，并结合最小二乘法对捕获的数据进行拟合计算，进而得到准确且与工况匹配的光谱发射率。这种方法能够在不损害板带表面质量的基础上，获取不同工况下更加准确的光谱发射率，进而大大提高辐射高温计测温的准确性，促进了板温测量和控制在退火炉的推广应用。

以上所述的实例仅是对本发明的基本实施方式进行描述，并非对本发明的范围进行限定，在不脱离本发明设计精神的前提下，本领域技术人员对本发明的技术方案做出的各种变换和改进，均应落入本发明权利要求书确定的保护范围内。

实施例五

本实施例提供了根据光谱发射率ε和温度差ΔT线性函数最小二乘法拟合的具体实现方法，供上述各实施例使用。所述方法如下所示：

为方便文字描述，对于所记录的光谱发射率ε和温度差ΔT的数组{(ε_i,ΔT_i)|i＝1,2,···,N}，设定光谱发射率ε为自变量x，温度差ΔT为因变量y，则建立的数组为{(x_i,y_i)|i＝1,2,···,N}，并建立直线方程的表达式为：y＝a+bx。设定测量点y_i和直线方程结果a+bx_i的偏差d_i如下：

d₁＝y₁-a-bx₁

d₂＝y₂-a-bx₂

.

.

.

d_n＝y_n-a-bx_n

令 $D=\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{d}_i^2=D=\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{d}_i^2=\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{\&lsqb;y_i-a-b_i\&rsqb;}^2,$ 且令D对a和b分别求一阶偏导数为：

$\frac{\&part;D}{\&part;a}=-2\&lsqb;\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{y}_i-na-b\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{x}_i\&rsqb;$

$\frac{\&part;D}{\&part;b}=-2\&lsqb;\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{x}_i{y}_i-a\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{x}_i-b\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{x_i}^2\&rsqb;$

令一阶偏导数为零，则有：

$\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{y}_i-na-b\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{x}_i=0$

$\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{x}_i{y}_i-a\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{x}_i-b\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{x_i}^2=0$

引入平均值： $\stackrel{\&OverBar;}{x}=\frac{1}{n}\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{x}_i;\stackrel{\&OverBar;}{y}=\frac{1}{n}\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{y}_i;\stackrel{\&OverBar;}{x^2}=\frac{1}{n}\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{x}_i^2,\stackrel{\&OverBar;}{xy}=\frac{1}{n}\underset{i=1}{\overset{n}{\&Sigma;}}{x}_i{y}_i,$ 得到：

$\stackrel{\&OverBar;}{y}-a-b\stackrel{\&OverBar;}{x}=0$

$\stackrel{\&OverBar;}{xy}-a\stackrel{\&OverBar;}{x}-b\stackrel{\&OverBar;}{x^2}=0$

解得：将a、b值带入线性方程y＝a+bx，即得到光谱发射率ε和温度差ΔT组成的线性函数。

上述线性函数最小二乘法拟合的过程由PLC控制系统1完成。

本领域普通技术人员还可以理解，实现上述实施例方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件来完成，所述的程序可以存储于一计算机可读取存储介质中，所述的存储介质，包括ROM/RAM、磁盘、光盘等。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法，其特征在于，控制终端跟踪板带上卷带尾和下卷带头的焊缝位置，并在确认到达所述焊缝位置时，启动测温准确度的调校过程，所述调校过程具体包括：

控制终端控制表面热电偶使之接触板带，以便获取板带的实际温度T；

控制终端通过辐射高温计，获取测量温度Ts，根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值；

使用所述光谱发射率的修正值调整辐射高温计的光谱发射率；

周期性的进行所述实际温度和测量温度采集，以及辐射高温计的光谱发射率的调整，至到当前计算的温度差在预设阈值内，则记录对应光谱发射率。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在记录对应光谱发射率后，结束本轮的测温准确度的调校，控制终端控制表面热电偶使之脱离板带6，进入辐射高温计稳定工作过程，则所述方法还包括：

在所述辐射高温计稳定工作过程中，控制终端实时的获取工况环境，所述工况环境包括板带规格、板带速度和环境温度中的一项或者多项；

并在所述工况环境中任一一项发生变化时，重新启动所述测温准确的调校过程。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值，具体包括：

若温度差ΔT>0，光谱发射率ε的修正向自减少方向调整，其中ε的自减值0.02；若ΔT≤0，光谱发射率ε的修正向自增加方向进行，即将ε自加0.02。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述周期性的进行所述实际温度和测量温度采集，以及辐射高温计的光谱发射率的调整，具体包括

控制终端根据最小二乘法将之前计算得到的光谱发射率ε和温度差ΔT的数组拟合成线性函数，根据线性函数计算温度差ΔT＝0时的更加精确的光谱发射率ε₁，并以所述ε₁作为当前调整的光谱发射率值。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述预设阈值具体为：

表面热电偶测量的真实温度T的0.5％。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述记录对应光谱发射率，还包括：

同时记录完成所述测温准确度的调校过程时，对应板带规格、板带速度和环境温度中的一项或者多项。

7.一种用于连续退火炉辐射高温计测温调校方法系统，其特征在于，所述调校系统包括控制终端、表面热电偶和辐射高温计，具体的：

控制终端跟踪板带上卷带尾和下卷带头的焊缝位置，并在确认到达所述焊缝位置时，启动测温准确度的调校过程，所述调校过程具体包括：

控制终端控制表面热电偶使之接触板带6，以便获取板带6的实际温度T；

控制终端通过辐射高温计，获取测量温度Ts，根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值；

使用所述光谱发射率的修正值调整辐射高温计的光谱发射率；

周期性的进行所述实际温度和测量温度采集，以及辐射高温计的光谱发射率的调整，至到当前计算的温度差在预设阈值内，则记录对应光谱发射率。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，在记录对应光谱发射率后，结束本轮的测温准确度的调校，控制终端控制表面热电偶使之脱离板带6，进入辐射高温计稳定工作过程，则所述方法还包括：

在所述辐射高温计稳定工作过程中，控制终端实时的获取工况环境，所述工况环境包括板带规格、板带速度和环境温度中的一项或者多项；

并在所述工况环境中任一一项发生变化时，重新启动所述测温准确的调校过程。

9.根据权利要求7或8所述的系统，其特征在于，所述根据实际温度和测量温度的温度差确定光谱发射率的修正值，具体包括：

若温度差ΔT>0，光谱发射率ε的修正向自减少方向调整，其中ε的自减值0.02；若ΔT≤0，光谱发射率ε的修正向自增加方向进行，即将ε自加0.02。

10.根据权利要求7或8所述的系统，其特征在于，所述控制终端具体为PLC控制系统中的操控平台。