CN105229195A - 制造多层薄膜的方法以及包括该薄膜的部件和电子产品 - Google Patents

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Abstract

提供了一种制造多层薄膜的方法。所述方法包括：通过等离子体处理修整塑料物体的表面，在所述塑料物体上沉积至少一个硬度强化层，以及在所述至少一个硬度强化层上沉积颜色层。所述方法还可以包括在所述颜色层上沉积保护层。

Description

制造多层薄膜的方法以及包括该薄膜的部件和电子产品
技术领域
根据示例性实施例的装置和方法涉及在塑料物体上沉积通过惰性气体的等离子体放电从靶上脱离的靶粒子。
背景技术
塑料比金属具有较轻的重量和更好的成形自由度，因此塑料材料能够以较低的成本制造具有复杂形状的产品，并且已经付出大量努力以使用塑料基材料来产生金属外观。
诸如电镀和溅射的方法用于在塑料注塑制品上形成类似金属的纹理。
电镀法是用于该目的的最广泛使用的方法。根据以下方法对塑料组件进行电镀。通过脱脂法从塑料上移除压塑粉、脱塑剂等；在塑料组件上吸附用于提高镀膜粘合性的催化剂氯化钯，并在催化剂层上沉淀镍以形成适用于电镀的导电薄膜。然后，顺序地在导电薄膜上电镀硫酸铜(CuSO4)、镍(Ni)和铬(Cr)。根据所需的颜色，可以用金(Au)、黑珍珠(blackpearl)、铑(Rh)等来替换铬(Cr)。在得到涂布膜的最终外观后，将膜脱水并干燥，完成塑料组件的金属纹理。
溅射法是在沉积之前或之后形成涂布层以确保材料硬度并保护薄膜的物理气相沉积(PVD)方法。也就是说，在底部顺序地形成用于增加硬度的涂布层，在其上形成高度粘合的薄膜，然后再在其上沉积具有金属纹理的薄膜层。最后，形成用于保护薄膜的涂布层。
发明内容
技术问题
一个或多个示例性实施例可以提供一种制造多层薄膜的方法，包括在塑料材料的表面上沉积硬度强化层和颜色层，以增强塑料材料的表面硬度并在塑料材料上形成美观的金属纹理。
一个或多个示例性实施例可以提供具有多层薄膜的塑料部件，所述多层薄膜具有硬度强化层、颜色层和保护层。
一个或多个示例性实施例可以提供一种具有由壳体形成的外部外观并包括多层薄膜的电子产品，所述壳体包括塑料组件，所述多层薄膜具有形成在壳体的全部或部分表面上的硬度强化层、颜色层和保护层。
解决问题的方案
其他示例方面一部分将通过以下说明书来阐述，一部分将根据说明书而变得清楚或者通过实施所述示例性实施例而习得。
根据示例性实施例的方面，一种制造多层薄膜的方法包括：通过等离子体处理修整塑料物体的表面，在所述塑料物体上沉积至少一个硬度强化层，以及在所述硬度强化层上沉积颜色层。
在所述塑料物体上沉积硬度强化层可以包括，在所述塑料物体上沉积包括铬(Cr)的第一硬度强化层，以及在所述第一硬度强化层上沉积第二硬度强化层，所述第二硬度强化层包括从由氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)及氮化铝(AlN)组成的组中选择的至少一种材料。
在所述硬度强化层上的颜色层的沉积中，所述颜色层可以包括从由铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(Au)和氮化钛(TiN)组成的组中选择的至少一种材料。
所述方法还可以包括，在所述硬度增强层上沉积所述颜色层后，在所述颜色层上形成保护层，所述保护层包括从由聚四氟乙烯(PTFE)和氧化硅(SiO2)组成的组中选择的至少一种材料。
根据另一个示例性实施例的方面，一种塑料部件包括塑料物体、沉积在所述塑料物体上以增强塑料物体的硬度的至少一个硬度强化层、以及沉积所述硬度强化层上以在所述塑料物体上形成金属外观的颜色层。
所述硬件强化层可以包括沉积在所述塑料物体上包括铬(Cr)的第一硬度强化层以及第二硬度强化层，所述第二硬度强化层包括从由氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)及氮化铝(AlN)组成的组中选择的至少一种材料。
所述颜色层可以包括从由铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(Au)和氮化钛(TiN)组成的组中选择的至少一种材料。
所述塑料部件还可以包括沉积在所述颜色层上的保护层，所述保护层包括从由聚四氟乙烯(PTFE)和氧化硅(SiO2)组成的组中选择的至少一种材料。
根据另一个示例性实施例的方面，一种包括壳体和多层薄膜的电子产品，所述壳体包括塑料组件，所述多层薄膜结合到所述壳体的全部或部分表面，其中所述多层薄膜包括结合到所述壳体的全部或部分表面的涂布层、结合到所述涂布层的至少一个硬度强化层以及结合到所述硬度强化层的颜色层。
所述壳体可以包括壳体的配件。
所述塑料组件可以包括聚碳酸酯(PC)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)共聚体、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、甲基丙烯酸甲酯/丙烯腈/丁二烯/苯乙烯(MABS)、以及聚碳酸酯/丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(PC/ABS)共聚体中的一个或多个。
硬度增强层可以包括沉积在所述塑料物体上包括铬(Cr)的第一硬度强化层以及第二硬度强化层，所述第二硬度强化层包括从由氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)及氮化铝(AlN)组成的组中选择的至少一种材料。
所述颜色层可以包括铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(Au)和氮化钛(TiN)中的至少一种。
所述多层薄膜还可以包括沉积在所述颜色层上的保护层，所述保护层包括聚四氟乙烯(PTFE)和氧化硅(SiO2)中的至少一种。
发明的有利效果
通过在塑料物体上沉积包括氮化铬(CrN)、氮化钛(TiN)、氮化铝(AlN)以及铬(Cr)中至少一种成分的硬度强化层，可以增强经过等离子体处理的塑料物体的硬度。
此外，通过在塑料材料上沉积包括铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(AU)以及氮化钛(TiN)中至少一种成分的颜色层，可以在塑料材料上形成美观的金属纹理。
多层薄膜可以通过溅射沉积方法形成，该方法是干沉积方法并因此是环境友好的。
附图说明
根据以下和附图相结合的对示例性实施例的描述，上述和/或其他示例方面及优点将变得清楚并且容易理解，其中
图1是示出根据示例性实施例的用于制造多层薄膜的溅射沉积装置的配置的视图；
图2A、2B和2C示出了使用具有图1所示配置的溅射沉积装置来制造多层薄膜的方法；
图3示出了添加到图1所示配置的用于形成保护层的溅射沉积装置；
图4是示出根据示例性实施例的具有多层薄膜的塑料部件的视图，多层薄膜包括沉积在塑料物体上的硬度强化层和颜色层；
图5是示出具有多层薄膜的塑料部件的视图，多层薄膜还包括沉积在图4所示配置上的保护层；
图6示出了作为根据示例性实施例的电子产品示例的电视，所述电视具有包括图5所示的结合到壳体表面的多层薄膜的壳体；
图7A是示出作为根据另一个示例性实施例的电子产品示例的通信设备的透视图，所述通信设备包括具有包括图5所示的结合到壳体表面的多层薄膜的壳体；
图7B是图7A所示通信设备的背面；
图8是示出作为根据另一个示例性实施例的电子产品示例的洗衣机的透视图，所述洗衣机具有由包括图5所示结合到壳体表面的多层薄膜的壳体形成的外观；以及
图9是示出作为根据另一个示例性实施例的电子产品示例的电冰箱的透视图，所述电冰箱具有由具有包括图5所示的多层薄膜的壳体形成的外观。
具体实施方式
将详细参考由附图示出的示例性实施例，其中相似的附图标记指代相似的单元。
以下将参考附图描述使用多层薄膜沉积设备在塑料物体上制造多层薄膜的方法。
根据示例性实施例的制造多层薄膜的方法包括，通过等离子体处理修整塑料物体的表面，在塑料物体上沉积至少一个硬度强化层，以及通过溅射方法在硬度强化层上沉积颜色层。以下，塑料物体可以是塑料基底或是经过处理的产品。
在塑料物体上沉积至少一个硬度强化层可以包括，在涂布层上沉积包括铬(Cr)的第一硬度强化层，以及在第一硬度强化层上沉积第二硬度强化层，第二硬度强化层包括从由氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)及氮化铝(AlN)组成的组中选择的至少一种材料。
沉积在硬度强化层上的颜色层可以包括从由铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(Au)和氮化钛(TiN)组成的组中选择的至少一种材料。
该方法还可以包括在颜色层上沉积保护层，保护层包括从由PTFE和氧化硅(SiO2)组成的组中选择的至少一种材料。
在根据该示例性实施例的多层薄膜制造方法中，可以使用溅射方法来实施多层薄膜的等离子体处理和形成。
溅射法是代表性的物理气相沉积方法，其在真空室中利用离子化加速的惰性气体与固体样品发生碰撞期间产生的能量将原子从固体样品中弹出。溅射法用于形成或沉积制造半导体、显示设备等所需的薄膜金属层和金属氧化物层。
根据该示例性实施例，真空室中离子化的惰性气体可以是氩(Ar)气，也可以与一种或多种其他惰性气体联合使用。
图1是示出根据示例性实施例的用于制造多层薄膜的溅射沉积装置200的示例的视图；
参考图1，用于实现根据示例性实施例的制造方法的溅射沉积装置200包括多个真空室210、310和410，多个真空泵214、314和414，多个供气系统220、320和420，轨道(rail)201、多个喷枪330和430，以及多个靶样品334和434。溅射沉积装置还可以包括多个磁控管340和440。
真空泵214、314和414可分别设置在真空室210、310和410的旁侧或者如图所示设置在真空室210、310和410的下部，并且可以保持真空室210、310和410的真空状态。
供气系统220、320和420可以分别设置在真空室210、310和410的侧壁上，并且可以对真空室210、310和410供气。
每个供气系统220、320和420可以包括多个放电气体室222、322a和422，用以存储将被离子化的氩(Ar)气。供气系统320可以包括处理气体室322b，用于存储作为用于等离子体化学沉积的处理气体的氮气(N2)。放电气体室还可以分别包括将真空室210、310和410连接到气体室222、322a、322b和422的质量流量计224、324和424，以及控制从气体室222、322a、322b和422到真空室210、310和410的气流的控制阀226、326和426。
轨道201设置在真空室210、310和410的上端，并且在轨道201上安装将被沉积物质的物体。该物体可以是平坦的塑料物体100，或者是在部分表面上包括有曲面或突起的塑料材料的组件。
靶样品334和434分别设置在真空室310和410中，并与该物体相对布置。物体可以具有平坦或弯曲形状。可以根据物体的形状来选择靶样品334和434。
喷枪330和430分别设置在真空室310和410内，并通过第二和第三电源335和435连接到阴极。当第二和第三电源对喷枪330和340供电时，产生负电场，并且氩(Ar)气开始放电并与第二和第三电源335和435提供的电子发生碰撞，以产生氩离子(Ar+)并生成等离子体。
磁控管340和440分别设置在真空室310和410中，并且多个磁控管340和多个磁控管440分别安装在靶样本334和434的下方。
通过磁控管340和440产生磁场345和445。与氩(Ar)隔离的电子在产生的磁场的力以及由磁控管340和440形成的磁场的力的作用下沿螺旋路径移动。
沿螺旋路径移动的电子被磁场捕获，并且不易从中逃逸，因而处于等离子体的电子的密度增加。
因此，真空室310和410中离子化的氩(Ar)的水平得到提高，与靶样品334和434发生碰撞的氩(Ar)原子的数量也得到提高，因此，薄膜沉积效率提高。
图2A、2B和2C示出了根据示例性实施例的使用具有图1所示配置的溅射沉积装置200来制造多层薄膜的方法。
根据该示例性实施例的制造多层薄膜的方法包括，通过等离子体处理来修整塑料物体100的表面，在塑料物体100上沉积硬度强化层110，以及在硬度强化层110上沉积颜色层120。
硬度强化层110可以具有包括铬(Cr)的第一硬度强化层、以及包括从由氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)及氮化铝(AlN)组成的组中选择的至少一种材料的第二硬度强化层。如上所述，颜色层120可以包括从由铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(Au)和氮化钛(TiN)组成的组中选择的至少一种材料。
以下将描述制造多层薄膜的示例性方法，所述方法包括沉积含氮化钛(TiN)的硬度强化层110和沉积含铬(Cr)的颜色层120。
在沉积过程中，靶样品334和434的温度保持在从室温到约200℃或以下的范围中，并且沿轨道201移动的物体的温度保持在约60℃到70℃。
以下将参考图2A、2B和2C来描述制造多层薄膜的方法。
参考图2A，将已处理的塑料物体100装载到溅射沉积装置200的第一真空室210中，并在预定条件下利用等离子体辐射对其进行表面修整。
当第一电源235供电以产生负磁场时，第一真空室210中开始放电以产生等离子体。
具体地，提供到第一真空室210中的氩(Ar)气与一次(primary)电子和三次(tertiary)电子(tertiary)碰撞，于是被离子化并分为阳离子和电子，如以下反应式1所示，以产生等离子体。
反应式1：
Ar→Ar++e-
可以只使用氩(Ar)气或者将其与另一种惰性气体组合，作为用于修整的放电气体。基于使用氩(Ar)气作为放电气体的假设，给出以下描述。
可以使用DC电源、脉冲DC电源、或者射频(RF)电源作为电源。其中，RF电源防止在等离子体处理过程中塑料物体100的损坏并通过等离子体加热使修整最大化，可以使用RF电源作为第一电源235。
具体地，RF电源以13.56MHz的频率从负值到正值或者从正值到负值地重复改变对靶施加的电力。在这种情形中，当被施加电力的靶是阴极时，等离子态的氩离子(Ar+)被朝着塑料物体100加速，但是当溅射后氩离子附着在塑料物体100的表面时，被施加电力的靶改变为阳极且离子从塑料物体100的表面分离。优选地，使用RF电源来进行对非导体的塑料物体100的修整，因为基于该原理保持等离子态。
在完成对塑料物体100的修整后，通过溅射方法在塑料物体100的表面上沉积多层薄膜。
更具体地，如图2B所示，为在表面已修整的塑料物体100上沉积硬度强化层110，将经过等离子体处理的塑料物体100安装在第二真空室310中，在布置于真空室下方的靶样品334上放置钛(Ti)，并且在通过真空泵314将第二真空室310的内部气压保持为真空并控制质量流量计326的同时对第二真空室310提供氩(Ar)气和氮(N2)气。
然后，当第二电源335对喷枪330供电时开始放电并发生反应，产生从氩(Ar)气和氮(N2)气离子化而来的等离子体，如上文反应式1和下文的反应式2所示。
反应式2：
N2→2N+
并不是所有氮(N2)分子都被离子化。也就是说，一些氮分子以分子态存在，其他则以离子化态存在。
在施加磁场时，氩离子(Ar+)和氮离子(N+)被加速并拉向用作阴极的钛(Ti)靶样品334，加速的氩离子(Ar+)与钛(Ti)靶样品334碰撞，将能量传递到靶样品的表面，并且钛(Ti)原子从靶样品334弹出。
高能钛(Ti)原子与注入第二真空室310的氮气反应，产生包括氮化钛(TiN)的硬度强化层110，如反应式3所示。
反应式3：
2Ti+N2→2TiN
如反应式4所示，每个被加速并拉向钛(Ti)靶样品、然后被部分离子化的氮离子(N+)均在与靶样品334碰撞时接收电子从而被中和(如反应式4(1)所示)，并且其中一部分与钛(Ti)反应，产生氮化钛(TiN)(如反应式4(2)所示)
反应式4：
N++e-→N(1)
N+Ti→TiN(2)
在该反应式中，反应产生的一部分氮化钛(TiN)保留在靶样品334的表面上，因而使靶颜色改变。
可以使用DC电源、脉冲DC电源或者射频电源(RF电源)作为第二电源335。其中，DC电源产生低密度的沉积层，并且由于氮化钛(TiN)的低沉积率，RF电源产生低沉积效率。因此，优选使用脉冲DC电源。
脉冲DC电源的电压可以大于约0V且不大于约600V。可以对功率和沉积时间进行控制，以便硬度强化层110形成为约1至500纳米的厚度。
脉冲DC电源具有高于RF电源但低于DC电源的沉积效率。因此，可以在与第二真空室310相同的另一个室中进行氮化钛(TiN)的沉积。
在硬度强化层110形成后，将塑料物体100沿轨道201移动，并安装在如图2C所示的真空室410中，以便在硬度强化层110上沉积颜色层120。将沉积有硬度强化层110的塑料物体100安装在第三真空室410中后，在通过真空泵414将第三真空室410的气压保持为真空并控制质量流量计426的同时，对第三真空室410提供氩(Ar)气。
然后，通过与第一真空室210中相同的方式产生等离子体，带正电的氩离子(Ar+)与铬(Cr)靶样品434碰撞，并且铬(Cr)原子从靶样品434弹出并沉积在包括氮化钛(TiN)的硬度强化层上，形成含铬(Cr)的颜色层120。
可以使用DC电源、脉冲DC电源或者射频电源(RF电源)作为第三电源435。其中，DC电源产生低密度的沉积层，并且由于氮化钛(TiN)的低沉积率，RF电源产生低沉积效率。因此，优选使用脉冲DC电源。
脉冲DC电源的电压可以大于约0V且不大于约600V。可以对功率和沉积时间进行控制，以便硬度强化层110形成为约1至500内米的厚度。
该方法还可以包括，在形成位于含氮化钛(TiN)的硬度强化层上的含铬(Cr)的颜色层120后，在颜色层120上沉积含PTFE或氧化硅(SiO2)保护层130。以下通过示例方式来描述沉积含PTFE的保护层130的处理。
图3示出了用于形成保护层130的溅射沉积装置500。如图3所示，还可以在图2所示的溅射沉积装置200中设置第四真空室510，进一步进行形成保护层130的处理。
为形成保护层130，移动塑料物体100并将其安装在第四真空室510中。当将沉积有硬度强化层110和颜色层120的塑料物体100安装在第四真空室510中时，在通过真空泵514将第四真空室510的气压保持为真空并控制质量流量计524的同时对第四真空室510提供氩(Ar)气。
然后，通过与第一真空室210中相同的方式产生等离子体，带正电的氩离子(Ar+)与PTFE(P)靶样品碰撞，PTFE弹出并沉积在颜色层120上，形成保护层130。
由于PTFE是非导体，根据与等离子体处理相同的原理，可以使用RF电源作为第四电源535。同样因为氧化硅是非导体，在氧化硅沉积中也可以使用RF电源。
此外，可以对功率和沉积时间进行控制，以便保护层130形成为约1至500纳米的厚度，或者约30至300纳米的厚度。
由于抗指纹功能，含PTFE或氧化硅的保护层130可以防止在多层薄膜上留下指纹，并保护多层薄膜不被物理划伤。因此，可以在颜色层120上形成保护层130。
以下将参考附图来描述根据示例性实施例的塑料部件。
图4是示出示例性塑料部件的结构的视图。如图4所示，塑料部件包括塑料物体100、沉积在塑料物体100上的硬度强化层110、以及沉积在硬度强化层110上的颜色层120。
塑料物体100没有异物，并且通过等离子体处理形成为平坦的。
硬度强化层110可以包括沉积在塑料物体100上含铬(Cr)的第一硬度强化层以及含从由氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)及氮化铝(AlN)组成的组中选择的至少一种材料的第二硬度强化层。
颜色层120可以包括从由铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(Au)和氮化钛(TiN)组成的组中选择的至少一种材料。
针对含有上述物质的第一硬度强化层、第二硬度强化层和颜色层130的组合，第一硬度强化层可以含有至少一种类型的成分，第二硬度强化层可以含有至少三种类型的成分，并且颜色层120可以含有至少五种类型的成分，从而提供至少十五种类型成分的可能组合。
与此同时，十五种组合可以包括相同成分连续沉积的组合，如第二硬度强化层包含氮化钛(TiN)并且颜色层130也包含氮化钛(TiN)的情形。然而，在相同成分连续沉积的组合中难以达到诸如硬度强化的期望效果。因此，连续层可以包括不同成分。
以下将详细描述在塑料物体100上沉积含氮化钛(TiN)的硬度强化层110和在硬度强化层110上沉积含铬(Cr)的颜色层120的结构。
通过溅射法沉积氮化钛(TiN)和铬(Cr)。根据溅射法，与其他PVD方法相比，原子以相对较高的动量与基底碰撞，从而提供原子和基底之间的强结合(bonding)力。参考图4，构成硬度强化层110的氮化钛(TiN)分子深嵌在塑料物体100中，并且铬(Cr)原子深嵌在含氮化钛(TiN)的硬度强化层110中。在溅射沉积期间，当氮化钛(TiN)分子和铬(Cr)原子与塑料物体碰撞并深嵌在其中时形成嵌入。
因此，硬度强化层110通过强结合能与塑料物体100结合，并且强结合能提高了塑料物体100的硬度，因而增强了塑料的抗划伤性。可以对等离子体的电流密度和温度进行控制，以便将氮化钛(TiN)分子和铬(Cr)有效嵌入在塑料基底中。
硬度强化层110可以形成为约1至500纳米的厚度。当存在包括硬度强化层110的多个硬度强化层时，各硬度强化层110可以形成为约1至500纳米的厚度。此外，颜色层120可以形成为约1至500纳米的厚度。
以下将详细描述另一个示例性塑料部件的结构。
图5示出了根据示例性实施例的具有多层薄膜的塑料部件的结构。参考图5，多层薄膜在具有图4所示结构的同时还可以包括保护层130，所述保护层130含有PTFE或氧化硅。
含有PTFE和氧化硅中至少一个的保护层130因对水的接触角而具有N抗指纹属性，因而防止在金属薄膜层上留下指纹。此外，由于其高硬度，保护层130保护金属薄膜和塑料物体100不被划伤。
用于保护金属薄膜和塑料物体100的保护层130可以形成为约1至500内米的厚度，或者约30至300内米的厚度。
以下将详细描述根据示例性实施例的电子产品。
电子产品包括壳体和多层薄膜，所述壳体包括塑料组件，所述多层薄膜结合到所述壳体的全部或部分表面，其中所述多层薄膜包括结合到所述壳体的全部或部分表面的涂布层、结合到所述涂布层的至少一个硬度强化层以及结合到所述硬度强化层的颜色层。
壳体可以是包围机械装置的基本上盒状部件，例如将组件容置其中的盒状壳体或者其中包括仪器的框架，并且壳体可以包括一个或多个壳体配件。壳体的壳体配件部分用于构成壳体的外观，例如电视(TV)的边框部、TV的支架、电信设备的边框部、或者电子产品的组件。
此外，表述“所述壳体包括塑料组件”的含义是所述壳体包括将两个或更多个同聚物聚合而获得的同聚物或杂聚物。具体地，所述壳体可以包括聚碳酸酯(PC)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)共聚体、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)以及甲基丙烯酸甲酯/丙烯腈/丁二烯/苯乙烯(MABS)中至少一个。
形成有多层薄膜的塑料物体100的表面是通过等离子体处理将异物移除的塑料物体100的表面。
硬度强化层110可以包括沉积在塑料物体100上含铬(Cr)的第一硬度强化层以及第二硬度强化层，所述第二硬度强化层含从由氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)及氮化铝(AlN)组成的组中选择的至少一种材料。
颜色层120可以含从由铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(Au)和氮化钛(TiN)组成的组中选择的至少一种材料。
图6示出了作为根据示例性实施例的电子产品示例的包括壳体的电视600，所述电视包括图5所示的结合到壳体表面的多层薄膜。
如图6所示，电视600可以包括其上形成有多层薄膜的边框部610以及其上同样形成有多层薄膜的支架部620a、620b和620c。这种其上形成有多层薄膜的壳体提供更高的硬度和美观的金属纹理。
图7A是示出作为根据另一个示例性实施例的电子产品示例的包括壳体的通信设备700的透视图，所述通信设备700包括图5所示的结合到壳体表面的多层薄膜，并且图7B是通信设备700的背面。
如图7A和7B所示，用于形成通信设备700的外观的壳体其上可以形成有图5所示的多层薄膜，因而增强了通信设备700的硬度并在其上形成具有美观金属纹理的外观。
如上所述，壳体可以包括通信设备700的边框部710和通信设备700的盖体(case)部720。
图8是示出作为根据另一个示例性实施例的电子产品示例的具有由壳体810形成的外观的洗衣机800的透视图，所述洗衣机800具有图5所示结合到壳体表面的多层薄膜。
如图8所示，用于形成洗衣机800的外观的壳体810可以包括图5所示的多层薄膜，因而增强了洗衣机800的硬度并在其上形成具有美观金属纹理的外观。
图9是示出作为根据另一个示例性实施例的电子产品示例的具有由壳体910形成的外观的电冰箱900的透视图，所述电冰箱900具有图5所示结合到壳体表面的多层薄膜。
用于形成图9所示的电冰箱900的外观的壳体910可以包括图5所示的多层薄膜，因此可以增强电冰箱900的硬度并在其上形成具有美观金属纹理的外观。
根据上述描述可以清楚看出，通过在塑料物体上沉积含氮化铬(CrN)、氮化钛(TiN)、氮化铝(AlN)以及铬(Cr)中至少一种成分的硬度强化层，可以增强经过等离子体处理的塑料物体的硬度。
此外，通过在塑料材料上沉积含铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(AU)以及氮化钛(TiN)中至少一种成分的颜色层，可以在塑料材料上形成美观的金属纹理。
可以通过作为干沉积方法的溅射沉积法来形成多层薄膜，因此也是环境友好的。
尽管已示出和描述了一些示例性实施例，本领域技术人员将理解，可以在不脱离发明构思的原理和精神的情况下对这些实施例做出修改，本发明的范围由所附权利要求及其等同来界定。

Claims (14)

1.一种制造多层薄膜的方法，所述方法包括：
通过等离子体处理修整塑料物体的表面；
在所述塑料物体上沉积至少一个硬度强化层；以及
在所述至少一个硬度强化层上沉积颜色层。
2.根据权利要求1所述的方法，其中在所述塑料物体上沉积所述至少一个硬度强化层包括：
在所述塑料物体上沉积包括铬(Cr)的第一硬度强化层；以及
在所述第一硬度强化层上沉积第二硬度强化层，所述第二硬度强化层包括从由氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)及氮化铝(A1N)组成的组中选择的至少一种材料。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述颜色层包括从由铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(Au)和氮化钛(TiN)组成的组中选择的至少一种材料。
4.根据权利要求1所述的方法，还包括：
在所述颜色层上形成保护层，所述保护层包括从由聚四氟乙烯(PTFE)和氧化硅(SiO2)组成的组中选择的至少一种材料。
5.一种塑料部件，包括：
塑料物体；
沉积在所述塑料物体上的至少一个硬度强化层；以及
沉积在所述至少一个硬度强化层上的颜色层。
6.根据权利要求5所述的塑料部件，其中所述至少一个硬度强化层包括：
沉积在所述塑料物体上包括铬(Cr)的第一硬度强化层；以及
第二硬度强化层，所述第二硬度强化层包括从由氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)及氮化铝(A1N)组成的组中选择的至少一种材料。
7.根据权利要求5所述的塑料部件，其中所述颜色层包括从由铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(Au)和氮化钛(TiN)组成的组中选择的至少一种材料。
8.根据权利要求5所述的塑料部件，还包括沉积在所述颜色层上的保护层，所述保护层包括从由聚四氟乙烯(PTFE)和氧化硅(SiO2)组成的组中选择的至少一种材料。
9.一种电子产品，包括：
包括塑料组件的壳体；以及
结合到所述塑料组件的表面的多层薄膜，其中所述多层薄膜包括：
结合到所述塑料组件的表面的涂布层；
结合到所述涂布层的至少一个硬度强化层；以及
结合到所述至少一个硬度强化层的颜色层。
10.根据权利要求9所述的电子产品，其中所述壳体还包括至少一个配件。
11.根据权利要求9所述的电子产品，其中所述塑料组件包括从由聚碳酸酯(PC)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)共聚体、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、甲基丙烯酸甲酯/丙烯腈/丁二烯/苯乙烯(MABS)、以及聚碳酸酯/丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(PC/ABS)共聚体组成的组中选择的至少一种材料。
12.根据权利要求9所述的电子产品，其中所述至少一个硬度强化层包括：
沉积在所述塑料组件上包括铬(Cr)的第一硬度强化层；以及
第二硬度强化层，所述第二硬度强化层包括从由氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)及氮化铝(A1N)组成的组中选择的至少一种材料。
13.根据权利要求9所述的电子产品，其中所述颜色层包括从由铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)、金(Au)和氮化钛(TiN)组成的组中选择的至少一种材料。
14.根据权利要求9所述的电子产品，其中所述多层薄膜还包括沉积在所述颜色层上的保护层，所述保护层包括聚四氟乙烯(PTFE)和氧化硅(SiO2)中至少一种。
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