CN105182628A - 掩膜板、构图工艺系统及方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种掩膜板、构图工艺系统及方法，所述掩膜板，包括控制单元和液晶盒。所述控制单元用于根据控制指令控制所述液晶盒呈现预设的掩膜图案；所述控制指令为根据所述预设的掩膜图案确定的控制指令。本发明提供的掩膜板可以根据需要呈现不同的掩膜图案，因此本发明提供的掩膜板实现了一张掩膜板对应需要不同掩膜图案的产品的作用，不但省去了不同掩膜板的设计工作，而且由于不再使用多个掩膜板，因此也节省了掩膜板成本，最重要的是，需要不同掩膜图案的产品型号变更时不需更换掩膜板即可进行紫外光照射，使得掩膜板在其正常使用寿命范围之内不需卸载，工艺操作简单，节省能耗。

Description

掩膜板、构图工艺系统及方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜板、构图工艺系统及方法。

背景技术

掩膜板作为转移微细图形的工具，用于掩膜制造工艺的批量复制生产，在基板生产中具有至关重要的关键作用，特别是封框胶固化时，必须在掩膜板的保护下进行，否则会产生显示性不良，所以利用掩膜板进行封框胶固化是显示设备产业链中不可或缺的重要环节。而且基板生产工艺过程中，不同产品对应的图形也不同，所以就需要不同的掩膜板来对应，这样，对于不同的产品需要设计生产不同的掩膜板，且在实际应用时也需要频繁变更换不同掩膜板以实现不同产品的生产。

由于掩膜板的价格非常昂贵，若在掩膜板设计、制作、运输、保存或更换装卸等过程中有任何差错，掩膜板就无法使用，这给设计者、生产者和使用者均带来很大困扰和经济损失。

发明内容

针对现有技术中的缺陷，本发明提供一种掩膜板、构图工艺系统及方法，实现了一张掩膜板对应不同产品的作用，不但省去了不同掩膜板的设计工作，而且由于不再使用多个掩膜板，因此也节省了掩膜板成本，最重要的是，需要不同掩膜图案的产品型号变更时不需更换掩膜板即可进行紫外光照射，使得掩膜板在其正常使用寿命范围之内不需卸载，工艺操作简单，节省能耗。

为解决上述技术问题，本发明提供以下技术方案：

第一方面，本发明提供了一种掩膜板，包括控制单元和液晶盒；

所述控制单元用于根据控制指令控制所述液晶盒呈现预设的掩膜图案；

所述控制指令为根据所述预设的掩膜图案确定的控制指令。

进一步地，所述掩膜板设置有行列排布的多个掩膜子区，每个掩膜子区均设置有对应的控制开关；

所述控制开关用于根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态，使得所述液晶盒呈现所述预设的掩膜图案。

进一步地，所述透光状态包括全透光、不透光和灰度透光。

进一步地，所述控制开关包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态为全透光、不透光或灰度透光。

进一步地，所述掩膜子区的液晶为聚合物分散液晶。

进一步地，所述控制开关包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的聚合物分散液晶的透光状态为全透光或不透光。

进一步地，所述液晶盒还包括像素电极、数据线和栅线，所述薄膜晶体管包括源极、漏极和栅极，所述源极和漏极中的一个与所述数据线相连，另一个与所述像素电极相连，所述栅极与所述栅线相连。

进一步地，所述控制单元周期性扫描驱动所述薄膜晶体管，使得所述薄膜晶体管控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态在预设时间段内保持不变。

第二方面，本发明还提供了一种用于基板的构图工艺系统，包括光源装置以及上面所述的掩膜板；其中，所述预设的掩膜图案为构图工艺图案。

进一步地，所述构图工艺图案为封框胶图案。

进一步地，所述掩膜板包含行列设置的多个掩膜子区，至少两个掩膜子区组成一个掩膜区块；

所述控制单元用于根据控制指令控制所述掩膜区块以使所述掩膜板呈现所述封框胶图案；

所述控制指令为根据所述预设的封框胶图案确定的控制指令。

第三方面，本发明还提供了一种利用上面所述的掩膜板进行构图工艺的方法，包括：

根据预设的构图工艺图案确定所述控制指令；

将所述控制指令写入所述控制单元中，使得所述控制单元根据所述控制指令控制所述液晶盒呈现预设的构图工艺图案；

采用所述掩膜板为待曝光的第一基板进行曝光。

进一步地，所述第一基板为待进行封框胶固化的基板；所述预设的构图工艺图案为封框胶图案。

进一步地，所述掩膜板包含行列设置的多个掩膜子区，至少两个掩膜子区组成一个掩膜区块；

根据所述封框胶图案确定所述控制指令；

将所述控制指令写入所述控制单元中，使得所述控制单元根据控制指令控制所述掩膜区块以使所述掩膜板呈现所述封框胶图案；

采用所述掩膜板为待进行封框胶固化的基板进行曝光。

进一步地，所述封框胶图案包括完全曝光区域、完全不曝光区域和部分曝光区域；

所述控制单元根据控制指令控制与完全曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为全透光，控制与完全不曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为不透光，以及控制与部分曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为灰度透光。

由上述技术方案可知，本发明所述的掩膜板，包括控制单元和液晶盒，控制单元用于根据控制指令控制所述液晶盒呈现预设的掩膜图案；所述控制指令为根据所述预设的掩膜图案确定的控制指令。本发明所述的掩膜板可以根据需要呈现不同的掩膜图案，因此本发明实现了一张掩膜板对应需要不同掩膜图案的产品的作用，不但省去了不同掩膜板的设计工作，而且由于不再使用多个掩膜板，因此也节省了掩膜板成本，最重要的是，需要不同掩膜图案的产品型号变更时不需更换掩膜板即可进行紫外光照射，使得掩膜板在其正常使用寿命范围之内不需卸载，工艺操作简单，节省能耗。

附图说明

为了更清楚地说明本实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例一提供的掩膜板的结构示意图；

图2是本实施例四提供的掩膜板的液晶盒的结构示意图；

图3a是一种封框胶图案的示意图；

图3b是根据图3a所示的封框胶图案控制掩膜板呈现的相应掩膜图案的示意图；

图4是掩膜板的液晶盒的制作过程示意图；

图5是本实施例六提供的利用掩膜板进行构图工艺的方法的流程图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一

图1示出了本发明实施例一提供的掩膜板的结构示意图，如图1所示，本发明实施例一提供的掩膜板包括：控制单元10和液晶盒20；

所述控制单元10用于根据控制指令控制所述液晶盒20呈现预设的掩膜图案；

所述控制指令为根据所述预设的掩膜图案确定的控制指令。

本实施例所述的掩膜板包括控制单元和液晶盒，所述控制单元根据控制指令控制所述液晶盒呈现预设的掩膜图案，所述控制指令为根据所述预设的掩膜图案确定的控制指令。本实施例所述的掩膜板可以根据需要呈现不同的掩膜图案，因此本实施例实现了一张掩膜板对应需要不同掩膜图案的产品的作用，不但省去了不同掩膜板的设计工作，而且由于不再使用多个掩膜板，因此也节省了掩膜板成本，最重要的是，需要不同掩膜图案的产品型号变更时不需更换掩膜板即可进行紫外光照射，使得掩膜板在其正常使用寿命范围之内不需卸载，工艺操作简单，节省能耗。

实施例二

本发明实施例二同样也提供了一种掩膜板，其除了具有和上述实施例一所述的掩膜板相同的特征以外，还具有新的特征。

在本实施例中，所述掩膜板设置有行列排布的多个掩膜子区，每个掩膜子区均设置有对应的控制开关；所述控制开关用于根据控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态，使得所述液晶盒呈现所述预设的掩膜图案。其中，所述透光状态包括全透光、不透光和灰度透光。

对于预设的掩膜图案来说，一般包括需要完全曝光的区域，完全不曝光的区域和部分曝光区域。而对于完全曝光区域来说，其对应的掩膜子区的液晶的透光状态为全透光；对于完全不曝光区域来说，其对应的掩膜子区的液晶的透光状态为不透光；对于部分曝光区域来说，其对应的掩膜子区的液晶的透光状态为灰度透光。

由上可见，可以根据构图工艺图案(即预设的掩膜图案)确定控制指令，然后由控制单元10根据所述控制指令控制与各个掩膜子区对应的控制开关，使得各控制开关控制相应的掩膜子区的液晶的透光状态，最终使得掩膜板呈现预设的掩膜图案，从而实现掩膜板的构图作用。

实施例三

本发明实施例三提供了一种掩膜板，该掩膜板除了具有和上述实施例二所述的掩膜板相同的特征以外，还具有新的特征。

在本实施例中，所述控制开关可以采用薄膜晶体管实现。具体地，所述薄膜晶体管根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态为全透光、不透光或灰度透光。参见图2，图2为液晶盒20的剖面结构示意图，从图2中可以看出，液晶盒20包含行列排布的多个掩膜子区(m行n列)，每个掩膜子区均设置有对应的控制开关，即薄膜晶体管。控制单元10通过对各个薄膜晶体管进行控制，从而实现对所述液晶盒20的分区管控。

其中，设置在各个掩膜子区的薄膜晶体管用于根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态，使得所述液晶盒20呈现预设的掩膜图案。具体地，即各个薄膜晶体管根据所述控制单元10的控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态为全透光、不透光或灰度透光，从而使得所述液晶盒20呈现预设的掩膜图案，即使得掩膜板呈现预设的掩膜图案。

实施例四

本发明实施例四提供了一种掩膜板，该掩膜板除了具有和上述实施例三所述的掩膜板相同的特征以外，还具有新的特征。

在本实施例中，所述掩膜子区的液晶为聚合物分散液晶(PolymerDispersedLiquidCrystal，PDLC)。

其中，PDLC在无外加电压的情形下，不能形成有规律的电场，液晶微粒的光轴取向随机，呈现无序状态。入射光线被强烈散射，则呈不透明状态。当施加了外电压之后，液晶微粒的光轴垂直于薄膜表面排列，即与电场方向一致，则呈透明状态。

在本实施例中，由于掩膜子区的液晶为PDLC，因此所述掩膜子区的液晶的透光状态只能为全透光和不透光。相应地，所述控制开关，即薄膜晶体管，根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的PDLC的透光状态为全透光或不透光，从而使得所述液晶盒呈现预设的掩膜图案。

其中，所述液晶盒还包括像素电极、数据线和栅线，所述薄膜晶体管包括源极、漏极和栅极，所述源极和漏极中的一个与所述数据线相连，另一个与所述像素电极相连，所述栅极与所述栅线相连。

其中，所述控制单元10还用于周期性扫描驱动所述薄膜晶体管，使得所述薄膜晶体管控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态在预设时间段内保持不变，从而在预设时间段内使得液晶盒20呈现所述掩膜图案，以完成掩膜板的掩膜作用。其中，预设时间段的长度可以根据实际进行调节，一般取值为5～15分钟。

从上面描述可知，通过控制指令控制相应掩膜子区的薄膜晶体管的通电状态，进而控制液晶的透光状态。例如，在使用该掩膜板进行封框胶固化时，根据封框胶图案要求，对各个掩膜子区的透光状态进行控制。例如，参见图3a，图3a为一种封框胶图案，其中白色区域为需要曝光的区域，黑色区域为不需要曝光的区域。

若想使用上述掩膜板对预设基板进行上述封框胶图案的固化操作，则首先需要根据图3a所示的封框胶图案设计控制指令，然后将控制指令输入至控制单元，使得控制单元根据该控制指令控制薄膜晶体管的通电状态，进而控制多个掩膜子区的液晶的透光状态。

参见图3b，图3b为掩膜板在控制指令控制下呈现的掩膜图案。参见图3a和图3b，在对应封框胶图案的曝光区域，相应的掩膜子区的液晶的透光状态为全透光，在对应封框胶图案的非曝光区域，相应的掩膜子区的透光状态为不透光。

当然，上面掩膜板呈现的掩膜图案较为简单，本实施例只是为了举例说明。其实，本实施例所述掩膜板可以实现各式各样或复杂或简单的掩膜图案。这是因为本实施例所述的掩膜板包括多个掩膜子区，每个掩膜子区的液晶的透光状态由对应的控制开关分别控制，因此通过改变控制指令，实现不同掩膜子区的液晶的透光状态的改变，进而使得掩膜板呈现想要的掩膜图案。

参见图4，图4示出了上述掩膜板的液晶盒的制作过程断面示意图。图4以PDLC组成的液晶盒为例进行介绍。

首先，在基板上制作薄膜晶体管TFT，然后在TFT上面滴注PDLC，滴注完成后，采用另一基板进行对盒封装，最后加热聚合，在TFT上面形成PDLC膜。这样，通过控制TFT的通电状态，进而可以控制PDLC的透光状态。在TFT不通电时，该TFT控制对应区域的PDLC为不透光状态；在TFT通电时，该TFT控制对应区域的PDLC为全透光状态。

本实施例所述的掩膜板包括控制单元和液晶盒，控制单元用于根据控制指令控制与掩膜子区对应的薄膜晶体管的通电状态，进而控制相应的掩膜子区的液晶的透光状态，使得掩膜板呈现预设的掩膜图案。由于掩膜板的各掩膜子区的液晶的透光状态可以通过改变控制指令进行调整，因此本实施例实现了一张掩膜板对应不同掩膜图案的作用，这样，不再因为掩膜图案的不同而设计多种掩膜板，因而省去了不同掩膜板的设计工作，而且由于不再需要使用多个掩膜板，因此也节省了掩膜板成本，最重要的是，需要不同掩膜图案的产品型号变更时不需更换掩膜板即可进行紫外光照射，使得掩膜板在其正常使用寿命范围之内不需卸载，工艺操作简单，节省能耗。

实施例五

本发明实施例五提供了一种用于基板的构图工艺系统，包括光源装置以及上述任一实施例所述的掩膜板；其中，所述预设的掩膜图案为构图工艺图案。所述光源装置优选为紫外光源装置。

例如，本实施例所述的用于基板的构图工艺系统可以为一种封框胶固化系统，此时，所述预设的掩膜图案则为封框胶图案。

当所述构图工艺系统为封框胶固化系统时，由于封框胶图案为比较单一的图案，因此，在控制掩膜板呈现所述封框胶图案时，可以不采用一一控制掩膜板的掩膜子区的方式，而是采用控制掩膜板的掩膜区块的方式，其中掩膜区块包括至少两个掩膜子区，通过这样操作，这样可以简化控制方式。

相应地，所述控制单元用于根据控制指令控制所述掩膜区块以使所述掩膜板呈现所述封框胶图案；所述控制指令为根据所述预设的封框胶图案确定的控制指令。

本实施例提供的用于基板的构图工艺系统，包括光源装置以及掩膜板，在实际使用该构图工艺系统时，具体地，需要将掩膜板置于待进行构图工艺的基板上，然后根据构图工艺图案确定所述控制指令；并将所述控制指令写入所述控制单元中，使得所述控制单元根据所述控制指令控制所述液晶盒呈现预设的构图工艺图案，最后，采用紫外光源装置发出的紫外光照射已呈现构图工艺图案的掩膜板，最终完成基板的构图工艺。

本实施例所述的用于基板的构图工艺系统，由于采用了上述实施例所述的掩膜板，因此可以根据需要控制所述掩膜板呈现不同的掩膜图案，从而实现了一套构图工艺系统对应需要不同掩膜图案的产品的作用，需要不同掩膜图案的产品型号变更时不需更换构图工艺系统即可完成不同图案的构图工艺，使得构图工艺系统中的掩膜板在其正常使用寿命范围之内不需卸载，工艺操作简单，节省能耗。同时，由于掩膜板成本较高，由于不要频繁卸载，因此也降低了卸载过程中对掩膜板的损耗，延长了掩膜板的使用寿命，降低了成本。从另外一个角度看，由于一张掩膜板可以实现不同的掩膜图案，因此不需要设计多个具有不同图案掩膜板，从而也降低了掩膜板的设计成本和制作成本。

实施例六

本发明实施例六提供了一种利用上述任一实施例所述的掩膜板进行构图工艺的方法，参见图5，包括如下步骤：

步骤101：根据预设的构图工艺图案确定所述控制指令。

在本步骤中，根据预设的构图工艺图案确定所述控制指令。所述构图工艺图案可以为封框胶图案。当所述构图工艺图案为封框胶图案时，根据封框胶图案中需要完全曝光的区域、完全不曝光的区域和部分曝光的区域设置所述控制指令。

步骤102：将所述控制指令写入所述控制单元中，使得所述控制单元根据所述控制指令控制所述液晶盒呈现预设的构图工艺图案。

在本步骤中，所述掩膜板包括行列设置的多个掩膜子区，每个掩膜子区均设置有对应的控制开关；所述控制开关用于根据步骤101确定的控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态，使得所述液晶盒呈现所述预设的掩膜图案。

优选地，所述控制开关为薄膜晶体管，薄膜晶体管根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态为全透光、不透光或灰度透光。

当所述构图工艺图案为封框胶图案时，根据封框胶图案中需要完全曝光的区域、完全不曝光的区域和部分曝光的区域设置所述控制指令。控制单元根据所述控制指令控制相应的掩膜子区的薄膜晶体管的透光状态。具体地，所述控制单元根据所述控制指令控制与完全曝光区域对应的掩膜子区的液晶的透光状态为全透光，控制与完全不曝光区域对应的掩膜子区的液晶的透光状态为不透光，以及控制与部分曝光区域对应的掩膜子区的的液晶的透光状态为灰度透光。

进一步地，所述液晶盒还包括像素电极、数据线和栅线，所述薄膜晶体管包括源极、漏极和栅极，所述源极和漏极中的一个与所述数据线相连，另一个与所述像素电极相连，所述栅极与所述栅线相连。

所述控制单元还用于周期性扫描驱动所述薄膜晶体管，使得所述薄膜晶体管控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态在预设时间段内保持不变，从而在预设时间段内使得液晶盒呈现预设的构图工艺图案，以完成掩膜板的掩膜作用。

步骤103：采用所述掩膜板为待曝光的第一基板进行曝光。

在本步骤中，由于步骤102中所述掩膜板已经形成了预设的构图工艺图案，本步骤只需要采用所述掩膜板为待曝光的第一基板进行曝光，即可完成构图工艺。

例如，采用上述实施例所述的掩膜板进行封框胶固化工艺时，上述的第一基板即为待进行封框胶固化的基板；上述的预设的构图工艺图案即为封框胶图案。按照上述步骤101-102操作使得所述掩膜板形成预设的封框胶图案之后，采用所述掩膜板为待曝光的第一基板进行曝光，即可完成封框胶固化。

进一步地，当采用上述实施例所述的掩膜板进行封框胶固化工艺时，由于封框胶图案为比较简单的图案，因此，在控制掩膜板呈现所述封框胶图案时，可以不采用一一控制掩膜板的掩膜子区的方式，而是采用控制掩膜板的掩膜区块的方式，其中掩膜区块包括至少两个掩膜子区，通过这样操作，这样可以简化控制方式。

具体地，可以根据所述封框胶图案确定所述控制指令，然后将所述控制指令写入所述控制单元中，使得所述控制单元根据控制指令控制所述掩膜区块以使所述掩膜板呈现所述封框胶图案，其中，所述封框胶图案包括完全曝光区域、完全不曝光区域和部分曝光区域；

所述控制单元根据控制指令控制与完全曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为全透光，控制与完全不曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为不透光，以及控制与部分曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为灰度透光。最后，采用所述掩膜板为待进行封框胶固化的基板进行曝光，从而完成了封框胶固化工艺。

本实施例提供的利用所述掩膜板进行构图工艺的方法，由于采用了上述实施例所述的掩膜板，因此可以根据需要控制所述掩膜板呈现不同的掩膜图案，从而实现了一张掩膜板对应需要不同掩膜图案的产品的作用，需要不同掩膜图案的产品型号变更时不需更换掩膜板即可完成不同图案的构图工艺，使得掩膜板在其正常使用寿命范围之内不需卸载，工艺操作简单，节省能耗。同时，由于掩膜板成本较高，由于不要频繁卸载，因此也降低了卸载过程中对掩膜板的损耗，延长了掩膜板的使用寿命，降低了成本。从另外一个角度看，由于一张掩膜板可以实现多种掩膜图案，因此不需要设计多个具有不同图案掩膜板，从而也降低了掩膜板的设计成本和制作成本。

以上实施例仅用于说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (15)

1.一种掩膜板，其特征在于，包括控制单元和液晶盒；

所述控制单元用于根据控制指令控制所述液晶盒呈现预设的掩膜图案；

所述控制指令为根据所述预设的掩膜图案确定的控制指令。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板设置有行列排布的多个掩膜子区，每个掩膜子区均设置有对应的控制开关；

所述控制开关用于根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态，使得所述液晶盒呈现所述预设的掩膜图案。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述透光状态包括全透光、不透光和灰度透光。

4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述控制开关包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态为全透光、不透光或灰度透光。

5.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜子区的液晶为聚合物分散液晶。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述控制开关包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的聚合物分散液晶的透光状态为全透光或不透光。

7.根据权利要求4或6所述的掩膜板，其特征在于，所述液晶盒还包括像素电极、数据线和栅线，所述薄膜晶体管包括源极、漏极和栅极，所述源极和漏极中的一个与所述数据线相连，另一个与所述像素电极相连，所述栅极与所述栅线相连。

8.根据权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述控制单元周期性扫描驱动所述薄膜晶体管，使得所述薄膜晶体管控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态在预设时间段内保持不变。

9.一种用于基板的构图工艺系统，其特征在于，包括光源装置以及如权利要求1～8任一项所述的掩膜板；其中，所述预设的掩膜图案为构图工艺图案。

10.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述构图工艺图案为封框胶图案。

11.根据权利要求10所述的系统，其特征在于，所述掩膜板包含行列设置的多个掩膜子区，至少两个掩膜子区组成一个掩膜区块；

所述控制单元用于根据控制指令控制所述掩膜区块以使所述掩膜板呈现所述封框胶图案；

所述控制指令为根据所述预设的封框胶图案确定的控制指令。

12.一种利用权利要求1～8任一项所述的掩膜板进行构图工艺的方法，其特征在于，包括：

根据预设的构图工艺图案确定所述控制指令；

将所述控制指令写入所述控制单元中，使得所述控制单元根据所述控制指令控制所述液晶盒呈现预设的构图工艺图案；

采用所述掩膜板为待曝光的第一基板进行曝光。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述第一基板为待进行封框胶固化的基板；所述预设的构图工艺图案为封框胶图案。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述掩膜板包含行列设置的多个掩膜子区，至少两个掩膜子区组成一个掩膜区块；

根据所述封框胶图案确定所述控制指令；

将所述控制指令写入所述控制单元中，使得所述控制单元根据控制指令控制所述掩膜区块以使所述掩膜板呈现所述封框胶图案；

采用所述掩膜板为待进行封框胶固化的基板进行曝光。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述封框胶图案包括完全曝光区域、完全不曝光区域和部分曝光区域；

所述控制单元根据控制指令控制与完全曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为全透光，控制与完全不曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为不透光，以及控制与部分曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为灰度透光。