CN105142250A - 一种用于半导体电热膜的制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种用于制备半导体电热膜的制备方法,选用硼硅玻璃、石英玻璃、微晶玻璃为基材,所述的基材形状为管状、平面,以四氯化锡,四氯化钛,三氯化锑,三氯化钛,余量无水乙醇为基本材料;上述材料混合溶液经恒温搅拌均匀即可得源溶液,所述基材通过清洗装夹后,放在加热腔体内,温度控制在600-620℃,通过喷嘴将源溶液雾化并喷至加热腔体内的基材表面,对镀有电热膜的基材进行电阻测试;基材镀膜面的两端均匀涂上银电极浆料;涂上银电极浆料的基材通过机械联动装置送至密闭的保温炉腔体内,保温炉分五段分别进行加温;本发明操作方便,生产效率高,能很好的满足批量生产的需要。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃用作电热元件技术领域,特别是涉及一种用于制备半导体电热膜的方法。
背景技术
半导体电热膜技术属于一种电加热技术,在工业、农业等各个领域应用广泛。国际上对该领域的研究始于二十世纪四十年代,国内则相对较晚,从二十世纪八十年代开始出现有关电热膜技术的专利和元件。但由于方法和工艺的不够科学先进,其产品存在稳定性差、衰减量较大,工作范围受限等缺点。通常的电热装置采用金属电阻丝,其工作时因电阻将电能转换成电热能。该类电热装置生产成本较高,工作功率衰减量大,易产生明火,对工作场所要求苛刻,禁止在油田或者带静电的环境及产品上使用。随着半导体科技的发展,以半导体所制成的电热装置克服了传统电阻丝加热装置的缺点,具有无明火、高温、省电、高效、安全等优点,且大大降低生产成本。依据现有半导体电热膜专利技术和专利案,主要在于制作工艺中镀膜源溶液配方、成膜效率的有效控制、成膜均匀性和稳定性等方面研究改进。但均未彻底解决电热膜制备过程对温度要求过高、重金属污染及使用过程普遍存在功率衰减过快、批量生产一致性差等问题。
发明内容
根据上述缺陷,本发明的目的在于提供一种用于制导体电热膜的制备方法,不仅克服了对温度要求过高及制备或使用过程中重金属污染的问题,还真正实现了批量生产。
本发明的技术方案是通过以下方式实现的:一种用于半导体电热膜的制备方法,包括以下步骤:
1)、配制半导体电热膜的溶液:以重量百分比计,水合四氯化锡(SnCl4.5H20)38%,四氯化钛(TiCl4)9%,三氯化锑(SbCl3)2-3%,三氯化钛(TiCl3)3%,余量为无水乙醇;将上述材料混合在25-28℃恒温中搅拌均匀即得;
2)处理电热膜元件:
(a)、将电热膜元件基材表面清洗,风干待用;
(b)、夹装在喷涂工装上;
(c)、将喷涂工装送至密闭的加热腔体内,温度控制在600-620°C;
(d)、通过喷嘴将源溶液雾化并喷至加热腔体内的基材表面,且发生化学与物理双重反应,产物结合在所述基材表面,即在基材表面镀上了电热膜溶液,从喷涂到充分接触总的时间为四十分钟,然后将其取出自然冷却即可;
(e)、对镀有电热膜的基材进行电阻测试;
(f)、电极烧结将所述基材镀膜面的两端均匀涂上银电极浆料;
(g)、涂上银电极浆料的基材通过机械联动装置送至密闭的保温炉腔体内,保温炉分五段分别进行加温,一段温度为605°C、二段温度为610°C、三段温度为615°C,四段温度为610°C,五段温度为560°C,每段用时四分钟,五段总共用时二十分钟即烧结制成电极;
(h)、包装。
所述基材材料为硼硅玻璃、石英玻璃、微晶玻璃,基材形状为管状、平面。
所述基材形状为片状或板状时,通过喷涂工装一次可实现一片或数片基材的均匀镀膜。
本发明,使用寿命长、制作成本低的电热膜溶液,不仅克服了对温度要求过高及制备或使用过程中重金属污染的问题,保证了溶液的安全性和环保,同时强酸的去除防止设备被侵蚀,保护设备,使设备可以长久使用,利用本发明的溶液制备的半导体电热膜,封印明火功率衰减量小,工作稳定,还实现了批量生产。
具体实施方式
一种用于制备半导体电热膜的制备方法,所述的制备半导体电热膜的溶液:其组分含量按以下重量百分比配制水合四氯化锡(SnCl4.5H20)38%,四氯化钛(TiCl4)9%,三氯化锑(SbCl3)2-3%,三氯化钛(TiCl3)3%,余量无水乙醇;上述材料混合溶液经恒温搅拌均匀即可得源溶液;基材是耐高温、耐激变且绝缘的材料,该材料为硼硅玻璃、石英玻璃、微晶玻璃,基材形状为管状、平面。
电热膜元件处理工艺:
1、将基材待处理表面经行清洗,风干待用。
2、夹装在喷涂工装上。
3、将喷涂工装送至密闭的加热腔体内,温度控制在600-620°C。
4、通过喷嘴将源溶液雾化并喷至加热腔体内的基材表面,且发生化学与物理双重反应,产物结合在所述基材表面,即在基材表面镀上了电热膜溶液,从喷涂到充分接触总的时间为四十分钟,然后将其取出自然冷却即可。
5、对镀有电热膜的基材进行电阻测试。
6、电极烧结将所述基材镀膜面的两端均匀涂上银电极浆料。
7、涂上银电极浆料的基材通过机械联动装置送至密闭的保温炉腔体内,保温炉分五段分别进行加温,一段温度为605°C、二段温度为610°C、三段温度为615°C,四段温度为610°C,五段温度为560°C,每段用时四分钟,五段总共用时二十分钟即烧结制成电极。
8、包装待用。
利用本发明溶液制备的电热膜元件,封印明火功率衰减量小,工作稳定,还真正实现了批量生产。
Claims (2)
1.一种用于半导体电热膜的制备方法,包括以下步骤:
1)、配制半导体电热膜的溶液:以重量百分比计,水合四氯化锡(SnCl4.5H20)38%,四氯化钛(TiCl4)9%,三氯化锑(SbCl3)2-3%,三氯化钛(TiCl3)3%,余量为无水乙醇;将上述材料混合在25-28℃恒温中搅拌均匀即得;
2)、处理电热膜元件:
(a)、将电热膜元件基材表面清洗,风干待用;
(b)、夹装在喷涂工装上;
(c)、将喷涂工装送至密闭的加热腔体内,温度控制在600-620°C;
(d)、通过喷嘴将源溶液雾化并喷至加热腔体内的基材表面,且发生化学与物理双重反应,产物结合在所述基材表面,即在基材表面镀上了电热膜溶液,从喷涂到充分接触总的时间为四十分钟,然后将其取出自然冷却即可;
(e)、对镀有电热膜的基材进行电阻测试;
(f)、电极烧结将所述基材镀膜面的两端均匀涂上银电极浆料;
(g)、涂上银电极浆料的基材通过机械联动装置送至密闭的保温炉腔体内,保温炉分五段分别进行加温,一段温度为605°C、二段温度为610°C、三段温度为615°C,四段温度为610°C,五段温度为560°C,每段用时四分钟,五段总共用时二十分钟即烧结制成电极;
(h)、包装。
2.根据权利要求1所述的一种用于半导体电热膜的制备方法,其特征在于:所述的步骤2)中的电热膜元件基材为硼硅玻璃、石英玻璃或微晶玻璃,基材形状为管状、平面状。
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