CN105127140B - 用于玻璃基板的清洗设备 - Google Patents

Abstract

本发明提出了一种用于玻璃基板的清洗设备，包括能够加热清洗液的加热装置，加热装置具有第一入口和第一出口；用于清洗玻璃基板的清洗装置，清洗装置具有第二入口和第二出口，其中第二入口能与第一出口连通，其中，在连通第二入口与第一出口的管线上设置过滤装置。该清洗设备能提高对玻璃基板的清洗效果。

Description

用于玻璃基板的清洗设备

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种用于玻璃基板的清洗设备。

背景技术

在显示面板的制造过程中，大都利用玻璃基板清洗机对玻璃基板进行清洗作业，以使玻璃基板满足后续制程的使用需求。

现有技术中，常采用HDC(高性能清洗机)对玻璃基板进行清洗。在使用过程中，HDC的入口与厂务供水端相连，以接收用于清洗玻璃基板的水。但是在实际使用过程中，发现玻璃基板的清洗效果并不理想，以致影响显示装置的良率。

由此，需要设计一种清洗效果更好的用于玻璃基板的清洗设备。

发明内容

针对现有技术中所存在的上述技术问题，本发明提出了一种用于玻璃基板的清洗设备。该清洗设备能有效提高清洗玻璃基板的清洗效果，提高显示装置的良率。

根据本发明提出了一种用于玻璃基板的清洗设备，包括：

能够加热清洗液的加热装置，加热装置具有第一入口和第一出口，

用于清洗玻璃基板的清洗装置，清洗装置具有第二入口和第二出口，其中第二入口与第一出口连通，

其中，在连通第二入口与第一出口的管线上设置过滤装置；

清洗装置包括从上游到下游依次设置的终清洗单元、中间清洗单元和预清洗单元，其中，终清洗单元具有盛水组件，盛水组件包括水槽和覆盖式设置在水槽的开口处的收集槽，收集槽的底板上设置有连通水槽的通孔。

在一个实施例中，加热装置为化学气相沉积制程主机。

在一个实施例中，在管线上设置控温装置，控温装置包括温度感应器和与温度感应器信号连接的加热器，并且控温装置位于过滤装置的下游。

在一个实施例中，在管线上设置能与清洗装置连通的支线，并在管线与支线交叉处设置转换阀，转换阀位于过滤装置的上游。

在一个实施例中，在管线的外壁上设置保温材料。

在一个实施例中，化学气相沉积制程主机包括：

依次连接的真空转换腔、分流腔、制成腔，

分别用于为真空转换腔、分流腔、制成腔降温的第一管线、第二管线和第三管线，

其中，第一管线、第二管线和第三管线依次首尾相连，并且第三管线与第一出口连通，第一管线与第一入口连通。

在一个实施例中，清洗液为去离子水。

在一个实施例中，收集槽的底板倾斜式设置，并且通孔设置在收集槽的最低端处。

在一个实施例中，第二出口与第一入口连通，并在第二出口与第一入口之间设置净化装置。

与现有技术相比，本发明的优点在于，通过在清洗装置的上游设置加热装置，使得用于清洁玻璃基板的清洗液升温，并使得清洗液中的水分子间的部分氢键断裂，水分子团簇变小，从而增强了水分子团的活性，提高水分子的清洁能力。并由此提高了对玻璃基板的清洗效果。同时，通过设置过滤装置以对进入清洗装置的清洗液进行过滤，以减小或避免杂质进入到后续清洗装置中，从而进一步地提高了对玻璃基板的清洗效果。

附图说明

下面将结合附图来对本发明的优选实施例进行详细地描述，在图中：

图1显示了根据本发明的实施例的用于玻璃基板的清洗设备的结构图；

图2显示了根据本发明的实施例的盛水组件的剖面图；

在附图中，相同的部件使用相同的附图标记，附图并未按照实际的比例绘制。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明做进一步说明。

图1显示了根据本发明的用于玻璃基板的清洗设备100的结构。如图1所示，清洗设备100包括加热装置1和清洗装置2。其中，加热装置1用于加热清洗液，以向清洗装置2供给具有一定温度的清洗液。并且，加热装置1具有第一入口3和第一出口4，第一入口3用于与厂务供清洗液端连接，以接收清洗液。第一出口4用于向外输送经过加热的清洗液。清洗装置2用于清洗玻璃基板。并且清洗装置2具有第二入口5和第二出口6，第二入口5与第一出口4连通，以接收经过加热装置1升温的清洗液。另外，在连通第二入口5与第一出口4的管线7上设置过滤装置8，对进入清洗装置2的清洗液进行过滤。

为了降低清洗成本，优选地，清洗液为去离子水。

由此，通过在清洗装置2的上游设置加热装置1，使得用于清洁玻璃基板的水升温，一定温度的水使得水分子间的部分氢键断裂，水分子团簇变小，从而增强了水分子团的活性，提高水分子的清洁能力。并由此提高了对玻璃基板的清洗效果。同时，由于清洗装置2和加热装置1之间还设置有过滤装置8，以对进入清洗装置2的水进行过滤，从而进一步提高了对玻璃基板的清洗效果。

根据本发明的一个实施例，加热装置1为化学气相沉积制程主机。在玻璃基板化学气相沉积过程中，可以利用水冷的方式降低化学气相沉积制程主机的温度。同时，在化学气相沉积制程主机的散热过程中，用于为化学气相沉积制程主机降温的水被加热，然后，加热后的水通过管线7和过滤装置8进入清洗装置2中，进而用于玻璃基板的清洗。本申请的清洗设备100直接利用了实际生产设备中的化学气相沉积制程主机作为加热装置1，达到了即能为化学气相沉积制程主机降温，又能为清洗装置2输送一定温度的水的作用，充分利用并节约了能源。

为了达到更好的清洁效果，并且对水温做一定的监控。在管线7上设置控温装置9。控温装置9包括温度感应器10和与温度感应器10信号连接的加热器11。其中，温度感应器10能够感知用于清洗的水的温度，以对水温进行监测。加热器11用于为管线7内的水加热。在水的温度低于预设温度时，启动加热器11以对管线7内的水进行加热，从而使得进入清洗装置2内的水的温度不低于预设温度，由此保证清洗效果。例如，预设温度可以为50度，当温度感应器10感知到管线7内的水温低于50度时，启动加热器11以对管线7内的水进行加热，以确保输送到清洗装置2内的水的温度。同时，加热器11的功率可根据温度感应器10感知的水温进行调节，以确保满足使用需求。优选地，控温装置9位于过滤装置8的下游，也就是，控温装置9更靠近清洗装置2。通过这种设置能减小热量损失，保证能源的充分利用。

在管线7上设置能与清洗装置2连通的支线12。在管线7与支线12交叉处设置转换阀13，并且转换阀13位于过滤装置8的上游。通过这种设置，可将支线12与其它水源相连接，以补给或者替换加热装置1向清洗装置2供给的具有一定温度的热水。从而，使得清洗装置2的第二入口5端的水不限于来自化学气相沉积制程主机。也就是，在这种情况下，清洗装置2可以和其它能够加热水的装置相连接，以满足清洗装置2的用水量。另外，加热器11的情况下，支线12甚至可以直接与厂务供水端相连接，并选择性通过加热器11对水进行加热，也能满足提高清洗设备100的清洗效果的要求。

为了防止热量流失，在管线7的外壁上设置保温材料14。根据管线7的不同结构，保温材料14可以间断性设置在管线7的外壁上。而这种设置方式是本领域技术人员可以预见的，在此不再详述。优选地，保温材料14可以为聚苯乙烯泡沫塑料或聚氨酯泡沫塑料等。

在一个实施例中，化学气相沉积制程主机包括依次连接的真空转换腔15、分流腔16、制成腔17，以及分别用于为真空转换腔15、分流腔16、制成腔17降温的第一管线18、第二管线19和第三管线20。其中，第一管18、第二管线19和第三管线20依次首尾相连，并且第三管线20与第一出口4连通，第一管线18与第一入口3连通。通过这种设置，水可以依次通过第一管线18、第二管线19和第三管线20，有利于对加热的水进行收集并输送到清洗装置2。另一方面，水依次通过真空转换腔15、分流腔16、制成腔17被加热，以保证能得到具有更高温度的水。

在一个实施例中，清洗装置2包括从上游到下游依次设置的终清洗单元21、中间清洗单元22和预清洗单元23。在清洗玻璃基板过程中，首先，玻璃基板进入预清洗单元23，然后玻璃基板进入中间清洗单元22，最后，进入终清洗单元21，从而完成玻璃基板的清洗。通过第二入口5流入的去离子水先流到终清洗单元21，再依次流到中间清洗单元22和预清洗单元23，最后由第二出口6流出。

根据本发明的一个实施例，终清洗单元21具有盛水组件24。盛水组件24用于收集和存储对玻璃基板进行最终清洗这个工序的水，以使得收集的水能进入到中间清洗单元22中。优选地，盛水组件24包括水槽25和收集槽26。收集槽26覆盖式设置在水槽25的开口处，以用于收集对玻璃基板进行最终清洗这个工序的水，收集槽26的底板上设置有连通水槽25的通孔27，以使得通过收集槽26收集的水流入并存储到水槽25中，以为中间清洗单元22提供用水。由于水的温度会对水的清洁能力有影响，而水在清洗装置2中流动过程中，会有热量损失。而在水槽25的开口处设置收集槽26，收集槽26能覆盖在水槽25的开口处，增加了水槽25的保温效果，能减少水的热量损失，以确保由水槽25向后续工序所供应的水的清洗效果。

进一步优选地，收集槽26的底板倾斜式设置，并且通孔27设置在收集槽26的最低端处。通过这种设置，水能够很容易的从水槽25流入到收集槽26中，以对水进行更充分的收集。

需要说明地是，为了减少水的温度的降低，防止热量过快的散失，中间清洗单元22也可以设置与上述的盛水组件24结构相同的部件，以收集并存储水。

在一个实施例中，第二出口6可与第一入口3连通，并在第二出口6与第一入口3之间设置净化装置28。净化装置28用于净化从清洗装置2流出的水，以使得水能循环使用，并满足环保需求。

在本申请中，用语“上游”，“下游”以清洗液的流动方向为参考。

以上所述仅为本发明的优选实施方式，但本发明保护范围并不局限于此，任何本领域的技术人员在本发明公开的技术范围内，可容易地进行改变或变化，而这种改变或变化都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求书的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种用于玻璃基板的清洗设备，其特征在于，包括：

能够加热清洗液的加热装置，所述加热装置具有第一入口和第一出口，

用于清洗玻璃基板的清洗装置，所述清洗装置具有第二入口和第二出口，其中所述第二入口与所述第一出口连通，

其中，在连通所述第二入口与所述第一出口的管线上设置过滤装置；

所述清洗装置包括从上游到下游依次设置的终清洗单元、中间清洗单元和预清洗单元，其中，所述终清洗单元具有盛水组件，所述盛水组件包括水槽和覆盖式设置在所述水槽的开口处的收集槽，所述收集槽的底板上设置有连通所述水槽的通孔。

2.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述加热装置为化学气相沉积制程主机。

3.根据权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，在所述管线上设置控温装置，所述控温装置包括温度感应器和与所述温度感应器信号连接的加热器，并且所述控温装置位于所述过滤装置的下游。

4.根据权利要求3所述的清洗设备，其特征在于，在所述管线上设置能与所述清洗装置连通的支线，并在所述管线与所述支线交叉处设置转换阀，所述转换阀位于所述过滤装置的上游。

5.根据权利要求1到4中任一项所述的清洗设备，其特征在于，在所述管线的外壁上设置保温材料。

6.根据权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，所述化学气相沉积制程主机包括：

依次连接的真空转换腔、分流腔、制成腔，

分别用于为所述真空转换腔、所述分流腔、所述制成腔降温的第一管线、第二管线和第三管线，

其中，所述第一管线、所述第二管线和所述第三管线依次首尾相连，并且所述第三管线与所述第一出口连通，所述第一管线与所述第一入口连通。

7.根据权利要求1到4中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗液为去离子水。

8.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述收集槽的底板倾斜式设置，并且所述通孔设置在所述收集槽的最低端处。

9.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述第二出口与所述第一入口连通，并在所述第二出口与所述第一入口之间设置净化装置。