CN105032834A

CN105032834A - 金刚石硅片专用碱洗液及金刚石硅片清洗工艺

Info

Publication number: CN105032834A
Application number: CN201510417888.3A
Authority: CN
Inventors: 王会敏; 何京辉; 李立伟; 张立涛; 张稳
Original assignee: Xingtai Jinglong Electronic Material Co Ltd
Current assignee: Xingtai Jinglong Electronic Material Co Ltd
Priority date: 2015-07-16
Filing date: 2015-07-16
Publication date: 2015-11-11

Abstract

本发明公开了一种金刚石硅片专用碱洗液及金刚石硅片清洗工艺，属于金刚石硅片生产技术领域，金刚石硅片专用碱洗液为双氧水和氢氧化钾的混合溶液，金刚石硅片清洗工艺包括超声清洗、药液清洗、超声漂洗和碱洗，碱洗在超声漂洗之前进行。本发明能够对硅片表面氧化层进行深度的清洁，清洗效果良好，能够有效提高清洗后金刚石硅片的转换率，极具推广价值。

Description

金刚石硅片专用碱洗液及金刚石硅片清洗工艺

技术领域

本发明涉及金刚石硅片生产技术领域。

背景技术

金刚石硅片是目前太阳能电池片领域的又一创新，有着独特的技术优势。一方面，金刚石硅片的切割方式由原来的砂浆切割调整为了纯水加少量切割液进行切片，因此在切割过程中降低了对环境的污染；另一方面，金刚石硅片的成本也大大降低。

但是，金刚石硅片切割后残留在硅片表面上的硅粉不同于原来的砂浆切割，其下棒后硅片的粘黏非常严重，即使使用脱胶机也难以冲开，且在后续的清洗中还容易产生黑斑片，制绒后硅片还会产生大量具有白斑或花斑的异常硅片，所有这些都大大降低了硅片的转换效率，带来大量废品，增加了金刚石硅片的整体生产成本，给金刚石硅片技术的推广应用带来了不必要的麻烦。

发明内容

本发明要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种金刚石硅片专用碱洗液及金刚石硅片清洗工艺，能够对硅片表面的氧化层进行深度的清洁，清洗效果良好，能够有效提高清洗后金刚石硅片的转换率，保证了金刚石硅片的质量，能够降低次品率，为后续工序提供可靠的质量保障，降低了金刚石硅片的整体生产成本。

为解决上述技术问题，本发明所采取的技术方案是：一种金刚石硅片专用碱洗液，其为双氧水和氢氧化钾的混合溶液。

作为优选，混合溶液中双氧水的体积分数为4%～8%，氢氧化钾的质量分数为0.4%～0.8%。

进一步地，混合溶液中双氧水的体积分数为6%，氢氧化钾的质量分数为0.6%。

一种金刚石硅片清洗工艺，其包括超声清洗、药液清洗和超声漂洗，还包括碱洗，碱洗在超声漂洗之前进行，碱洗所用的洗液为如上所述的金刚石硅片专用碱洗液。超声清洗和超声漂洗采用经过特殊处理的纯水，超声清洗在常温下进行。

作为优选，超声清洗、药液清洗、超声漂洗和碱洗的具体次序为：第一次超声清洗、第二次超声清洗、第一次药液清洗、第三次超声清洗、第二次药液清洗、碱洗、第一次超声漂洗、第二次超声漂洗、第三次超声漂洗和第四次超声漂洗，一般清洗20000片左右硅片更换一次碱洗所用的金刚石硅片专用碱洗液。

作为优选，药液清洗所用的洗液为市售的硅片专用清洗剂的水溶液，该水溶液中硅片专用清洗剂的体积分数为3%～5%，该水溶液的温度为45℃～55℃，一般洗完10000片左右更换一次药液清洗所用的洗液。

进一步地，药液清洗所用洗液的温度为50℃，洗液中硅片专用清洗剂的体积分数为4%。

作为优选，碱洗和超声漂洗的温度均为35℃～45℃。

进一步地，碱洗和超声漂洗的温度均为40℃。

作为优选，第一次超声清洗、第二次超声清洗、第一次药液清洗、第三次超声清洗、第二次药液清洗、碱洗、第一次超声漂洗、第二次超声漂洗、第三次超声漂洗和第四次超声漂洗的时间均为500～600秒。

采用上述技术方案所产生的有益效果在于：本发明的创新之处在于金刚石硅片专用碱洗液的发明，为了解决金刚石硅片清洗不干净的问题，发明人先后试用了多家现成清洗剂产品，还尝试过酒精清洗等方式，但都不尽理想，最终通过增加碱洗的方式控制住了金刚石硅片清洗易出黑斑及制绒花斑的问题，本金刚石硅片专用碱洗液配方简单、低廉易得，但所取得的效果却是本领域的技术人员所意想不到的，因而本发明是金刚石硅片清洗领域的一个重要的技术创新。

总之，本发明能够对硅片表面氧化层进行深度的清洁，从而极大地解决了硅片制绒异常的问题，使硅片转换率得到了提高，保证了金刚石硅片的质量，为后续工序提供了可靠的质量保障，降低了金刚石硅片的整体生产成本，极具推广应用价值。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

一种金刚石硅片专用碱洗液，其为双氧水和氢氧化钾的混合溶液，其中双氧水的体积分数为6%，氢氧化钾的质量分数为0.6%。

一种金刚石硅片清洗工艺，其包括第一次超声清洗、第二次超声清洗、第一次药液清洗、第三次超声清洗、第二次药液清洗、碱洗、第一次超声漂洗、第二次超声漂洗、第三次超声漂洗和第四次超声漂洗，超声清洗及超声漂洗所用洗液为经过离子化的纯水，药液清洗所用洗液为由硅片专用清洗剂配置的水溶液，其中硅片专用清洗剂的体积分数为4%，碱洗所用洗液为金刚石硅片专用碱洗液，该金刚石硅片专用碱洗液为双氧水和氢氧化钾的混合溶液，混合溶液中双氧水的体积分数为6%，氢氧化钾的质量分数为0.6%，超声清洗的温度为常温，超声漂洗和碱洗的温度均为40℃，药液清洗的温度为50℃，第一次超声清洗、第二次超声清洗、第一次药液清洗、第三次超声清洗、第二次药液清洗、碱洗、第一次超声漂洗、第二次超声漂洗、第三次超声漂洗和第四次超声漂洗的时间均为600秒。

以上具体实施方式只是本发明的较优实施方式，事实上，金刚石硅片专用碱洗液中双氧水的体积分数也可为4%或8%，氢氧化钾的质量分数也可为0.4%或0.8%；金刚石硅片清洗工艺中，药液清洗所用洗液中硅片专用清洗剂的体积分数也可为3%或5%，超声漂洗和碱洗的温度也可为35℃或45℃，药液清洗的温度也可为45℃或55℃，第一次超声清洗、第二次超声清洗、第一次药液清洗、第三次超声清洗、第二次药液清洗、碱洗、第一次超声漂洗、第二次超声漂洗、第三次超声漂洗和第四次超声漂洗的时间也可为500秒、520秒、550秒或570秒。

本发明能够对硅片表面氧化层进行深度的清洁，从而极大地解决了硅片制绒异常的问题，使硅片转换率得到了提高，具有良好的推广应用前景。

Claims

1.一种金刚石硅片专用碱洗液，其特征在于：为双氧水和氢氧化钾的混合溶液。

2.根据权利要求1所述的金刚石硅片专用碱洗液，其特征在于所述混合溶液中双氧水的体积分数为4%～8%，氢氧化钾的质量分数为0.4%～0.8%。

3.根据权利要求2所述的金刚石硅片专用碱洗液，其特征在于所述混合溶液中双氧水的体积分数为6%，氢氧化钾的质量分数为0.6%。

4.一种金刚石硅片清洗工艺，其包括超声清洗、药液清洗和超声漂洗，其特征在于：还包括碱洗，碱洗在超声漂洗之前进行，碱洗所用的洗液为如权利要求1～3中的任一项所述的金刚石硅片专用碱洗液。

5.根据权利要求4所述的金刚石硅片清洗工艺，其特征在于所述超声清洗、药液清洗、超声漂洗和碱洗的具体次序为：第一次超声清洗、第二次超声清洗、第一次药液清洗、第三次超声清洗、第二次药液清洗、碱洗、第一次超声漂洗、第二次超声漂洗、第三次超声漂洗和第四次超声漂洗。

6.根据权利要求4所述的金刚石硅片清洗工艺，其特征在于所述药液清洗所用的洗液为硅片专用清洗剂的水溶液，该水溶液中硅片专用清洗剂的体积分数为3%～5%，该水溶液的温度为45℃～55℃。

7.根据权利要求6所述的金刚石硅片清洗工艺，其特征在于所述水溶液的温度为50℃，水溶液中硅片专用清洗剂的体积分数为4%。

8.根据权利要求4所述的金刚石硅片清洗工艺，其特征在于所述碱洗和超声漂洗的温度均为35℃～45℃。

9.根据权利要求8所述的金刚石硅片清洗工艺，其特征在于所述碱洗和超声漂洗的温度均为40℃。

10.根据权利要求5所述的金刚石硅片清洗工艺，其特征在于所述第一次超声清洗、第二次超声清洗、第一次药液清洗、第三次超声清洗、第二次药液清洗、碱洗、第一次超声漂洗、第二次超声漂洗、第三次超声漂洗和第四次超声漂洗的时间均为500～600秒。