CN105021627B - 光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法 - Google Patents

Abstract

光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法涉及光学薄膜及元件的激光损伤与寿命测试领域应用，该方法以He‑Ne光散射探测法作为主要探测方法，以显微CCD成像探测法作为辅助探测方法，针对每一个测试样品点，首先采用He‑Ne光散射探测法作为光学薄膜及元件表面激光损伤判别的依据，若He‑Ne光散射探测法的结果显示光学薄膜及元件表面发生损伤，则暂停He‑Ne光散射探测法，记录辐射激光的脉冲数，然后利用显微CCD成像探测法的结果对He‑Ne光散射探测法的结果进行确认，之后采用相同方法测试下一个测试点，进而完成整个表面激光损伤的探测。本发明将He‑Ne光散射法和显微CCD探测法有效结合起来，可以极大提高光学薄膜及元件表面激光损伤在线探测的灵敏度和可靠性。

Description

光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法

技术领域

本发明涉及光学薄膜及元件的激光损伤与寿命测试领域应用，特别涉及一种光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法。

背景技术

光学薄膜及元件的激光损伤问题一直是限制激光器向更高能量和功率发展、并影响整个激光应用系统使用寿命的主要因素之一。研究提高光学薄膜及元件的抗激光损伤阈值具有非常重要的实际意义。

进行光学薄膜及元件抗激光损伤阈值测试的前提之一是对光学薄膜及元件的表面损伤进行探测和判别，光学薄膜及元件的表面损伤探测和判别结果对于光学薄膜及元件抗激光损伤阈值测试结果准确性具有重要影响。目前实际用于光学薄膜及元件激光损伤判定的方法包括等离子体闪光法、光热偏转法、微分干涉显微镜观测法及光散射法。等离子体闪光法是根据激光辐射过程中产生的等离子体闪光作为判断损伤是否发生的依据，存在一定的非客观性，且等离子体闪光强度和光学薄膜及元件损伤程度之间并不存在定量的关系。上述因素导致等离子体闪光法用于光学薄膜及元件激光损伤判定存在着明显的不足，尤其是在光学薄膜及元件激光损伤的在线检测应用中。光热偏转法是利用激光辐射过程中辐照点位置产生热形变导致监测光束发生偏转，以此作为判定光学薄膜及元件是否被激光损伤的依据。这种方法具有较高的灵敏度，但是这也导致其会出现一些误判。

在光学薄膜及元件激光损伤测试国际标准ISO 21254(参见文献2011“Testmethods for laser-induced damage threshold”,International Organization forStandardization.)中，选择微分干涉显微镜法作为光学薄膜及元件激光损伤离线检测的标准方法。这种方法依据在放大倍率100-200倍时，能否观察到损伤作为光学薄膜及元件是否损伤的判断标准。这种方法准确性较高，结果相对直观，易于比较判别，但是在实际使用中也存在一些不足之处：首先当样品的辐射点损伤不明显时，其损伤形貌难于在离线显微镜中被准确定位，由此会带来是否损伤判断的失误；其次，在微分干涉显微镜观测中，由于其照明强度相对较弱及观察面聚焦的问题，当放大倍率超过200倍时，显微成像的清晰度将退化，使得表面形貌的观察和准确判断存在困难，难于观察判别尺寸更小或微弱的损伤形貌，由此制约了这种方法的灵敏度。

作为微分干涉显微镜法的补充，国际标准ISO 21254将光散射法作为光学薄膜及元件激光损伤在线检测的标准方法。这种方法是通过比较激光辐照前后，光学薄膜及元件表面对He-Ne激光散射的强弱变化来判定被辐照表面是否发生损伤。在其它因素不变的情况下，He-Ne光散射的强度与光学薄膜及元件表面的损伤程度存在定量的关系，即光学薄膜及元件表面损伤越严重，所探测到的He-Ne光散射强度越强。作为一种弱信号检测，He-Ne散射光的探测通常采用锁相信号放大探测方法，其灵敏度较高，探测响应速率也较快。因此，He-Ne光散射法是一种相对经济实用的光学薄膜及元件激光损伤在线探测方法。但是He-Ne光散射法探测结果受辐射区域薄膜样品表面Ne-He光束的稳定性以及弱信号探测过程中的电放大等因素的影响较大，其探测结果存在一定的误差，由此制约了这种方法的广泛有效应用。

近年来，随着CCD相机技术的快速发展，研究人员开始尝试将显微镜和CCD相机结合起来使用，实时在线观察被激光辐射区域的样品表面，用于光学薄膜及元件表面激光损伤的在线判别技术。这种方法实质上与离线的微分干涉显微镜法类似，因此具有直观可靠的特点。但是在实际使用中，由于受CCD相机的响应速率和图像处理速率的制约，这种方法可实现的探测速率受到制约，只能用于相对较低的测试重频。此外，目前这种方法一般均采用损伤辐照激光作为显微成像的照明光源，在实际使用过程中受成像照明光源均匀性和稳定性的影响严重。

综上所述，尽管目前国际标准ISO 21254已对光学薄膜及元件激光损伤与寿命测试中元件表面损伤的判别方法进行了明确规定，但是，在实际工作开展中，往往只采用上述三种方法中的某种方法，而由上面的分析知道，上述三种方法目前均存在明显不足，使得现有方法探测灵敏度不理想，尤其是元件损伤的在线快速探测方面存在明显不足，随着对光学薄膜及元件激光表面损伤的判别灵敏度要求的进一步提高，急需发展具有更高灵敏度和可靠性的光学薄膜及元件激光损伤在线快速探测方法。

发明内容

为了克服光学薄膜及元件在激光损伤与寿命测试中其表面损伤的高灵敏度快速在线探测技术存在的缺陷，进一步提高光学薄膜及元件表面激光损伤与寿命测试结果的准确性和可重复性，本发明提供一种光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法。

为了实现光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测，本发明将He-Ne光散射法和在线显微CCD探测法结合起来，利用这两种方法各自的特点，使这两种方法既相互补充，又相互促进。首先，通过以下方法提高现有He-Ne散射光法的探测灵敏度和准确性：1)通过在传输光路中的He-Ne光束束腰等合适的位置处，采用光阑将He-Ne光束传输过程的杂散光尽可能屏蔽掉，选择合适的散射收集位置、角度和范围，及优化散射信号的锁相放大探测的参数，尽可能降低散射光信号探测值的波动，提高探测信号的稳定性；2)借助在线显微CCD成像功能，利用柱面镜和透镜等组合对He-Ne光束进行合理整形，使得在光学薄膜及元件表面被激光辐照位置处，He-Ne光束的位置和大小与激光损伤辐射光束的位置和大小尽可能一致，并且光束能量分布尽可能均匀，降低非激光损伤辐照位置散射光的影响，从而最大限度地提高探测的灵敏度和有效性。其次，借助光学薄膜及元件样品表面的被辐照位置处He-Ne光的均匀强光照明功能，使得光学薄膜及元件样品被辐照表面的在线显微CCD成像探测的对比度显著提高，从而可以准确探测到更微小或微弱的损伤，大大提高光学薄膜及元件样品表面激光损伤探测的灵敏性和准确性。

本发明所采取的技术方案如下：

光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法，其以He-Ne光散射探测装置实现的He-Ne光散射探测法作为主要探测方法，以在线显微CCD探测装置实现的显微CCD成像探测法作为辅助探测方法，针对每一个测试样品点，首先采用所述的He-Ne光散射探测法作为光学薄膜及元件表面激光损伤判别的依据，若He-Ne光散射探测法的探测结果显示光学薄膜及元件表面发生损伤，则暂停He-Ne光散射探测法，记录辐射激光的脉冲数，然后利用显微CCD成像探测法的结果对He-Ne光散射探测法的探测结果进行确认，之后采用上述相同的方法进行下一个测试样品点的测试，进而完成光学薄膜及元件整个表面激光损伤的探测。

上述He-Ne光散射探测装置包括：He-Ne激光器、斩波器、聚焦透镜组、平面反射镜、x-y二维电移台、光挡、散射光收集镜、Si光电放大器和锁相放大器；He-Ne激光器发射He-Ne激光，经斩波器产生调制He-Ne激光脉冲，进入整形聚焦透镜组，聚焦后的He-Ne激光脉冲入射到平面反射镜，通过x-y二维电移台调整被测试光学薄膜元件的角度，使得经平面反射镜反射后的光线以55°角度斜入射到被测试光学薄膜元件表面，并沿与被测试光学薄膜元件表面法线成55°方向反射，在反射光路中放置光挡将He-Ne反射光束挡住，在光挡后面放置散射光收集镜用于收集被测试光学薄膜元件表面产生的He-Ne散射光，散射光收集镜的光轴方向与He-Ne光束反射方向成10°～20°夹角，在散射光收集镜的后聚焦点处放置Si光电放大器，Si光电放大器产生的电信号传输到锁相放大器中，产生一个直流电压信号，经数据采集卡输入到计算机中。

上述He-Ne光散射探测法包括如下步骤：首先在激光辐射被测试光学薄膜元件表面之前，由所述He-Ne光散射探测装置对被测试光学薄膜元件表面进行一次He-Ne光散射探测，记录所得到的直流电压信号，并作为比较基准；其次，启动损伤测试激光发射脉冲，在每个损伤测试激光脉冲之后，立即由所述He-Ne光散射探测装置对被测试光学薄膜元件表面进行一次He-Ne光散射探测，将所得到的直流电压信号与辐射之前得到的基准值进行比较；若比较得到的值没有达到或没有超过设定数值，则认为被测试光学薄膜元件表面没有发生损伤，继续发射损伤测试激光脉冲辐射被测试光学薄膜元件表面；若比较得到的值已超过设定数值，则认为被测试光学薄膜元件表面已发生损伤，此时立即停止损伤测试激光脉冲的辐射。

上述在线显微CCD探测装置包括：显微物镜、光衰减片和CCD相机；所述在线显微CCD探测装置实现的显微CCD成像探测法的过程是：He-Ne光散射探测装置所产生的He-Ne激光辐照在被测试光学薄膜元件表面，作为显微物镜的成像照明光源，显微物镜选用放大倍数20X的平场消色差物镜，其焦距长10mm，工作距离35mm，数值孔径0.30，分辨率1微米，调节显微物镜的纵向位置，使被测试光学薄膜元件表面位于显微物镜的入射焦点面附近，被测试光学薄膜元件表面被照明区域的光信号入射到显微物镜，由显微物镜出射的光信号经过光衰减片衰减之后，在高灵敏度CCD相机的像素面成像，进而可以观察到被测试光学薄膜元件表面被辐照区域表面的高分辨清晰形貌；通过对比损伤激光脉冲辐射前后的被测试光学薄膜元件被辐照表面处的形貌，可以高灵敏地观察到被测试光学薄膜元件表面形貌出现的变化，由此判断被辐照表面是否出现损伤。

本发明的有益效果如下：

由于现有进行光学薄膜及元件表面激光损伤在线探测时通常只采用某一种方法，由此导致下面一些明显的不足之处：当仅采用He-Ne光散射法时，由于没有显微CCD观察手段，He-Ne光与辐射激光的重斑精度往往不够，且不同测试点存在不同的重斑精度，由此会导致损伤探测准确度波动。当仅采用显微CCD成像探测法时，采用白光或辐射光照明时，其探测效果和灵敏性远比采用He-Ne光的稳定强光照明时的效果差。本发明的探测方法将He-Ne光散射法和显微CCD探测法结合后形成一种新的探测方法，通过将这两种方法各自的功能特点有机结合起来，使一种方法可以极大地提高另外一种方法的效果：一方面借助在线显微CCD成像功能，可以容易使得在光学薄膜及元件样品表面的被辐照位置处，He-Ne光束的大小位置与激光损伤辐射光束的大小位置尽可能一致，并且光束能量分布尽可能均匀，从而最大限度地降低非激光损伤辐照处散射光的影响，由此可以极大地提高散射探测及损伤判断的灵敏度及结果的可靠性。另一方面，均匀强He-Ne光的照明功能，使得光学薄膜及元件样品被辐照表面的在线显微CCD成像探测对比度显著提高，从而可以探测到更微小和微弱的损伤形貌，由此大大提高这种方法进行光学薄膜及元件样品表面激光损伤探测的灵敏性和准确性。因此，采用本发明的方法，实现了显著提高光学薄膜及元件表面激光损伤在线探测的灵敏度和可靠性。

附图说明

图1为本发明的光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法实现装置的结构示意图。

图2为本发明中的He-Ne光散射探测法的光路示意图。

图3为本发明中的显微CCD探测法的光路示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明做进一步详细说明。

本发明光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法是以He-Ne光散射探测装置实现的He-Ne光散射探测法作为主要探测方法，以在线显微CCD探测装置实现的显微CCD成像探测法作为辅助探测方法，针对每一个测试样品点，首先采用所述的He-Ne光散射探测法作为光学薄膜及元件表面激光损伤判别的依据，若He-Ne光散射探测法的探测结果显示光学薄膜及元件表面发生损伤，则暂停He-Ne光散射探测法，记录辐射激光的脉冲数，然后利用显微CCD成像探测法的结果对He-Ne光散射探测法的探测果进行确认，之后采用上述相同的方法进行下一个测试样品点的测试，进而完成光学薄膜及元件整个表面激光损伤的探测。

由图1所示，本发明光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法实现装置包括：He-Ne光散射探测装置和在线显微CCD探测装置，这两个探测装置可以分别对光学薄膜及元件表面激光损伤进行在线探测。所述He-Ne光散射探测装置包括：He-Ne激光器11、斩波器12、整形聚焦透镜组13、平面反射镜14、x-y二维电移台15、光挡17、散射光收集镜18、Si光电放大器19和锁相放大器20。所述在线显微CCD探测装置包括：显微物镜21、光衰减片22和CCD相机23。

所述He-Ne光散射探测装置进行散射光探测的基本过程如下：所述He-Ne激光器11发射激光，He-Ne激光器11的激光输出功率5mW，输出功率波动<2％，He-Ne激光束首先经过斩波器12斩波，斩波器12的最大斩波频率1000Hz，斩波之后产生调制的He-Ne激光脉冲，进入整形聚焦透镜组13，该整形聚焦透镜组13可以根据被测试光学薄膜及元件16表面的辐射损伤激光光斑的实际形状和大小，选用合适类型和数量的透镜组合，透镜组合可以包括透镜、柱面透镜等。以辐射损伤激光光斑为平顶型的ArF激光损伤测试系统为例，该聚焦透镜组13包含一个双面透镜和一个平凹透镜，其中双面透镜采用BK7材料，焦距为175mm左右，平凹透镜采用熔石英材料，焦距为-30mm左右，为了降低激光传输整形过程中产生的杂散光影响，在平凹透镜后面的合适位置处放置光阑。He-Ne激光通过上述聚焦透镜组和光阑之后入射至平面反射镜14，通过x-y二维电移台15调整被测试光学薄膜及元件16的角度，使得经平面反射镜14反射后的光线，以55°角度斜入射到被测试光学薄膜及元件16表面，在被测试光学薄膜及元件16表面形成大小为280μm x540μm的类平顶型光斑，并沿与法线成55°左右反射出去，在反射光路中放置特定形状的光挡17，刚好仅将He-Ne反射光束挡住，并让特定角度方向的He-Ne散射光通过，光挡17采用镀黑的Al箔构造，形状为横条状凹槽，凹槽开口面的长度为50mm，宽为5mm。将光挡17水平放置，其凹槽开口面与He-Ne反射光束垂直，光挡17的一端固定在光学支架上面，沿He-Ne反射光束垂直方向调节光挡17的位置，使He-Ne反射光束入射到光挡17的另一端槽内，距槽的侧面5mm，这样可以将He-Ne反射光束挡住，而被测试光学薄膜及元件16表面产生的其它方向的He-Ne散射光则可以通过。在光挡17的后面放置一个散射光收集镜18用于收集He-Ne散射光，散射光收集镜18的光轴方向与He-Ne光束反射方向成10°～20°夹角，在散射光收集镜18的后焦点处放置Si光电放大器19，Si光电放大器19将探测到的He-Ne散射光转换为电信号，并传输到锁相放大器20中。锁相放大器20具有相位和振幅工作模式，电压响应范围为2nv-1v，频率范围为1mk-120KHz，锁相放大器20对Si光电放大器19和斩波器12输入的两路电信号进行频率锁相和电放大处理，生成一个表征He-Ne散射光强度的直流电压信号，该直流电压信号经数据采集卡输入到计算机24的程序中。

所述He-Ne光散射探测装置实现光学薄膜及元件表面激光损伤在线探测的基本方式如下：首先在激光辐射被测试光学薄膜及元件16表面之前，进行一次上述的He-Ne光散射探测，记录所得到的直流电压信号，并作为比较基准；其次，启动损伤测试激光发射脉冲，在每个损伤测试激光脉冲之后，立即进行一次上述的He-Ne光散射探测，将所得到的直流电压信号与辐射之前得到的基准值进行比较。如果比较得到的值没有达到或没有超过设定数值时，即认为被测试光学薄膜及元件16表面没有发生损伤，继续发射损伤激光脉冲辐射被测试光学薄膜及元件16表面；反之，如果比较得到的值已超过设定数值时，即认为被测试光学薄膜及元件16表面已发生损伤，此时立即停止损伤测试激光脉冲的辐射。

所述在线显微CCD探测装置实现光学薄膜及元件表面激光损伤在线探测的基本方式如下：He-Ne光散射探测装置所产生的He-Ne激光辐照在被测试光学薄膜及元件16表面，作为显微物镜21的成像照明光源，显微物镜21选用放大倍数20X的平场消色差物镜，其焦距长10mm，工作距离35mm，数值孔径0.30，分辨率1微米，调节显微物镜21的纵向位置，使被测试光学薄膜及元件16表面位于显微物镜21的入射焦点面附近，被测试光学薄膜及元件16表面被照明区域的光信号入射到显微物镜21，由显微物镜21出射的光信号经过光衰减片22衰减之后，在高灵敏度CCD相机23的像素面成像，CCD相机23采用超高灵敏度的背减薄CCD传感器，波长响应范围覆盖紫外-可见-近红外光波段。由于采用He-Ne光束作为成像照明光源，因此，采用上述在线显微CCD探测装置可以观察到被测试光学薄膜及元件16表面被辐照区域表面的高分辨清晰形貌。通过对比损伤激光脉冲辐射前后的样品被辐照表面处的形貌，可以十分灵敏地观察到被辐照光学薄膜及元件16表面形貌出现的微弱变化，由此判断被辐照表面是否出现损伤。

本发明光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法包含的两种探测方式均可以单独用于光学薄膜及元件表面激光损伤的在线探测，且较传统采用其中一种方法的效果显著提高，传统的两种探测方式各自存在一些不完美之处：首先，尽管He-Ne光散射探测方式理论上可以实现最佳的探测灵敏度，但是实际测试过程中由于被辐射表面状况的不同，以及各种光和电噪声的客观存在，决定了这种方法做出的损伤判断不可能是100％准确，也会出现损伤误判的个别情况；而显微CCD探测方式是最直观可靠的方法，同时其高分辨率也使得其灵敏度很高，但是由于受制于相对较低的CCD响应速率和图像处理速率，以及表面显微图像的复杂性，这种方法的探测速率目前还相对较低，并且难于在未来实现探测速率的快速提高；基于上述实际情况，在S-on-1模式的光学薄膜及元件激光损伤与寿命测试使用中，本发明将He-Ne光散射法和显微CCD探测法结合起来使用，以发挥两种方法各自的优点，尽可能提高光学薄膜及元件表面激光损伤在线探测的灵敏度和速率。本发明的探测方法以He-Ne光散射法作为主要方法，以在线显微CCD探测法作为辅助方法，利用在线显微CCD探测法的结果对He-Ne光散射法的探测结果进行确认，实现了显著提高光学薄膜及元件表面激光损伤在线探测的灵敏度和可靠性。

Claims (4)

1.光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法，其特征在于，该方法以He-Ne光散射探测装置实现的He-Ne光散射探测法作为主要探测方法，以在线显微CCD探测装置实现的显微CCD成像探测法作为辅助探测方法，针对每一个测试样品点，均采用与下述步骤a至步骤b相同的方法进行测试：步骤a、采用所述的He-Ne光散射探测法作为光学薄膜及元件表面激光损伤判别的依据，若He-Ne光散射探测法的探测结果显示光学薄膜及元件表面发生损伤，则暂停He-Ne光散射探测法，记录辐射激光的脉冲数；步骤b、利用显微CCD成像探测法的结果对He-Ne光散射探测法的探测结果进行确认；进而完成光学薄膜及元件整个表面激光损伤的探测。

2.如权利要求1所述光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法，其特征在于，所述He-Ne光散射探测装置包括：He-Ne激光器(11)、斩波器(12)、聚焦透镜组(13)、平面反射镜(14)、x-y二维电移台(15)、光挡(17)、散射光收集镜(18)、Si光电放大器(19)和锁相放大器(20)；He-Ne激光器(11)发射He-Ne激光，经斩波器(12)产生调制He-Ne激光脉冲，进入整形聚焦透镜组(13)，聚焦后的He-Ne激光脉冲入射到平面反射镜(14)，通过x-y二维电移台(15)调整被测试光学薄膜元件(16)的角度，使得经平面反射镜(14)反射后的光线以55°角度斜入射到被测试光学薄膜元件(16)表面，并沿与被测试光学薄膜元件(16)表面法线成55°方向反射，在反射光路中放置光挡(17)将He-Ne反射光束挡住，在光挡(17)后面放置散射光收集镜(18)用于收集被测试光学薄膜元件(16)表面产生的He-Ne散射光，散射光收集镜(18)的光轴方向与He-Ne光束反射方向成10°～20°夹角，在散射光收集镜(18)的后聚焦点处放置Si光电放大器(19)，Si光电放大器(19)产生的电信号传输到锁相放大器(20)中，产生一个直流电压信号，经数据采集卡输入到计算机(24)中。

3.如权利要求2所述光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法，其特征在于，所述He-Ne光散射探测法包括如下步骤：首先在激光辐射被测试光学薄膜元件(16)表面之前，由所述He-Ne光散射探测装置对被测试光学薄膜元件(16)表面进行一次He-Ne光散射探测，记录所得到的直流电压信号，并作为比较基准；其次，启动损伤测试激光发射脉冲，在每个损伤测试激光脉冲之后，立即由所述He-Ne光散射探测装置对被测试光学薄膜元件(16)表面进行一次He-Ne光散射探测，将所得到的直流电压信号与辐射之前得到的基准值进行比较；若比较得到的值没有达到或没有超过设定数值，则认为被测试光学薄膜元件(16)表面没有发生损伤，继续发射损伤测试激光脉冲辐射被测试光学薄膜元件(16)表面；若比较得到的值已超过设定数值，则认为被测试光学薄膜元件(16)表面已发生损伤，此时立即停止损伤测试激光脉冲的辐射。

4.如权利要求1所述光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法，其特征在于，所述在线显微CCD探测装置包括：显微物镜(21)、光衰减片(22)和CCD相机(23)；所述在线显微CCD探测装置实现的显微CCD成像探测法的过程是：He-Ne光散射探测装置所产生的He-Ne激光辐照在被测试光学薄膜元件(16)表面，作为显微物镜(21)的成像照明光源，显微物镜(21)选用放大倍数20X的平场消色差物镜，其焦距长10mm，工作距离35mm，数值孔径0.30，分辨率1微米，调节显微物镜(21)的纵向位置，使被测试光学薄膜元件(16)表面位于显微物镜(21)的入射焦点面附近，被测试光学薄膜元件(16)表面被照明区域的光信号入射到显微物镜(21)，由显微物镜(21)出射的光信号经过光衰减片(22)衰减之后，在高灵敏度CCD相机(23)的像素面成像，进而可以观察到被测试光学薄膜元件(16)表面被辐照区域表面的高分辨清晰形貌；通过对比损伤激光脉冲辐射前后的被测试光学薄膜元件(16)被辐照表面处的形貌，可以高灵敏地观察到被测试光学薄膜元件(16)表面形貌出现的变化，由此判断被辐照表面是否出现损伤。