CN104945609A - 含全氟亚烷基醚的化合物及表面保护膜 - Google Patents

含全氟亚烷基醚的化合物及表面保护膜 Download PDF

Info

Publication number
CN104945609A
CN104945609A CN201510104786.6A CN201510104786A CN104945609A CN 104945609 A CN104945609 A CN 104945609A CN 201510104786 A CN201510104786 A CN 201510104786A CN 104945609 A CN104945609 A CN 104945609A
Authority
CN
China
Prior art keywords
general formula
group
compound
perfluorinated alkylidene
integer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201510104786.6A
Other languages
English (en)
Inventor
三枝浩
佐野龙辉
宫原知子
鸟越薰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Publication of CN104945609A publication Critical patent/CN104945609A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
    • C08F222/20—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/62—Halogen-containing esters
    • C07C69/65—Halogen-containing esters of unsaturated acids
    • C07C69/653—Acrylic acid esters; Methacrylic acid esters; Haloacrylic acid esters; Halomethacrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/73—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
    • C07C69/734—Ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D135/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least another carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D135/02—Homopolymers or copolymers of esters

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polyethers (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本发明提供由下面通式(1)表示的含全氟亚烷基醚的化合物：其中R1和R2各自独立地表示氟原子或三氟甲基，条件是R1和R2不同时为氟原子，n1表示从1至5的整数，n2表示从0至2的整数，n1和n2的总和小于或等于5，m表示大于或等于1的整数，A1和A2各自独立地表示二价基团，B1和B2各自独立地表示单键或二价基团，以及X1和X2各自独立地表示具有至少一种反应性交联基团的一价基团。

Description

含全氟亚烷基醚的化合物及表面保护膜
技术领域
本发明涉及一种含全氟亚烷基醚的化合物和表面保护膜。
背景技术
在相关现有技术中，在多个领域从防止表面损伤的角度看，已经在表面上设置了表面保护膜。
专利文献1披露了这样一种定影辊，其中通过在辊状基材的外表面上经由橡胶层而形成氟树脂层，从而制得定影辊，其中所述氟树脂层由这样的氟树脂混合物形成，该氟树脂混合物含有：20重量％至97重量％的(A)平均粒径为1μm至15μm的四氟乙烯-全氟代烷基乙烯基醚共聚物(PFA)；以及3重量％至80重量％的(B)平均粒径为1μm以下的聚四氟乙烯(PTFE)。
专利文献2披露了通过在轴芯体上直接设置氟化树脂覆盖层或隔着其他覆盖层而设置氟化树脂覆盖层从而形成的辊，该辊的表面被交联的氟化树脂覆盖，其中所述氟化树脂覆盖层的表面包括由非交联的氟化树脂形成的内周表面侧，和由交联的氟化树脂形成的外周表面侧。
专利文献3公开了一种聚氨酯(甲基)丙烯酸酯类化合物以及采用所述聚氨酯(甲基)丙烯酸酯类化合物的活性能量射线可固化的树脂组合物，该聚氨酯(甲基)丙烯酸酯类化合物是如下形成的：分别使三价或更高价的多异氰酸酯系化合物(a1)中的异氰酸酯基团与含氟醇系化合物(a2)中的羟基，以及与含羟基的(甲基)丙烯酸酯系化合物(a3)中的羟基之间，形成氨基甲酸酯键。
专利文献4公开了一种用于薄膜保护层的活性能量射线可固化树脂组合物，所述薄膜保护层含有活性能量射线可固化树脂组合物和浊度小于20％的反应性氟防污剂(该反应性氟防污剂包含具有一个活性氢的全氟聚醚以及具有活性氢和碳碳双键的单体)，专利文献4还公开了由所述用于薄膜保护层的活性能量射线可固化树脂组合物的硬化材料形成的光学片材，以及一种保护性粘合膜(其中在薄膜上形成有由所述用于薄膜保护层的活性能量射线可固化树脂组合物的硬化材料形成的保护层，并且在该薄膜的背面设置有粘附性表面。
[专利文献1]JP-A-10-142990
[专利文献2]JP-A-2003-36002
[专利文献3]JP-A-2004-204096
[专利文献4]JP-A-2010-222524
发明内容
本发明的目的是提供一种能够形成交联产物的含全氟亚烷基醚的化合物，所述交联产物兼具耐损伤性和耐热性。
上述目的是通过以下方案来实现的。
本发明的第一个方面提供了由下述通式(1)表示的含全氟亚烷基醚的化合物：
在该通式(1)中，R1和R2各自独立地表示氟原子或三氟甲基，条件是R1和R2不同时为氟原子，
n1表示从1至5的一个整数，n2表示从0至2的一个整数，并且n1和n2的总和小于或等于5，m表示大于或等于1的一个整数，
A1和A2各自独立地表示由下述通式(2)表示的二价基团，
B1和B2各自独立地表示单键或选自下述(B-1)至(B-3)的二价基团，
X1和X2各自独立地表示具有至少一种选自下述(X-1)至(X-8)的反应性交联基团的一价基团，X1和X2可以各自独立地具有一个或多个基团，该一个或多个基团具有通过把X1或X2从通式(1)中排除而得到的结构；条件是当B1是单键或下列(B-1)时，X1是具有两个或更多个反应性交联基团的一价基团，或者是这样一种一价基团：其具有一个或更多个反应性交联基团以及一个或多个具有通过把X1从通式(1)中排除而得到的结构的基团，以及当B2是单键或下列(B-1)时，X2是具有两个或更多个反应性交联基团的一价基团，或者是这样一种一价基团：其具有一个或更多个反应性交联基团以及一个或多个具有通过把X2从通式(1)中排除而得到的结构的基团；
在该通式(2)中，R3和R4各自独立地表示氟原子或三氟甲基，条件是R3和R4不同时为氟原子，
n3表示从0至5的整数，n4表示从0至2的整数，n5表示大于或等于0的整数，n6表示0或1，n7表示大于或等于0的整数，条件是n3、n4、n5、n6不同时为0；
由通式(2)表示的二价基团在(*1)位置与全氟亚烷基醚结构键合；
(B-1)至(B-3)各自在(#2)位置与X1或X2键合；
(X-1)中的RX1表示氢原子、甲基或三氟甲基；(X-6)中的RX2表示氢原子或烷基；以及(X-8)中的RX3表示烷基。
本发明的第二方面是，在根据本发明第一方面所述的含全氟亚烷基醚的化合物中，在通式(1)中，n1表示从1至3的一个整数，n2是0或1，并且n1和n2的总和为1到3。
本发明的第三方面是，在根据本发明第一方面所述的含全氟亚烷基醚的化合物中，在通式(1)中，m表示从2至100的一个整数。
本发明的第四方面是，在根据本发明第一方面所述的含全氟亚烷基醚的化合物中，在通式(1)中，m表示从5至50的一个整数。
本发明的第五方面是，在根据本发明第一方面所述的含全氟亚烷基醚的化合物中，在通式(2)中，n5和n6的总和小于或等于2。
本发明的第六方面是，在根据本发明第一方面所述的含全氟亚烷基醚的化合物中，在通式(2)中，n5和n6的总和小于或等于1。
本发明的第七方面是，在根据本发明第一方面所述的含全氟亚烷基醚的化合物中，由A1和A2表示的二价基团选自(A-1)至(A-12)：
(A-1)  (*1)-CF2-CF2-CF2-CH2-(*2)
(A-2)  (*1)-CF2-CF2-CH2-(*2)
(A-3)  (*1)-CF2-CH2-(*2)
(A-4)  (*1)-CH2-CH2-(*2)
(A-5)  (*1)-CH2-(*2)
其中该二价基团在(*1)位置与通式(1)中的全氟亚烷基醚结构键合。
本发明的第八方面是，在根据本发明第一方面所述的含全氟亚烷基醚的化合物中，在通式(1)中，B1和B2均为由(B-1)表示的二价基团。
本发明的第九方面是提供了一种表面保护膜，其具有交联聚合物结构，该交联聚合物结构由根据本发明第一方面所述的含全氟亚烷基醚的化合物形成。
与不存在上述通式(1)表示的结构的情况相比，本发明第一至第八方面提供了这样一种含全氟亚烷基醚的化合物，该化合物能形成兼具耐损伤性和耐热性的交联产物。
与具有通式(1)所示结构的化合物没有交联聚合的情况相比，本发明的第九方面提供了一种兼具耐损伤性和耐热性的表面保护膜。
附图说明
将基于以下附图对本发明的示例性实施方案进行详细说明，其中：
图1是示出根据示例性实施方案的环形带的示意性构造的透视图；
图2是根据示例性实施方案的环形带的截面图；
图3是示出使用了根据示例性实施方案的环形带的成像装置的示意性构造图；以及
图4是示出使用了根据示例性实施方案的环形带的图像定影装置的示意性构造图。
图5是表示实施例中得到的含全氟亚烷基醚的化合物4的标识数据(IR谱线)的曲线图。
图6是表示实施例中得到的含全氟亚烷基醚的化合物4的标识数据(1H-NMR谱线)的曲线图。
图7是表示实施例中得到的含全氟亚烷基醚的化合物5的标识数据(IR谱线)的曲线图。
图8是表示实施例4中得到的表面保护膜样品(加热前)的IR谱线的曲线图。
图9是表示比较例1中得到的表面保护膜样品(加热前)的IR谱线的曲线图。
具体实施方式
以下对本发明的示例性实施方式进行详细说明。
根据本示例性实施例的含全氟亚烷基醚的化合物是由下述通式(1)表示。
在该通式(1)中，R1和R2各自独立地表示氟原子或三氟甲基，条件是R1和R2不同时为氟原子。
n1表示从1至5的整数，n2表示从0至2的一个整数，并且n1和n2的总和小于或等于5，m表示大于或等于1的一个整数。
A1和A2各自独立地表示由下述通式(2)表示的二价基团。
B1和B2各自独立地表示单键或选自下述(B-1)至(B-3)的二价基团。
X1和X2各自独立地表示具有至少一种选自下述(X-1)至(X-8)的反应性交联基团的一价基团。而且，X1和X2可以各自独立地具有一个或多个基团，该一个或多个基团具有通过把X1或X2从通式(1)中排除而得到的结构。当B1是单键或下列(B-1)时，X1是具有两个或更多个反应性交联基团的一价基团，或者是这样一种一价基团：其具有一个或更多个反应性交联基团以及一个或多个具有通过把X1从通式(1)中排除而得到的结构的基团。此外，当B2是单键或下列(B-1)时，X2是具有两个或更多个反应性交联基团的一价基团，或者是这样一种一价基团：其具有一个或更多个反应性交联基团以及一个或多个具有通过把X2从通式(1)中排除而得到的结构的基团。
在该通式(2)中，R3和R4各自独立地表示氟原子或三氟甲基，条件是R3和R4不同时为氟原子。
n3表示从0至5的一个整数，n4表示从0至2的一个整数，n5表示大于或等于0的一个整数，n6表示0或1，n7表示大于或等于0的一个整数，条件是n3、n4、n5、n6不同时为0。
此外，由通式(2)表示的二价基团在(*1)位置与全氟亚烷基醚结构键合；
(B-1)至(B-3)各自在(#2)位置与X1或X2键合；
(X-1)中的RX1表示氢原子、甲基或三氟甲基。(X-6)中的RX2表示氢原子或烷基。(X-8)中的RX3表示烷基。
最近，在各领域从防止表面被划伤的角度出发，一种表面保护膜被布置在所述表面上。对于该表面保护膜，从使表面具有防污性的观点出发，要求该表面保护膜除了具有耐损伤性外还具有脱模性(releasing property)，例如，在该表面保护膜中使用了交联的氟树脂材料。具体而言，人们尝试使用了氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，在该化合物中其中的氨基甲酸酯键是由三价或更高价的多异氰酸酯化合物中的异氰酸酯基团与含氟醇化合物的羟基基团，以及含羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物中的羟基分别形成的。
然而，由于氨基甲酸酯键的存在，所述氟树脂材料并不能获得耐热性，因此，该氟树脂材料不能在高温环境下使用。
与此不同的是，由于根据本示例性实施方案的含全氟亚烷基醚的化合物具有由通式(1)表示的结构，通过使含该全氟亚烷基醚的化合物进行交联聚合而得到交联产物却能获得耐热性，还能得到优良的耐损伤。
据认为，将全氟亚烷基醚结构部分(由[]m包围的部分)与在末端具有反应性交联基团的部分(X1和X2)键合起来的B1和B2，表示单键或表示选自(B-1)至(B-3)的二价基团，并且具有单键和(B-1)至(B-3)中任一种结构的B1和B2并不包括氨基甲酸酯键，因此在本示例性实施方案中获得了优良的耐热性。
此外，在根据本示例性实施方案的化合物中，当B1(或B2)是由下式(B-2)或(B-3)表示的二价基团时，X1(或X2)是具有至少一个选自(X-1)至(X-8)的反应性交联基团的一价基团。也就是说，B1(或B2)具有也是反应性交联基团的碳-碳双键，X1(或X2)具有一个或多个反应性的交联基团，并且一个末端具有至少两个交联基团。因此，通过使上述化合物进行交联聚合，得到了这样一种交联产物，其中具有通过从通式(1)中去除X1(或X2)而得到的结构的基团被交联聚合到以-B1-X1(或-B2-X2)为起点的至少三个部分。
此外，在根据本示例性实施方案的化合物中，当B1(或B2)是单键或由(B-1)表示的二价基团时，X1(或X2)具有两个或多个反应性的交联基团，或具有一个或更多的反应性交联基团并且具有一个或多个通过从通式(1)去除X1而获得的结构的基团。因此，通过使上述化合物进行交联聚合，得到了这样一种交联产物，其中具有通过从通式(1)中去除X1(或X2)而得到的结构的基团被交联聚合到以-X1(或-X2)为起点的至少三个部分。
据认为，具有优异的脱模性的全氟亚烷基醚也具有优良的柔韧性，并且如上所述，具有优异柔韧性的含全氟亚烷基醚结构的主链末端被固定，以形成至少三个部分的交联聚合，因此本示例性实施方案表现出了优异的耐损伤性。
含全氟亚烷基醚的化合物
下面将对根据本实施方案的通式(1)表示的含全氟亚烷基醚的化合物的结构进行更详细的说明。
首先，通式(1)包括由[]m包围的全氟亚烷基醚结构部分。在该全氟亚烷基醚结构部分中，R1和R2各自独立地表示氟原子或三氟甲基，条件是R1和R2不同时为氟原子。
n1表示1至5的一个整数，n2表示0至2的一个整数，并且n1和n2的总和小于或等于5。另外，n1优选为1到3，n2优选为0或1，以及n1和n2的总和优选为1至3。
m表示[]所包围的全氟亚烷基醚结构部分的数目，是大于或等于1的一个整数。此外，当m大于或等于2时，多个全氟亚烷基醚结构(-(CF2)n1-(C(R1)(R2))n2-O-)可以具有相同的结构，也可以具有不同的结构。m优选为2至100，更优选为5至50。
作为全氟亚烷基醚结构部分的具体例子([-(CF2)n1-(C(R1)(R2))n2-O-]m)，例如，包括下面的(m-1)～(m-8)所示的结构。此外，在(m-2)、(m-3)和(m-4)中，m1和m2分别独立地表示大于或等于1的一个整数，并且m1和m2的总和为m。
此外，在(m-1)至(m-8)的结构中，(m-2)、(m-6)、(m-7)和(m-8)的结构是优选的，并且(m-2)的结构是更优选的。
在上述通式(1)中，A1和A2各自独立地表示由通式(2)所表示的二价基团。
在上述通式(2)中，R3和R4分别独立地表示氟原子或三氟甲基，条件是R3和R4不同时为氟原子。
n3表示从0至5的一个整数，n4表示从0至2的一个整数，n5表示大于或等于0的一个整数，n6表示0或1，并且n7表示大于或等于0的一个整数，条件是n3、n4、n5、n6不同时为0。
此外，由通式(2)表示的二价基团在与全氟亚烷基醚结构在(*1)位置键合，并且在(*2)位置与(-O-B1-X1)或(-O-B2-X2)键合。
另外，上述通式(2)中，n5和n6的总和优选为小于或等于2，并且n5和n6的总和更优选小于或等于1。
由通式(2)表示的二价基团的优选结构如下。
(A-1)  (*1)-CF2-CF2-CF2-CH2-(*2)
(A-2)  (*1)-CF2-CF2-CH2-(*2)
(A-3)  (*1)-CF2-CH2-(*2)
(A-4)  (*1)-CH2-CH2-(*2)
(A-5)  (*1)-CH2-(*2)
在(A-6)中o表示大于或等于1的一个整数，优选为1至50，并且更优选为1至20。
此外，在结构(A-1)至(A-12)中，具体而言，结构(A-1)、(A-2)、(A-3)、(A-6)、(A-8)、(A-11)和(A-12)是更优选的。
在上述通式(1)中，B1和B2各自独立地表示单键或选自下述(B-1)至(B-3)组成的组中的二价基团。
(B-1)至(B-3)各自在(#2)位置与X1或X2键合，以及在(#1)位置键合于(-O-A1...)或(-O-A2...)侧。
此外，在这些结构中，特别是，作为B1和B2，(B-1)的结构是更优选的。
在上述通式(1)中，当B1(或B2)是(B-2)或(B-3)时，即，B1(或B2)具有反应性的交联基团时，X1(或X2)表示具有至少一个选自以下(X-1)至(X-8)的反应性交联基团的一价基团。
另外，当B1(或B2)为单键或(B-1)时，也就是说，B1(或B2)中不具有反应性交联基团时，X1(或X2)表示具有两个或多个如下所述反应性交联基团的一价基团，或者表示具有一个或多个反应性的交联基团以及一个或多个一个具有通过从通式(1)除去X1(或X2)而得到的结构的基团。
当X1和X2以及B1和B2满足上述构造时，则在通过使所述化合物进行交联聚合而得到的交联产物中获得这样一种结构，即具有通过从通式(1)除去X1(或X2)而获得的结构被交联聚合到以-B1-X1和-B2-X2为起点的至少三个部分。
在(X-1)中的RX1表示氢原子(即，交联基团＝烃基)、甲基(即，交联基＝甲基丙烯酰基)，或三氟甲基。
此外，其中，作为RX1，氢原子、三氟甲基是更优选的。
由(X-3)代表的交联性基团表示环氧基，由(X-4)代表的交联基团表示羟基，(X-5)代表的交联基团表示氨基。
在(X-6)中的RX2表示氢原子(即，交联基团＝羧基)，或烷基(即，交联基团＝酯基)。
此外，作为(X-6)中由RX2表示的烷基基团，优选具有1～18个碳原子数的烷基，更优选具有1至4个碳原子数的烷基。
由RX2表示的烷基可以是直链或支链或环状的任何形状，作为其具体例子包括，甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、正戊基、环戊基、正己基、环己基、2-乙基己基、月桂基、硬脂基，等等。
其中，作为RX2，甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基和异丁基是更优选的。
(X-7)代表的交联基团表示硫醇基。
(X-8)中的RX3表示烷基(即，交联基＝三烷氧基硅基)。
此外，作为(X-8)中由RX3表示的烷基基团，优选具有1～10个碳原子数的烷基，更优选具有1至4个碳原子数的烷基。
由RX3表示的烷基可以是直链或支链或环状的任何形状，作为其具体例子包括，甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、正戊基、环戊基、正己基、环己基、2-乙基己基、月桂基、硬脂基等等。
其中，作为RX3，甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基和异丁基是更优选的。
作为包括在X1和X2之内的反应性交联基团，在(X-1)～(X-8)所示结构中，具体而言，(X-1)、(X-2)、(X-3)、(X-5)、(X-6)、(X-8)所示的结构是优选的，(X-1)、(X-2)、(X-3)、(X-8)所示的结构是更优选的。
包括在X1和X2之内的反应性交联基团的数目优选为1～20，更优选为2至10。
在一个或多个反应性交联基团和X1和X2与B1(或B2)相键合的部分之间，X1和X2可以具有其它的连接基团。即，X1和X2的构造可以是一个或多个反应性的交联基团，其他的二价或更高价的连接基团。
包含在X1和X2之内的连接基团是二价或更高价的有机基团，例如是，由下列结构构成的二价或更高价的有机基团，所述结构为选自烷基链、芳基链的一个、两个或多个的链、醚基(-O-)、羰基(-CO-)和酯基(-CO-O-)相互组合。
作为连接基团的具体例子，例如包括下列有机基团(1)至(6)。此外，在连接基团的以下具体实例中，X1和X2在*位置与B1或B2键合，以及X1和X2在#位置与反应性交联基团键合。
此外，例如，上述连接基团(3)仅具有一个反应性交联基团，因此在本示例性实施方案中，当X1(或X2)是(B-2)或(B-3)时，可以使用连接基团(3)。
此外，如上所述，X1和X2可以具有一个或多个这样的基团，该基团具有通过从通式(1)去除X1或X2而得到的结构，并且在这种情况下，作为该连接基团的具体例子，例如包括下列(7)至(12)所示的有机基团。在该连接基团的以下具体实例中，X1和X2在*位置与B1或B2键合，以及X1和X2在#位置与反应性交联基团键合。
这里，X1和X2的具体的例子如下所述。
首先，作为X1和X2的具体例子的情形所举出的是，其不具有这样一种基团，该基团具有通过从通式(1)中去除X1或X2而获得的结构。以交联性基团(X-1)作为所述反应性的交联基团的情形的例子包括下列的(X-1a)至(X-1f)。此外，下列(X-1a)至(X-1f)中的RX1具有与(X-1)中的RX1相同的定义。
另外，以交联性基团(X-2)作为所述反应性的交联基团的情形的例子包括下列的(X-2a)至(X-2f)。
同样地，以交联基团(X-3)至(X-8)作为所述反应性的交联基团的情形的例子包括这样一种一价基团，在该一价基团中，以(X-3)至(X-8)表示的交联基团与由(1)-(6)表示的连接基团的#位置键合。
接下来所举出的作为X1和X2的具体例子的情形是，其具有一个或多个这样一种基团，该基团具有通过从通式(1)中去除X1或X2而获得的结构。以交联性基团(X-1)作为所述反应性的交联基团的情形的例子包括下列的(X-1g)至(X-1l)。此外，下列(X-1g)至(X-1l)中的RX1具有与(X-1)中的RX1相同的定义。
同样地，以交联基团(X-2)至(X-8)作为所述反应性的交联基团的情形的例子包括这样一种二价或更高价的基团，在该二价或更高价的基团中，以(X-2)至(X-8)所表示的交联基团与由(7)-(12)表示的连接基团的#1位置键合。
下面将对由通式(1)表示的含全氟亚烷基醚化合物的具体例子进行说明。这里，根据本示例性实施方案的含全氟亚烷基醚化合物并不限于下面的例子。
含全氟亚烷基醚的化合物的合成方法
接下来，将对由通式(1)表示的根据本实施方案的含全氟亚烷基醚的化合物的合成方法的例子进行说明。此外，合成本实施方案的含全氟亚烷基醚的化合物的方法并不限于下面的方法。
例如，当合成其中由(B-1)表示的二价基团作为通式(1)中的B1和B2这样一种化合物时，如以下合成路线所示，将在X*的末端具有OH基团的化合物(在此，X*表示通式(1)中的X1或X2)与琥珀酸酐反应，以合成中间产物，该中间产物与通式(1)中在A1和A2的外侧具有OH基的化合物反应，并由此合成通式(1)表示的含全氟亚烷基醚的化合物。
此外，当合成具有由(B-2)和(B-3)表示的二价基团作为B1和B2的化合物时，将如上所述合成路线中的琥珀酸酐更换为衣康酸酐或马来酸酐来合成该化合物。
此外，可以通过使X*-OH与通式(1)中在A1和A2的外侧具有OH基的化合物直接反应来合成其中B1和B2为单键时的化合物，而不用进行通过使X*-OH所表示的化合物与琥珀酸酐反应来获得中间产物的反应步骤。
此外，在其中X1和X2具有一个或多个基团(该基团具有通过从通式(1)中去除X1或X2所获得的结构)的这种化合物的合成方法中，例如，当它是以由(10)或(11)表示的连接基团作为X1和X2中的“连接基团”这种化合物时，该化合物与具有由(5)表示的连接基团的化合物同时合成。
表面保护膜
接下来，将对根据本示例性实施方案的表面保护膜进行说明。
根据本示例性实施方案的表面保护膜具有这样的结构，其中，根据上述本实施方案中的含全氟亚烷基醚的化合物被交联聚合。
表面保护膜的形成方法(交联聚合法)
根据本示例性实施方案的表面保护膜是如下形成的：通过将至少含有根据示例性实施方案的含全氟亚烷基醚的化合物(以下，简称为“根据本实施方案的化合物”)的涂布液涂布在基材上，并进行该化合物的交联聚合。
此外，在根据本示例性实施方案的表面保护膜中，根据本示例性实施方案的化合物可通过交联剂进行交联聚合。
这里，例如，当使用具有由(X-1)或(X-2)表示的交联基团(丙烯酰基等)的化合物作为根据本实施方案的化合物时，其中所述由(X-1)或(X-2)表示的交联基团是X1和X2中的反应性的交联基团，可以不使用交联剂而进行交联聚合。
与此不同的是，当使用具有由(X-3)至(X-8)表示的交联基团(即，环氧基，羟基，氨基，羧基，等)的化合物作为根据本实施方案的化合物时，其中所述由(X-3)至(X-8)表示的交联基团是X1和X2中的反应性的交联基团，可以通过使用交联剂作为固化剂的方法来进行该交联聚合，或使用其中的反应性的交联基团彼此相互反应的一种组合方法来进行该交联聚合(例如，其中X1和X2具有环氧基团的化合物与X1和X2具有氨基，羟基，或羧基的化合物进行组合的方法)。
交联剂
作为可供具有由(X-3)所示基团(环氧基)作为其中反应性交联基团的化合物使用的交联剂，可以举出季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、聚碳酸酯二醇、聚醚二醇、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯，等。
作为可供具有由(X-4)、(X-5)或(X-6)所示基团(羟基，氨基，羧基等)作为其中反应性交联基团的化合物使用的交联剂，含有两个或多个环氧基的交联剂是优选的。例如包括，1,5-己二烯二环氧化物、1,7-辛二烯二环氧化物、新戊二醇二缩水甘油醚、二缩水甘油基1,2-环己烷二羧酸酯、2,2-双(4-缩水甘油基氧苯基)丙烷、三缩水甘油基异氰脲酸酯、1,6-双(2,3-环氧丙氧基)萘，等等。
此外，作为可供具有由(X-1)或(X-2)所示基团(丙烯酰基等)作为其中反应性交联基团的化合物使用的交联剂，含有两个或两个以上丙烯酰基的交联剂是优选的。例如包括，甲基丙烯酸2-羟基-3-丙烯酰氧基丙基酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化异氰脲酸酯三丙烯酸酯、ε-己内酯改性的三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇聚丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯，等等。
在使用交联剂的情况下，相对于根据本示例性实施方案的化合物的重量，加入到根据本示例性实施方案的化合物中的该交联剂的量优选调整为1％至500％，更优选调整为5％至200％。
此外，当液态化合物被用作根据本示例性实施方案的化合物时，该液态化合物可以用作所述涂布液。
当能够被溶解在溶剂中的化合物，无论其为固体或是液体，被用作根据本示例性实施方案的化合物时，表面保护膜如下形成：将根据本示例性实施方案的化合物、固化剂(交联剂)(在需要使用该固化剂(该交联剂)的情形下)，以及其它添加剂等溶解在溶剂中以制备涂布液，在基材上涂布该涂布液，并进行交联聚合。
此外，当不溶解在溶剂中的固体化合物被用作根据本示例性实施方案的化合物时，表面保护膜如下形成：对根据本示例性实施方案的化合物、固化剂(交联剂)(在需要使用该固化剂(该交联剂)的情形下)以及其它添加剂等进行加热，直至加热到使得根据本示例性实施方案的化合物、固化剂以及其它添加剂等能溶解的温度，并进行交联聚合。
此处，从制造性方面来看，优选使用可溶解于溶剂中的化合物或者在常温(25℃)下呈液态的化合物来形成表面保护膜。
用于涂布液的溶剂的例子可包括丙酮、甲乙酮、甲基丁基酮、甲基异丁基酮、环戊酮、环己酮、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸异丙酯、乙酸丁酯、乙酸异丁酯、乙酸戊酯、甲苯、二甲苯、正己烷、庚烷、1,4-二氧六环、四氢呋喃、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇单乙醚醋酸酯、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、四氢呋喃、2H,3H-十氟戊烷、1-甲氧基-七氟丙烷、1-甲氧基-九氟丁烷、1-乙氧基九氟丁烷，等等。
当进行交联聚合时，可由外界提供能量，例如，可由发射紫外线的单元、发射电子束的单元、加热单元等来提供能量。
此外，可添加用于进行交联聚合的聚合引发剂。聚合引发剂的具体例子可包括：作为自由基型聚合引发剂的IRGACURE184、IRGACURE651、IRGACURE123、IRGACURE819、DAROCURE1173、IRGACURE784、IRGACURE OXE01、和IRGACURE OXE02；以及作为阳离子型聚合引发剂的IRGACURE250和IRGACURE270(均由BASF株式会社生产)。
表面保护膜的物理性质
由根据本实施方案的化合物交联聚合得到的交联产物(根据本示例性实施方案的表面保护膜等)，是如上所述具有优良的耐热性的材料。此外，所述的优良的耐热性，具体而言，是指即使在高温环境下也显示出优异的耐损伤性。
这里，由本示例性实施方案的化合物进行交联聚合而得到的交联产物的耐热温度(可使用的温度范围)优选为60℃至200℃，并且更优选为80℃至160℃。
本示例性实施方案的表面保护膜在25℃下的水接触角优选为90°以上，更优选为100°以上。
此外，可利用接触角测量仪和水，在25℃下通过θ/2法对涂布在膜上的表面保护膜样品进行接触角测量。此外，下面所述的相对于十六烷的接触角是通过将水改为十六烷而测得的。
对表面保护膜的厚度没有特别限制，其优选为1μm至500μm，更优选为10μm至50μm。
用途
对以上述方式获得的根据示例性实施方案的表面保护膜的应用没有特别限定，只要该表面保护膜的使用环境是高于常温(25℃)的温度，并且它被用于可因与异物接触而在表面上产生划伤的对象。
例如，其例子包括用于成像装置中的定影部件、中间转印部件、记录介质输送部件等的成像装置用环形带或辊；以及汽车车体或窗玻璃、光伏太阳能电池面板或太阳能反射面板，等等。
环形带
下文将对作为根据本示例性实施方案的表面保护膜的应用实例的用于成像装置的环形带进行描述。
根据示例性实施方案的用于成像装置的环形带包括带状基材、以及在带状基材上设置的根据上述示例性实施方案的表面保护膜。
图1是示出根据示例性实施方案的环形带的透视图(部分使用截面图示出)，并且图2是从图1中箭头A的方向观察的环形带的截面图。
如图1和图2所示，示例性实施方案的环形带1是这样的环形带，其包括基材2和层叠在基材2的表面上的表面层3。
另外，使用上述根据示例性实施方案的表面保护膜作为表面层3。
可将环形带1用于如成像装置中的定影带、中间转印带、或记录介质输送带等。
下文将描述使用环形带1作为定影带的情况。
用于基材2的材料优选地是耐热材料，具体而言，使用选自多种已知的塑料材料和金属材料中的材料。
在塑料材料当中，工程塑料通常是优选的，例如氟树脂、聚酰亚胺(PI)、聚酰胺-酰亚胺(PAI)、聚苯并咪唑(PBI)、聚醚醚酮(PEEK)、聚砜(PSU)、聚醚砜(PES)、聚苯硫醚(PPS)、聚醚酰亚胺(PEI)或全芳族聚酯(液晶聚合物)等。此外，在以上塑料材料当中，具有优异的机械强度、耐热性、耐磨性和耐化学品性的热固性聚酰亚胺、热塑性聚酰亚胺、聚酰胺-酰亚胺、聚醚酰亚胺或氟树脂等是优选的。
此外，对用于基材2的金属材料没有特别限定，作为该金属材料，可优选使用SUS、镍、铜、铝、铁等各种金属或合金材料。此外，可以将耐热树脂或金属材料层压成多层。
下文，将描述使用环形带1作为中间转印带或记录介质输送带的情况。
用于基材2的材料的例子可包括聚酰亚胺类树脂、聚酰胺-酰亚胺类树脂、聚酯类树脂、聚酰胺类树脂和氟树脂类树脂等，其中，更优选使用聚酰亚胺类树脂和聚酰胺-酰亚胺类树脂。此外，当基材为环形形状(环状)时，可以包括或不包括接头，并且基材2的厚度优选地是0.02mm至0.2mm。
在使用环形带1作为成像装置的中间转印带或记录介质输送带的情况下，优选将表面电阻率控制在1×109Ω/□至1×1014Ω/□的范围内，并且优选将体积电阻率控制在1×108Ωcm至1×1013Ωcm的范围内。因此，如上文所述，优选地将如下材料作为导电剂加入基材2或表面层3中：炭黑，如科琴黑或乙炔黑；石墨；金属或合金，如铝、镍或铜合金；金属氧化物，如氧化锡、氧化锌、钛酸钾、氧化锡-氧化铟或氧化锡-氧化锑复合氧化物；或导电聚合物，如聚苯胺、聚吡咯、聚砜或聚乙炔等(这里，聚合物中的术语“导电”意指其体积电阻率小于107Ω·cm)。这些导电剂可以单独使用，或联合使用两种或多种导电剂。
这里，可使用TA Instruments株式会社制造的HirestaUPMCP-450型UR探针，在22℃和55％RH的环境下根据JIS-K 6911测量表面电阻率和体积电阻率。
在将环形带1用于定影的情况下，环形带1可以包括位于基材2和表面层3之间的弹性层。作为弹性层的材料，例如，可使用多种橡胶材料。多种橡胶材料的例子可包括聚氨酯橡胶、乙丙橡胶(EPM)、硅橡胶和氟橡胶(FKM)等，其中，具有优异的耐热性和可加工性的硅橡胶是优选的。硅橡胶的例子可包括RTV硅橡胶和HTV硅橡胶等，并且其具体例子可包括聚二甲基硅橡胶(MQ)、甲基乙烯基硅橡胶(VMQ)、甲基苯基硅橡胶(PMQ)和氟硅橡胶(FVMQ)等。
当使用环形带1作为电磁感应型定影装置中的定影带时，可以在基材2和表面层3之间设置发热层。
用于发热层的材料的例子可包括非磁性金属，并且其具体例子可包括诸如金、银、铜、铝、锌、锡、铅、铋、铍、锑等金属材料、以及它们的合金(包含上述金属的合金)。
发热层的膜厚度优选为5μm至20μm，更优选为7μm至15μm，并且特别优选为8μm至12μm。
辊
根据示例性实施方案的成像装置的辊包括圆筒状基材以及设置在圆筒状基材上的根据上述示例性实施方案的表面保护膜。
接下来，将描述根据示例性实施方案的辊。示例性实施方案的辊是包括基材和层叠在基材表面上的表面层的圆筒状辊。
另外，使用上述根据示例性实施方案的表面保护膜作为表面层。
该圆筒状辊可用于(例如)成像装置中的定影辊、中间转印辊、或记录介质输送辊，等。
下文将描述使用该圆筒状辊作为定影辊的情况。
对在图4中示出的作为定影部件的定影辊610的形状、结构和大小等没有特别限定，并且该定影辊610具有位于圆筒状芯体611上的表面层613。此外，如图4中所示，该定影辊610可以在芯体611和表面层613之间设置弹性层612。
用于圆筒状芯体611的材料的例子可包括铝(例如，A-5052材料)、SUS、铁和铜等金属、合金、陶瓷和FRM等。在示例性实施方案的定影装置72中，圆筒状芯体611由外径φ为25mm、厚度为0.5mm且长度为360mm的圆筒状部件构成。
弹性层612的材料选自已知的材料，然而任何材料均可以使用，只要该材料是具有高度耐热性的弹性部件即可。具体而言，作为弹性层612的材料，优选使用橡胶硬度大约为15°至45°(JIS-A)的橡胶或弹性体等弹性部件，并且其例子可包括硅橡胶和氟橡胶等。
在该示例性实施方案中，在以上材料当中，硅橡胶因小的表面张力和优异的弹性而优选。硅橡胶的例子可包括RTV硅橡胶和HTV硅橡胶等，并且其具体例子可包括聚二甲基硅橡胶(MQ)、甲基乙烯基硅橡胶(VMQ)、甲基苯基硅橡胶(PMQ)和氟硅橡胶(FVMQ)等。
此外，弹性层612的厚度优选为3mm以下，并且更优选为0.5mm至1.5mm。定影装置72的芯体被橡胶硬度为35°(JIS-A)且厚度为72μm的HTV硅橡胶覆盖。
表面层613的厚度为(例如)5μm至50μm，或者可以为10μm至30μm。
作为加热定影辊610的加热源，例如，可使用卤灯660，但对灯没有特别限定，只要其具有可以容纳于芯体611中的形状和结构即可，并且可根据目的而选择。通过设置在定影辊610中的热敏元件690来测量被卤灯660加热的定影辊610的表面温度，并且使用控制器控制该温度。对热敏元件690没有特别限定，并且其例子可包括热敏电阻和温度传感器。
成像装置
接下来，将描述使用示例性实施方案的环形带和示例性实施方案的辊的示例性实施方案的成像装置。图3是描述串联型成像装置的主要部分的示意图，所述成像装置包括作为定影装置的加压带的根据示例性实施方案的环形带、作为中间转印带的根据示例性实施方案的环形带、和作为定影装置的定影辊的根据示例性实施方案的辊。
具体而言，成像装置101被构造成包括感光体79(静电潜像保持部件)、对感光体79的表面进行充电的充电辊83、使感光体79的表面曝光并且形成静电潜像的激光发生装置78(静电潜像形成单元)、利用显影剂使在感光体79表面上形成的潜像显影并形成调色剂图像的显影装置85(显影单元)、通过显影装置85形成的调色剂图像由感光体79转印于其上的中间转印带86(中间转印部件)、将调色剂图像转印至中间转印带86的一次转印辊80(一次转印单元)、除去附着在感光体79上的调色剂或粉尘等的感光体清洁部件84、将中间转印带86上的调色剂图像转印至记录介质的二次转印辊75(二次转印单元)、和将记录介质上的调色剂图像定影的定影装置72(定影单元)。一次转印辊80可以如图3所示布置在感光体79的正上方，或可以布置在偏离感光体79的正上方的位置处。
另外，将对图3中所示的成像装置101的构造进行详细说明。
在成像装置101中，将充电辊83、显影装置85、隔着中间转印带86而布置的一次转印辊80、和感光体清洁部件84逆时针方向布置在感光体79周围，并且一组这些部件形成对应于一种颜色的显影单元。此外，每个显影单元都分别设置有用显影剂补充显影装置85的调色剂盒71，并且设置有激光发生装置78，所述激光发生装置78根据图像信息，用激光照射感光体79的表面，其中相对于各显影单元中的感光体79，激光发生装置78位于显影装置85的上游侧和充电辊83的下游侧(在感光体79的旋转方向上)。
与四种颜色(例如，青色、品红色、黄色和黑色)相对应的四个显影单元在成像装置101中以水平方向串联布置，并且这样设置中间转印带86，使之穿过这四个显影单元中感光体79和一次转印辊80之间的转印区域。中间转印带86由支撑辊73、支撑辊74和驱动辊81支撑，支撑辊73、支撑辊74和驱动辊81以逆时针方向按照上述次序设置在中间转印带86的内侧表面上，由此形成带支撑装置90。此外，四个一次转印辊位于支撑辊74的上游侧和支撑辊73的下游侧(在中间转印带86的旋转方向上)。此外，如此设置清洁中间转印带86的外周面的转印清洁部件82，使得转印清洁部件82隔着中间转印带86在驱动辊81的相对侧上与驱动辊81接触。
此外，二次转印辊75用于将形成于中间转印带86的外周面上的调色剂图像转印至由供纸单元77经纸路径76供给的记录纸表面上，这样设置二次转印辊，使得二次转印辊75隔着中间转印带86在支撑辊73的相对侧与支撑辊73接触。
此外，在成像装置101的底部设置有贮存记录介质的供纸单元77，并且以这种方式供给记录介质，使得记录介质由供纸单元77经纸路径76穿过二次转印辊75和支撑辊73之间的接触部分(该接触部分构成了二次转印部分)。通过输送单元(未示出)进一步传送已经通过该接触部分的记录介质，从而使其穿过定影装置72中的接触部分，并最终将其输出到成像装置101外部。
接下来，将描述使用图3中所示成像装置101的成像方法。通过各显影单元形成调色剂图像，通过充电辊83对感光体79沿逆时针方向转动的表面进行充电，随后，通过激光发生装置78(曝光装置)在感光体79的已充电表面上形成潜像(静电潜像)。接着使用由显影装置85供给的显影剂将潜像显影以形成调色剂图像，然后被输送至一次转印辊80和感光体79之间的接触部分的调色剂图像被转印至在箭头C方向上转动的中间转印带86的外周面。此外，通过感光体清洁部件84将调色剂图像转印后附着于感光体79的表面上的调色剂或粉尘等清除，从而为后续调色剂图像的形成做好准备。
将在各色的各显影单元中显影的调色剂图像以依次叠印在中间转印带86的外周面上从而对应于图像信息的状态被输送至二次转印部分后，转印至记录纸的表面，所述记录纸是通过二次转印辊75从供纸单元77经纸路径76而供给的。当其上已转印有调色剂图像的记录纸进一步穿过定影装置72的接触部分时，通过对其进行加压并加热从而使调色剂图像定影，在于记录介质的表面上形成图像之后，将记录纸输出至成像装置外部。
定影装置(图像定影装置)
图4是设置在根据示例性实施方案的成像装置101中的定影装置72的示意性构造图。图4中所示的定影装置72包括作为被转动驱动的转动部件的定影辊610、环形带620(加压带)和作为加压部件的加压垫640，所述加压垫640通过环形带620向定影辊610加压。此外，可通过加压垫640对环形带620和定影辊610进行相对加压。因此，可以通过定影辊610对环形带620侧施压，也可以通过环形带620对定影辊610侧施压。
在定影辊610中设置有卤灯660，作为用于加热咬合区域(nipping region)中未定影调色剂图像的加热单元的例子。加热单元不限于卤灯，可以使用其他发热的发热部件。
另一方面，设置有热敏元件690，使该热敏元件与定影辊610的表面接触。基于由热敏元件690测量的温度值来控制卤灯660的照明，并且将定影辊610的表面温度维持在预设温度(例如，150℃)。
环形带620通过设置在其中的加压垫640和带导轨630以及边界导轨(edge guide)(未示出)旋转支撑。此外，这样设置环形带620，使得在咬合区域N中，环形带以被压向定影辊610的状态与定影辊610接触。
加压垫640以隔着环形带620压向定影辊610的状态设置在环形带620的内部，并且在加压垫640与定影辊610之间形成咬合区域N。加压垫640在咬合区域N的进口侧设有预咬合部件641以确保宽的咬合区域N，并且在咬合区域N的出口侧设有剥离咬合部件642，用于向定影辊610施加应力。
另外，为了减少环形带620的内周面和加压垫640之间的滑动摩擦，在预咬合部件641和剥离咬合部件642的与环形带620接触的表面上设置有低摩擦片680。此外，加压垫640和低摩擦片680由金属支架650支撑。
另外，带导轨630连接在支架650上，并且环形带被构造为可以平稳地旋转。即，由于带导轨630与环形带620的内周面上存在摩擦，因此带导轨630由静摩擦系数小的材料制成。此外，带导轨630由具有低热导率的材料制成，从而来自环形带620的热量不容易被除去。
接着，定影辊610通过驱动电机(未示出)而沿箭头C的方向旋转，并且随着定影辊的旋转，环形带620以与定影辊610的转动方向相反的方向旋转。换言之，定影辊610在图4中顺时针方向旋转时，环形带620逆时针方向旋转。
其上具有未定影的调色剂图像的纸K由定影入口导轨560引导并被传送至咬合区域N。然后，当纸K通过咬合区域N时，通过作用于咬合区域N的压力和由定影辊610提供的热量，将纸K上的调色剂图像定影。
在定影装置72中，通过具有符合定影辊610外周面的凹陷状的预咬合部件641以确保形成咬合区域N。
此外，根据示例性实施方案的定影装置72具有这样的构造：通过设置剥离咬合部件642以向定影辊610的外周面突出，使得咬合区域N的出口区域中定影辊610的应力局部增加。以上构造使纸K在定影后从定影辊610剥离。
此外，作为剥离辅助单元，在定影辊610的咬合区域N的下游侧设置了剥离部件700。剥离部件700以这样的状态由支架720支撑：剥离挡板710沿与定影辊610的旋转方向相反的方向(反方向)接触定影辊610。
实施例
下面，本发明将结合具体实施例说明，但本发明并不限定于以下实施例。此外，除非另外特别指出，在以下的说明中，“份”表示以重量为基准。
含全氟亚烷基醚的化合物1a和1b的合成
根据以下合成方案，对含全氟亚烷基醚的化合物1a和1b进行合成。此外，在含全氟亚烷基醚的化合物1a和1b的合成方案中RX1表示氢原子。另外，氟原料1中的羟基含量为830克/摩尔。
含全氟亚烷基醚的化合物2的合成
根据以下合成方案，对含全氟亚烷基醚的化合物2进行合成。此外，在含全氟亚烷基醚的化合物2的合成方案中RX1表示氢原子。另外，氟原料2中的羟基含量为830克/摩尔。
含全氟亚烷基醚的化合物3的合成
根据以下合成方案，对含全氟亚烷基醚的化合物3进行合成。此外，在含全氟亚烷基醚的化合物3的合成方案中RX1表示氢原子。另外，氟原料3中的羟基含量为830克/摩尔。
含全氟亚烷基醚的化合物4的合成
根据以下合成方案，对含全氟亚烷基醚的化合物4进行合成。此外，在含全氟亚烷基醚的化合物4的合成方案中RX1表示氢原子。另外，氟原料4中的羟基含量为830克/摩尔。
在此，作为如此得到的含全氟亚烷基醚的化合物4的标识数据，其IR图谱示于图5中，其1H-NMR图谱示于图6中。
含全氟亚烷基醚的化合物5的合成
按照上述化合物4的合成方案，并将氟原料4中的羟基含量改为1970克/摩尔，从而合成含全氟亚烷基醚的化合物5。此外，在合成方案中RX1表示氢原子。
在此，作为如此得到的含全氟亚烷基醚的化合物5的标识数据，其IR图谱示于图7中。
含全氟亚烷基醚的化合物6的合成
根据以下合成方案，对含全氟亚烷基醚的化合物6进行合成。此外，在含全氟亚烷基醚的化合物6的合成方案中RX1表示氢原子。另外，氟原料6中的羟基含量为1970克/摩尔。
实施例1
用于形成表面保护膜的涂布液的制备
将下列组分混合，以此制得涂布液：
·上述含全氟亚烷基醚的化合物1a和1b：10份
·聚合引发剂(商品名：DAROCURE1173，BASF株式会社生产)：0.1份
·溶剂(2-丁酮)：10份
表面保护膜的形成(交联聚合)
将上述涂布液涂布(浇铸)在厚度为90μm的聚酰亚胺膜上，100℃进行干燥5分钟，从而将溶剂挥发，使用紫外线固化装置以紫外线照射该涂布液，由此得到硬化膜。该紫外线的照射条件为，使用在氮气氛下的高压汞蒸气灯(氧浓度小于或等于1％)发射光强度为1000mmJ/cm2的紫外光。
实施例2～6
除了将实施例1中所用的含全氟亚烷基醚的化合物1a和1b改变为含全氟亚烷基醚的化合物2、3、4、5、6之外，其余均按照实施例1中所描述的方法，以此形成表面保护膜。
对比例1
除了将实施例1中所用的含全氟亚烷基醚的化合物1改变为具有下列结构的化合物(一种具有氨基甲酸酯键和全氟亚烷基醚结构的化合物)之外，其余均按照实施例1中所描述的方法，以此形成表面保护膜。
对比例2
除了将实施例1中所用的含全氟亚烷基醚的化合物1改变为具有下列结构的化合物(该化合物在-B1-X1和-B2-X2中仅具有一个反应性交联基团并且不具有这样一种基团，该基团具有从通式(1)中去除X1或X2所得到的结构)之外，其余均按照实施例1中所描述的方法，以此形成表面保护膜。
评价
为了评价耐损伤性和耐热性，将上述实施例和对比例中制得的表面保护膜样品在200℃下加热10小时。对于两种样品，即那些加热之前(初始)的样品和那些加热后的样品进行下列评价。
耐损伤性评价
采用划伤硬度计(由ERICHSEN公司生产，尖端直径为0.75毫米)，在常温(25℃)下，以2N的负荷，对上述实施例和对比例中制得的表面保护膜样品以及将该样品在200℃下加热10小时所获得的样品进行划伤试验，并对它们在80℃加热30秒，然后观察被划伤部分，并从而评价是否存在损破。
B：在表面保护膜中观察到损破
A：在表面保护膜中未观察到损破
接触角的评价
使用水或十六烷来测量上述实施例和对比例中获得的表面保护膜样品的接触角，并测量将所述表面保护膜样品在200℃加热10小时获得的样品的接触角。此外，使用接触角测量仪(Kyowa InterfaceScience株式会社制造，型号：CA-S-Rugata型)，在25℃下通过θ/2法进行上述接触角的测量。结果示于表1中。
调色剂剥离性
将上述实施例和对比例中获得的表面保护膜样品以及将所述表面保护膜样品在200℃加热10小时获得的样品附着到定影机的定影辊表面上，并使具有黑色未定影的实心图像(solid image)的纸张通过，从而确认调色剂的定影性。此外，作为该定影机，使用DocuCentreC2101(商品名，由富士施乐株式会社生产)。评价标准如下，结果列于表1中。
C：调色剂附着于表面保护膜样品的整个表面上。
B：调色剂附着于表面保护膜样品的大约一半表面上。
A：调色剂未附着于表面保护膜样品上。
IR评估(初始IR谱图和加热后IR谱图之间的差异)
使用ATR-IR，对上述实施例和对比例中制得的表面保护膜样品以及将该样品在200℃下加热10小时所获得的样品进行谱图测量，把加热之前(初始)样品和加热后样品的IR谱图进行比较。此外，作为ATR棱镜使用的是金刚石棱镜。
实施例4和对比例1得到的表面保护膜(加热前(初始))样品的IR谱图示于图8和图9中。
已经为了举例和说明的目的对本发明的示例性实施方案进行了上述描述。并非旨在穷举，或将本发明限定为所公开的精确形式。明显地，对于本领域技术人员，各种变型和修改将是显而易见的。选择并描述这些实施方案为的是更好地阐释本发明的原理和其实际应用，从而使得本领域的其他技术人员理解本发明的多种实施方案，并且进行多种变型以适用于所预期的特定用途。本发明的范围旨在通过所附权利要求及其等同形式限定。

Claims (9)

1.由下面通式(1)表示的含全氟亚烷基醚的化合物：
在该通式(1)中，R1和R2各自独立地表示氟原子或三氟甲基，条件是R1和R2不同时为氟原子，
n1表示从1至5的整数，n2表示从0至2的整数，并且n1和n2的总和小于或等于5，m表示大于或等于1的整数，
A1和A2各自独立地表示由下面通式(2)表示的二价基团，
B1和B2各自独立地表示单键或选自下列(B-1)至(B-3)的二价基团，
X1和X2各自独立地表示具有至少一种选自下列(X-1)至(X-8)的反应性交联基团的一价基团，X1和X2可以各自独立地具有一个或多个基团，该一个或多个基团具有通过把X1或X2从通式(1)中排除而得到的结构；条件是当B1是单键或下列(B-1)时，X1是具有两个或更多个反应性交联基团的一价基团，或者是这样一种一价基团：其具有一个或更多个反应性交联基团以及一个或多个具有通过把X1从通式(1)中排除而得到的结构的基团，以及当B2是单键或下列(B-1)时，X2是具有两个或更多个反应性交联基团的一价基团，或者是这样一种一价基团：其具有一个或更多个反应性交联基团以及一个或多个具有通过把X2从通式(1)中排除而得到的结构的基团；
在该通式(2)中，R3和R4各自独立地表示氟原子或三氟甲基，条件是R3和R4不同时为氟原子，
n3表示从0至5的整数，n4表示从0至2的整数，n5表示大于或等于0的整数，n6表示0或1，n7表示大于或等于0的整数，条件是n3、n4、n5、n6不同时为0；
由通式(2)表示的二价基团在(*1)位置与全氟亚烷基醚结构键合；
(B-1)至(B-3)各自在(#2)位置与X1或X2键合；
(X-1)中的RX1表示氢原子、甲基或三氟甲基；(X-6)中的RX2表示氢原子或烷基；以及(X-8)中的RX3表示烷基。
2.根据权利要求1所述的含全氟亚烷基醚的化合物，其中在通式(1)中，n1表示从1至3的一个整数，n2是0或1，并且n1和n2的总和为1到3。
3.根据权利要求1所述的含全氟亚烷基醚的化合物，其中在通式(1)中，m表示从2至100的一个整数。
4.根据权利要求1所述的含全氟亚烷基醚的化合物，其中在通式(1)中，m表示从5至50的一个整数。
5.根据权利要求1所述的含全氟亚烷基醚的化合物，其中在通式(2)中，n5和n6的总和小于或等于2。
6.根据权利要求1所述的含全氟亚烷基醚的化合物，其中在通式(2)中，n5和n6的总和小于或等于1。
7.根据权利要求1所述的含全氟亚烷基醚的化合物，其中由A1和A2表示的二价基团选自(A-1)至(A-12)：
其中该二价基团在(*1)位置与通式(1)中的全氟亚烷基醚结构键合。
8.根据权利要求1所述的含全氟亚烷基醚的化合物，其中在通式(1)中，B1和B2均为由(B-1)表示的二价基团。
9.一种表面保护膜，其具有交联聚合物结构，该交联聚合物结构由权利要求1所述的含全氟亚烷基醚的化合物形成。
CN201510104786.6A 2014-03-26 2015-03-10 含全氟亚烷基醚的化合物及表面保护膜 Pending CN104945609A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014064297A JP6277819B2 (ja) 2014-03-26 2014-03-26 パーフルオロアルキレンエーテル含有化合物および表面保護膜
JP2014-064297 2014-03-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104945609A true CN104945609A (zh) 2015-09-30

Family

ID=54160716

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510104786.6A Pending CN104945609A (zh) 2014-03-26 2015-03-10 含全氟亚烷基醚的化合物及表面保护膜

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20150274870A1 (zh)
JP (1) JP6277819B2 (zh)
CN (1) CN104945609A (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201817825A (zh) * 2016-09-21 2018-05-16 日商日產化學工業股份有限公司 耐劃傷性硬塗材料

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5132455A (en) * 1982-03-31 1992-07-21 Exfluor Research Corporation Method for synthesizing perfluorinated ether compounds via polyesters
US5322904A (en) * 1988-09-28 1994-06-21 Exfluor Research Corporation Liquid-phase fluorination
US5539059A (en) * 1988-09-28 1996-07-23 Exfluor Research Corporation Perfluorinated polyethers
US5948478A (en) * 1995-04-28 1999-09-07 Ausimont S.P.A. Process for the protection of stony or coating surfaces
US20030077441A1 (en) * 1997-01-07 2003-04-24 Tomoo Kobayashi Image stripping member, and image stripping apparatus and image stripping method using the image stripping member
US20060147722A1 (en) * 2003-06-05 2006-07-06 Mihoko Ohashi Curable surface modifier and curable composition for surface modification comprising the same
JP2010222524A (ja) * 2009-03-25 2010-10-07 Dic Corp フィルム保護層用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1990003409A1 (en) * 1988-09-28 1990-04-05 Exfluor Research Corporation Fluorination of epoxides
DE68921891T2 (de) * 1988-09-28 1995-10-26 Exfluor Res Corp Flüssigphase-fluorieren.
US6306563B1 (en) * 1999-06-21 2001-10-23 Corning Inc. Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions
US7390854B2 (en) * 2004-11-05 2008-06-24 E. I. Dupont De Nemours And Company Low shrinkage, low optical absorbance, low refractive index adhesive composition
JP5663618B2 (ja) * 2012-03-30 2015-02-04 富士フイルム株式会社 重合性組成物、それを用いた、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
US9346961B2 (en) * 2012-03-30 2016-05-24 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and antireflective film, polarizing plate and image display device using the same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5132455A (en) * 1982-03-31 1992-07-21 Exfluor Research Corporation Method for synthesizing perfluorinated ether compounds via polyesters
US5322904A (en) * 1988-09-28 1994-06-21 Exfluor Research Corporation Liquid-phase fluorination
US5539059A (en) * 1988-09-28 1996-07-23 Exfluor Research Corporation Perfluorinated polyethers
US5948478A (en) * 1995-04-28 1999-09-07 Ausimont S.P.A. Process for the protection of stony or coating surfaces
US20030077441A1 (en) * 1997-01-07 2003-04-24 Tomoo Kobayashi Image stripping member, and image stripping apparatus and image stripping method using the image stripping member
US20060147722A1 (en) * 2003-06-05 2006-07-06 Mihoko Ohashi Curable surface modifier and curable composition for surface modification comprising the same
JP2010222524A (ja) * 2009-03-25 2010-10-07 Dic Corp フィルム保護層用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JP6277819B2 (ja) 2018-02-14
JP2015187191A (ja) 2015-10-29
US20150274870A1 (en) 2015-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5870480B2 (ja) 樹脂材料
JP6036469B2 (ja) 表面保護膜
JP5051282B2 (ja) ウレタン樹脂、定着用部材および画像形成装置
JP5321721B2 (ja) 樹脂材料
CN104072971B (zh) 表面保护膜
JP5821414B2 (ja) ウレタン樹脂積層体
US20140296470A1 (en) Resin material and protective film
CN103360762B (zh) 树脂材料、环形带、辊、图像定影单元以及成像装置
JP5071564B2 (ja) 樹脂材料、無端ベルト、ロール、画像定着装置、および画像形成装置
JP2016035550A (ja) クリーニングブレード、画像形成装置及びプロセスカートリッジ
CN104945609A (zh) 含全氟亚烷基醚的化合物及表面保护膜
JP2016183299A (ja) 表面保護膜
JP6500379B2 (ja) 表面保護膜
JP5365249B2 (ja) 無端ベルト
JP2018180184A (ja) 電子写真用部材および電子写真画像形成装置
CN103309218B (zh) 弹性部件、处理盒以及图像形成装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20150930

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication