CN104934141A - 漆包线冷却装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种漆包线冷却装置,属于电缆生产设备领域。包括冷却箱和两个相向设置在冷却箱上方的风冷装置,冷却箱存放冷却液,漆包线由下而上穿过的冷却箱和两个相向设置风冷装置之间;风冷装置正对漆包线并向下倾斜设置。首先通过冷却箱中的冷却液对漆包线进行初步冷却降温,然后通过漆包线两侧的风冷装置对漆包线进行再次风冷却,其不仅可以快速吹散漆包线表面温度,将可以快速将漆包线表面吹干,便于进行后续加工。

Description

漆包线冷却装置
技术领域
本发明涉及一种冷却装置,具体讲是一种漆包线冷却装置,属于电缆生产设备领域。
背景技术
    在漆包线的生产中,通常需要对裸线进行退火软化处理,以达到适用的柔软度。现有技术中通常采用水冷却的方式对加热后的漆包线进行冷却处理,其冷却效率降低,漆包线无法快速达到理想温度,影响后序的加工工序;此外,现有水冷却方式冷却水用量大,造成大量的水资源耗费。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术缺陷,提供一种冷却效率高,资源耗费少的漆包线冷却装置。
为了解决上述技术问题,本发明提供的漆包线冷却装置,包括冷却箱和两个相向设置在冷却箱上方的风冷装置,所述冷却箱存放冷却液,漆包线由下而上穿过的冷却箱和两个相向设置风冷装置之间;所述风冷装置正对漆包线并向下倾斜设置。
本发明的有益效果在于:(1)、本发明首先通过冷却箱中的冷却液对漆包线进行初步冷却降温,然后通过漆包线两侧的风冷装置对漆包线进行再次风冷却,其不仅可以快速吹散漆包线表面温度,将可以快速将漆包线表面吹干,便于进行后续加工;(2)、在对漆包线进行风冷却的同时,由于风冷装置向下倾斜设置,大量的冷风可以对冷却箱中冷却液进行一定程度的冷却,避免冷却液重复更换,减少资源的耗费;(3)、本发明结构简单,易于实现。
本发明中,风冷装置包括吹风头和供风管,吹风头与供风管连接,所述吹风头安装在漆包线的外侧,吹风头风口正对漆包线,所述吹风头角度可调整。这样可以根据不同厚度的漆包线调整吹风头角度,实现更好的降温。
本发明中,漆包线与吹风头之间所形成夹角角度为10-30度,这样可以提高漆包线的风冷和冷却箱中冷却液的冷却效果。
附图说明
图1为本发明漆包线冷却装置结构示意图;
图2为本发明漆包线冷却装置侧视图。
具体实施方式
    下面结合附图对本发明作进一步详细说明。
如图1和2所示,本发明漆包线冷却装置包括冷却箱1、支架3、吹风头5和供风管6。冷却箱1中存放冷却水,两根圆形支架3平行架设在冷却箱1的上方,两根支架3上对应安装两组吹风头5,两组吹风头5相向设置,两根加热后的漆包线7自下而上穿过冷却箱1后,再穿过相向设置的吹风头5之间的间隙,两个吹风头5均位于漆包线7的外侧,同时对漆包线7正反两面同时进行吹风冷却。吹风头5风口呈扁平状,其宽度略大于漆包线7的宽度,吹风头5风口正对漆包线7。
吹风头5通过活动套管2套装在支架3,套管2上设置固定螺母4,通过固定螺母4可以调节吹风头5在支架3的位置和吹风头5的角度并固定。吹风头5通过供气管6连接冷却风机。
本发明中,吹风头5向下倾斜设置,正常情况下吹风头5与漆包线7的之间形成的夹角角度为10-30度。
本发明通过加热后的漆包线先通过冷却箱进行水冷却,然后再经过两个相向设置的吹风头对漆包线的正反两面进行同步风冷却。吹风头采用向下倾斜设置可以大大提高漆包线的受风冷却面积,加快冷却速度,并可将漆包线表面的冷却水快速吹散回落到冷却箱中;冷却风在对漆包线冷却后吹到冷却箱中冷却液上,对冷却液进行降温,这样就可以避免使用过程中频繁地更换冷却液,减少资源的耗费。
本实施例中,以两根漆包线为例对本发明进行了说明,实际使用中可以根据漆包线的数量对吹风头数量进行增减。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下还可以做出若干改进,这些改进也应视为本发明的保护范围。

Claims (3)

1.一种漆包线冷却装置,其特征在于:包括冷却箱和两个相向设置在冷却箱上方的风冷装置,所述冷却箱存放冷却液,漆包线由下而上穿过的冷却箱和两个相向设置风冷装置之间;所述风冷装置正对漆包线并向下倾斜设置。
2.根据权利要求1所述的漆包线冷却装置,其特征在于:所述风冷装置包括吹风头和供风管,吹风头与供风管连接,所述吹风头安装在漆包线的外侧,吹风头风口正对漆包线,所述吹风头角度可调整。
3.根据权利要求2所述的漆包线冷却装置,其特征在于:所述漆包线与吹风头之间所形成夹角角度为10-30度。
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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
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