CN104914612B - 曲面显示装置、制作曲面显示装置的方法及其电子设备 - Google Patents

曲面显示装置、制作曲面显示装置的方法及其电子设备 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种曲面显示装置、制作曲面显示装置的方法及其电子设备，其中曲面显示装置可以包括：上曲面透光基板；与上曲面透光基板相对布置的下曲面透光基板；位于上曲面透光基板和下曲面透光基板之间并且沿着上曲面透光基板和下曲面透光基板的边缘涂覆的具有特定宽度分布的密封剂，特定宽度分布的密封剂使得上曲面透光基板和下曲面透光基板粘附在一起，并且使得上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力减小，同时改变了上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力分布。

Description

曲面显示装置、制作曲面显示装置的方法及其电子设备
技术领域
本发明涉及曲面显示领域，具体涉及曲面显示装置、制作曲面显示装置的方法及其电子设备。
背景技术
在现有的曲面显示装置领域，借助于密封胶将上玻璃基板和下玻璃基板结合在一起。在弯曲的时候，上玻璃基板12（在曲面显示装置使用的情况下，上玻璃基板12最靠近观察者）通常承受的是压应力，如在图1中示出的，下玻璃基板16（在曲面显示装置使用的情况下，下玻璃基板16通常离观察者较远）通常承受是的拉应力，如在图2中示出的，这是因为下玻璃基板16包围了上玻璃基板12的外侧，对于上玻璃基板12弹性恢复到原状进行了限制。根据图1中示出的中部区域13、左上边角区域14a、右上边角区域14b可以知晓，靠近上玻璃基板12中部区域13中的应力基本上呈现水平的状态，可以认为承受的压应力处于接近0°或者接近180°的水平，或者说上玻璃基板12中部区域13中的光轴接近0°或者接近180°的水平。在靠近边缘例如边角的区域，例如左上边角区域14a、右上边角区域14b的位置，其中的应力基本上呈现倾斜的状态，并且越是靠近边角，倾角越大，可以认为承受的压应力处于接近30°或者接近-30°的水平，甚至于越是靠近上玻璃基板12的边角区域，即四个边角区域，承受的压应力分布处于接近45°或者接近-45°的水平。或者说上玻璃基板12的左上边角区域14a、右上边角区域14b位置中的光轴接近30°或者接近-30°的水平，甚至于越是靠近上玻璃基板12的边角区域，光轴越是接近45°或者接近-45°的水平。45°或者-45°通常在本领域被认为是最大漏光角。
同样的，根据图2中示出的下玻璃基板16的中部区域17、左上边角区域18a、右上边角区域18b可以知晓，靠近下玻璃基板16中部区域17中的应力基本上呈现于水平的状态，可以认为承受的拉应力或者说中部区域17的光轴处于接近0°或者接近180°的水平，在靠近边角的区域，例如左上边角区域18a、右上边角区域18b的位置，其中的拉应力基本上呈现倾斜的状态，可以认为承受的拉应力处于接近30°或者接近-30°的水平，甚至于越是靠近下玻璃基板16的边角区域，即四个边角区域，承受的拉应力分布处于接近45°或者接近-45°的水平，或者说左上边角区域18a、右上边角区域18b的光轴处于接近30°或者接近-30°的水平，甚至于接近45°或者接近-45°的水平。
另外，在现有技术的曲面显示装置中，通常在上玻璃基板12和下玻璃基板16的另一侧还分别布置有偏振方向相互正交的偏振片，以便在暗态下阻挡光线的透过。在现有技术的曲面显示装置中，在每个上玻璃基板12和下玻璃基板16的四个边角处，此时的漏光会很多，并不能很好地实现在暗态下阻挡光线透过的作用，即存在相当程度的漏光。
因此，在现有技术中，存在亟待改进现有技术问题的迫切需要。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种曲面显示装置、制作曲面显示装置的方法及其电子设备，其能够解决或者至少缓解现有技术中存在的至少一部分缺陷。
根据本发明的第一个方面，提供一种曲面显示装置，其可以包括：上曲面透光基板；与上曲面透光基板相对布置的下曲面透光基板；位于上曲面透光基板和下曲面透光基板之间并且沿着上曲面透光基板和下曲面透光基板的边缘涂覆的具有特定宽度分布的密封剂，该密封剂包括位于上曲面透光基板和下曲面透光基板的非弯曲边边缘的第一密封剂和位于上曲面透光基板和所述下曲面透光基板的弯曲边边缘的第二密封剂，特定宽度分布的密封剂使得上曲面透光基板和下曲面透光基板粘附在一起，并且使得上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力减小，同时改变了上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力分布。
借助于本发明的特定宽度分布的密封剂，减小了上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力，并且改变了上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力分布状态。在这样的情况下，有助于在最终制成的曲面显示装置中降低在暗态时的漏光量。
在本发明的一个实施例中，第一密封剂和第二密封剂具有相同的宽度时，透过上曲面透光基板和下曲面透光基板的光量随着第一密封剂和第二密封剂宽度的增大而增大。
在本发明的一个实施例中，在第二密封剂的宽度W2为定值时，透过上曲面透光基板和下曲面透光基板的光量随着第一密封剂的宽度W1增大而减小。
在本发明的一个实施例中，在第一密封剂的宽度W1为定值时，透过上曲面透光基板和下曲面透光基板的光量随着第二密封剂的宽度W2增大而增大。
在本发明的一个实施例中，第一密封剂的宽度W1大于第二密封剂的宽度W2。
在本发明的另一个实施例中，第一密封剂的宽度W1与第二密封剂的宽度W2的比值1＜W1/W2≤6。
在本发明的再一个实施例中，在上曲面透光基板、下曲面透光基板和密封剂包围的空间中包含液晶层。
在本发明的又一个实施例中，上曲面透光基板是彩色滤光器透光基板或者透明导电薄膜透光基板，下曲面透光基板是薄膜晶体管透光基板。
备选的，曲面显示装置还可以包括：位于与下曲面透光基板相对的上曲面透光基板另一侧上的第一偏振片，位于与上曲面透光基板相对的下曲面透光基板另一侧上的第二偏振片，其中第一偏振片与第二偏振片的偏振方向正交。
根据本发明的第二个方面，提供一种制作曲面显示装置的方法，其可以包括步骤：在上曲面透光基板和与上曲面透光基板相对布置的下曲面透光基板之间，沿着上曲面透光基板和下曲面透光基板的边缘涂覆具有特定宽度分布的密封剂，该密封剂包括位于上曲面透光基板和下曲面透光基板的非弯曲边边缘的第一密封剂和位于上曲面透光基板和下曲面透光基板的弯曲边边缘的第二密封剂，特定宽度分布的密封剂将上曲面透光基板和下曲面透光基板粘附在一起，并且使得上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力减小，同时改变上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力分布。
借助于本发明的特定宽度分布的密封剂，减小了上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力，并且改变了上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力分布状态。在这样的情况下，有助于在最终制成的曲面显示装置中降低在暗态时的漏光量。
在本发明的一个实施例中，其中涂覆具有特定宽度分布的密封剂包括：第一密封剂的宽度W1大于第二密封剂的宽度W2。
在本发明的另一个实施例中，其中第一密封剂的宽度W1大于第二密封剂的宽度W2包括：在涂覆上曲面透光基板和下曲面透光基板的非弯曲边边缘时增大密封剂施加器喷嘴的压力，在涂覆上曲面透光基板和下曲面透光基板的弯曲边边缘时减小密封剂施加器喷嘴的压力。
在本发明的再一个实施例中，其中涂覆具有特定宽度分布的密封剂包括：在平行于上曲面透光基板和下曲面透光基板的非弯曲边边缘处密封剂施加器喷嘴多次喷射，在平行于上曲面透光基板和下曲面透光基板的弯曲边边缘处密封剂施加器喷嘴进行较少次数喷射。
在本发明的又一个实施例中，其中第一密封剂的宽度W1与第二密封剂的宽度W2的比值1＜W1/W2≤6。
可选的，在沿着上曲面透光基板和下曲面透光基板的边缘涂覆具有特定宽度分布的密封剂之前，包括下面的步骤：在上曲面透光基板和下曲面透光基板之间布置液晶层。
可选的，其中上曲面透光基板是彩色滤光器透光基板或者透明导电薄膜透光基板，下曲面透光基板是薄膜晶体管透光基板。
根据本发明的第三个方面，提供一种电子设备，包括上述的曲面显示装置或使用上述的制作曲面显示装置的方法制作的曲面显示装置。
附图说明
图1示意性示出了现有技术的曲面显示装置中，上玻璃基板中存在的压应力分布。
图2示意性示出了现有技术的曲面显示装置中，下玻璃基板中存在的拉应力分布。
图3示意性示出了根据本发明一个实施例的曲面显示装置。
图4示意性示出了在本发明的一个实施例中，第一密封剂和第二密封剂的宽度相同且同时变化时的漏光趋势图。
图5A示意性示出了在弯曲边边缘没有涂覆密封剂，仅仅在非弯曲边边缘涂覆密封剂的情况下，上曲面透光基板和下曲面透光基板的光轴分布。
图5B示意性示出了在非弯曲边边缘没有涂覆密封剂，仅仅在弯曲边边缘涂覆密封剂的情况下，上曲面透光基板和下曲面透光基板的光轴分布。
图5C示意性示出了在弯曲边边缘没有涂覆密封剂，仅仅在非弯曲边边缘涂覆密封剂的情况下，曲面显示装置的漏光的模拟视图。
图5D示意性示出了在非弯曲边边缘没有涂覆密封剂，仅仅在弯曲边边缘涂覆密封剂的情况下，曲面显示装置的漏光的模拟视图。
图6A示意性示出了在固定第二密封剂宽度情况下，曲面显示装置的漏光随着第一密封剂宽度变化的趋势图。
图6B示意性示出了在固定第一密封剂宽度情况下，曲面显示装置的漏光随着第二密封剂宽度变化的趋势图。
图7示意性示出了曲面显示装置的漏光随着第一密封剂的宽度W1/第二密封剂的宽度W2的比例变化的趋势图。
图8A示意性示出了第一密封剂的宽度W1与第二密封剂的宽度W2的宽度比例W1/W2为2的情况下，曲面显示装置漏光的模拟视图。
图8B示意性示出了第一密封剂的宽度W1/与第二密封剂的宽度W2的宽度比例W1/W2为3的情况下，曲面显示装置漏光的模拟视图。
图8C示意性示出了第一密封剂的宽度W1与第二密封剂的宽度W2的宽度比例W1/W2为4的情况下，曲面显示装置漏光的模拟视图。
图8D示意性示出了第一密封剂的宽度W1与第二密封剂的宽度W2的宽度比例W1/W2为5的情况下，曲面显示装置漏光的模拟视图。
图8E示意性示出了第一密封剂的宽度W1与第二密封剂的宽度W2的宽度比例W1/W2为6的情况下，曲面显示装置漏光的模拟视图。
图9A示意性示出了制作曲面显示装置的方法的部分流程图。
图9B示意性示出了制作曲面显示装置的另一方法的部分流程图。
附图标记
2-上曲面透光基板；4-下曲面透光基板；6-密封剂的非弯曲边；8-密封剂的弯曲边；10-曲面显示装置；12-上玻璃基板；13-上玻璃基板的中部区域；14a-上玻璃基板的左上边角区域；14b-上玻璃基板的右上边角区域；16-下玻璃基板；17-下玻璃基板的中部区域；18a-下玻璃基板的左上边角区域；18b-下玻璃基板的右上边角区域。
具体实施方式
下面将结合全部附图详细地描述本发明的各个实施例。
正如在背景技术部分已经提到的，图1所示的现有技术的曲面显示装置中，上玻璃基板12中存在压应力分布，图2所示的现有技术的曲面显示装置中，下玻璃基板16中存在拉应力分布。为了克服现有技术的曲面显示装置中由于应力分布导致在边角区域存在严重的漏光问题，例如在上玻璃基板12的左上边角区域14a、右上边角区域14b以及下玻璃基板16的左上边角区域18a、右上边角区域18b存在严重的漏光问题，特提出本发明的构思。
图3中示意性示出了根据本发明一个实施例的曲面显示装置10，其可以包括：上曲面透光基板2；与上曲面透光基板2相对布置的下曲面透光基板4；位于上曲面透光基板2和下曲面透光基板4之间并且沿着上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的边缘涂覆的具有特定宽度分布的密封剂。在图3中示出了密封剂的非弯曲边6和密封剂的弯曲边8。在曲面显示装置中，通常可以认为曲面显示装置的短边为非弯曲边，曲面显示装置的长边为弯曲边。同样的，相应上曲面透光基板2、下曲面透光基板4、密封剂的短边为非弯曲边，上曲面透光基板2、下曲面透光基板4、密封剂的长边为弯曲边。之所以进行这样的区分，是因为在制作曲面显示装置的过程中以及最终制作完成的曲面显示装置中，基本上可以认为短边是非弯曲的，而长边具有一定的弯曲弧度。上述特定宽度分布的密封剂使得上曲面透光基板和下曲面透光基板粘附在一起，并且使得上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力减小，同时改变了上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力分布，并且改善了在暗态情况下的漏光。至于如何使得上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的应力减小，同时改变上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的应力分布还将在下面详细描述。
在本发明的说明书和权利要求书中，为了描述的方便，通常将沿着上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的非弯曲边边缘布置的密封剂称为第一密封剂，将沿着上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的弯曲边边缘布置的密封剂称为第二密封剂。相应的，将沿着上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的非弯曲边边缘布置的密封剂的宽度称为第一密封剂的宽度，将沿着上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的弯曲边边缘布置的第二密封剂的宽度称为第二密封剂的宽度。
还需要指出的是，此处所指的“第一密封剂”和“第二密封剂”是相同种类的密封剂，仅仅是根据位置上的不同进行不同的称谓，并不意味着“第一密封剂”和“第二密封剂”是两种不同类型或者种类的密封剂。
图4示意性示出了在本发明的一个实施例中，第二密封剂宽度W2和第一密封剂宽度W1相同，即W1=W2，且同时变化时的漏光趋势图。根据图4所示的模拟趋势图可以知晓，随着第二密封剂宽度W2和第一密封剂宽度W1逐渐变宽，纵坐标所示的漏光量的比例L/L反而在逐渐增大。在本发明的各个附图中出现的漏光量的比例L/L是个比值的概念，不具有任何单位。随着第二密封剂宽度W2和第一密封剂宽度W1逐渐变窄，纵坐标所示的漏光量的比例L/L在逐渐减小。根据图4所示的漏光趋势图，可以知晓，在横坐标W1=W2=6时，纵坐标所示的漏光量的比例L/L约为0.99，甚至于接近于1，在横坐标W1=W2=4时，纵坐标所示的漏光量的比例L/L约为0.93，在横坐标W1=W2=1时，纵坐标所示的漏光量的比例L/L约为0.80。在图4的模拟结果的启示下，可以将位于上曲面透光基板2和下曲面透光基板4之间并且沿着上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的边缘涂覆的密封剂宽度尽量减小，即第一密封剂的宽度和第二密封剂的宽度尽量减小。在较小的密封剂宽度的情况下，将会改善上曲面透光基板2和下曲面透光基板4中的应力分布，从而减小在暗态下的漏光量。
为了研究沿着非弯曲边6布置的密封剂和沿着弯曲边8布置的密封剂到底哪一个因素对于减小应力、改善应力分布、以及改善暗态下的漏光量影响更大，发明人进行了如下的模拟实验。图5A示意性示出了在弯曲边边缘没有涂覆密封剂，仅仅在非弯曲边边缘涂覆密封剂的情况下，上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的光轴分布。基本上可以看出上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的光轴是基本垂直的，这样就避免了在暗态下的漏光。图5C示意性示出了在弯曲边边缘没有涂覆密封剂，仅仅在非弯曲边边缘涂覆密封剂的情况下，曲面显示装置的漏光的模拟视图。根据图5C的模拟结果可以进一步表明，在弯曲边边缘没有涂覆密封剂，仅仅在非弯曲边边缘涂覆密封剂的情况下，存在较少的漏光量。图5C中存在较少的白色区域，这些白色区域表示暗态下的漏光区域，黑色区域表示暗态下被阻挡光线的区域。在本领域中，通常认为白色区域越少或者说黑色区域越多，则意味着暗态下的漏光量越少，阻挡光线透过的效果越好。
图5B示意性示出了在非弯曲边边缘没有涂覆密封剂，仅仅在弯曲边边缘涂覆密封剂的情况下，上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的光轴分布。可以看到上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的光轴稍微接近于垂直，这样在暗态下会存在一定程度的漏光。根据图5D的模拟结果可以进一步表明，在非弯曲边边缘没有涂覆密封剂，仅仅在弯曲边边缘涂覆密封剂的情况下，存在较多的漏光量。与图5C相比，图5D中存在较多的白色区域，较少的黑色区域。这就意味着，图5C情况下的漏光量较少，图5D情况下的漏光量较多。
上面的图5A、5C和图5B、5D给出了在两种极端情况下，即在弯曲边边缘没有涂覆密封剂，仅仅在非弯曲边边缘涂覆密封剂的情况下（图5A、5C所示的），和在非弯曲边边缘没有涂覆密封剂，仅仅在弯曲边边缘涂覆密封剂的情况下（图5B、5D所示的），存在的漏光情况的描述。
图6A和6B描述在一般情况下，非弯曲边边缘涂覆的密封剂（第一密封剂）和弯曲边边缘涂覆的密封剂（第二密封剂）到底哪一个因素对于漏光量的影响更大。例如图6A示意性示出了在固定第二密封剂宽度W2情况下，即W2等于定值，曲面显示装置的漏光随着第一密封剂宽度W1变化的趋势图。图6B示意性示出了在固定第一密封剂宽度情况下，即W1等于定值，曲面显示装置的漏光随着第二密封剂宽度W2变化的趋势图。根据图6A所示的模拟结果，可以知晓在固定第二密封剂宽度W2情况下，随着第一密封剂宽度W1逐渐增大，暗态下的漏光量，即透过上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的光量逐渐减小。这就意味在，在固定第二密封剂宽度W2情况下，增大第一密封剂宽度W1对于减小漏光量是有帮助的。根据图6B所示的模拟结果，可以知晓在固定第一密封剂宽度W1情况下，随着第二密封剂宽度W2逐渐增大，暗态下的漏光量逐渐增大。这就意味在，在固定第一密封剂宽度W1情况下，减小第二密封剂宽度W2对于减小漏光量是有帮助的。
根据上面的模拟分析结果，第一密封剂的宽度W1大于第二密封剂的宽度W2。在这样的情况下，可以减小上曲面透光基板2和下曲面透光基板4中的应力，改善上曲面透光基板2和下曲面透光基板4中的应力分布，从而减小在暗态时的漏光量。
为了进一步研究第一密封剂的宽度W1与第二密封剂的宽度W2的比值W1/W2在什么范围内可以得到较好的效果，本发明的发明人做了进一步的模拟实验。图7示意性示出了曲面显示装置10的漏光随着第一密封剂的宽度W1/第二密封剂的宽度W2的比例变化的趋势图。根据图7所示的模拟结果可以知晓，随着第一密封剂的宽度W1/第二密封剂的宽度W2的比例逐渐增大，曲面显示装置10在暗态下的漏光量逐渐减小。例如，图7示出了在横坐标W1/W2为1时，纵坐标L/L的漏光量约为1；在横坐标W1/W2为1.5时，纵坐标L/L的漏光量约为0.92；在横坐标W1/W2为2时，纵坐标L/L的漏光量约为0.84；在横坐标W1/W2为3时，纵坐标L/L的漏光量约为0.80；在横坐标W1/W2为4时，纵坐标L/L的漏光量约为0.69；在横坐标W1/W2为6时，纵坐标L/L的漏光量为0.62。这就意味着，第一密封剂的宽度W1/第二密封剂的宽度W2的比值越大，暗态下的漏光量越小。在横坐标W1/W2小于1时，可以认为纵坐标L/L的漏光量仍然约为1。对于横坐标W1/W2大于6的情形，根据图7的模拟结果可知，此时的漏光量已经接近于W1/W2为6时对应的极限值，即可以认为在横坐标W1/W2大于6时，纵坐标L/L的漏光量仍然约为0.62。
图8A-图8E进一步示意性示出了第一密封剂的宽度W1/第二密封剂的宽度W2的比例分别为2, 3, 4, 5, 6情况下，曲面显示装置漏光的模拟视图。根据图8A-图8E所示的模拟结果，可以知晓在第一密封剂的宽度W1/第二密封剂的宽度W2的比例为2时，暗态下的漏光量最大，图8A中存在较多的白色区域，即较多的暗态下的漏光区域，较少的黑色区域，即较少的暗态下阻挡光线透过的区域。随着第一密封剂的宽度W1/第二密封剂的宽度W2的比例从2变为3，如图8A，8B所示的；从3变为4，如图8C所示的；从4变为5，如图8D所示的；从5变为6，如图8D所示的，可以知晓，图8A-图8E中的白色区域越来越少，即暗态下的漏光区域越来越少，黑色区域越来越多，即暗态下阻挡光线透过的区域越来越多。这就表明，随着第一密封剂的宽度W1/第二密封剂的宽度W2的比例从2变为3；从3变为4；从4变为5；从5变为6，暗态下的漏光量逐渐减小，在第一密封剂的宽度W1/第二密封剂的宽度W2的比例为6时，暗态下的漏光量最小。因此，优选的，第一密封剂的宽度W1与第二密封剂的宽度W2的比值1＜W1/W2≤6。
鉴于上面的描述可以知晓，在本发明中提到的术语“特定宽度分布的密封剂”包含了至少两个含义。第一个含义是，在保持第一密封剂的宽度W1等于第二密封剂的宽度W2的情况下，尽量减小第一密封剂的宽度W1和第二密封剂的宽度W2，这种宽度分布的密封剂可以有效地减小上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的应力，同时改变了上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的应力分布状态。在这样的情况下，可以有效地减少在暗态下的漏光量。第二个含义是，在第一密封剂的宽度W1大于第二密封剂的宽度W2的情况下，选择合适的第一密封剂的宽度W1与第二密封剂的宽度W2的比值。这种宽度分布的密封剂同样可以有效地减小上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的应力，同时改变了上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的应力分布状态。在这样的情况下，也可以有效地减少在暗态下的漏光量。因此，本发明说明书和权利要求书中提到的术语“特定宽度分布的密封剂”具有明确的含义。
在上面提到的第一个含义中，即在保持第一密封剂的宽度W1等于第二密封剂的宽度W2的情况下，尽量减小第一密封剂的宽度W1和第二密封剂的宽度W2，与现有技术中存在的第一密封剂的宽度和第二密封剂的宽度都较宽的情况相比，可以减小密封剂对于上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的牵引力，即，同时减小在非弯曲边边缘和弯曲边边缘的牵引力，使得上曲面透光基板2和下曲面透光基板4更趋向于恢复到弯曲之前的状态，这样上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的边角区域的光轴更加趋向于0°或者180°。在这样的情况下，可以有效地减小上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的内部应力，同时改变上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的应力分布状态，减少在暗态下的漏光量。
在上面提到的第二个含义中，即，在第一密封剂的宽度W1大于第二密封剂的宽度W2的情况下，选择合适的第一密封剂的宽度W1与第二密封剂的宽度W2的比值，与现有技术相比，增大第一密封剂的宽度W1，减小第二密封剂的宽度W2可以使得上曲面透光基板2和下曲面透光基板4在水平方面（一般认为垂直于非弯曲边边缘）上具有较大的牵引力，在垂直方向（一般认为垂直于弯曲边边缘）上具有较小的牵引力，由于在水平方向的牵引力大于在垂直方向的牵引力，使得上曲面透光基板2和下曲面透光基板4中的应力分布特别是上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的边角区域的应力分布的角度倾向于向水平方向倾斜，即趋向于0°或者180°。相对于背景技术中提到的现有技术中左上边角区域、右上边角区域的光轴处于接近30°或者接近-30°的水平，甚至于接近45°或者接近-45°的水平的情况来讲，本发明中边角区域的应力分布的角度稍微取向水平会使得边角区域的光轴小于30°或者小于-30°的水平，即，应力分布的角度或者光轴更加趋向于接近0°或者180°。在这样的情况下，可以有效地减小上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的应力，同时改变了上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的应力分布状态，有效地减少在暗态下的漏光量。
在本发明的一个实施例中，在制作液晶型的曲面显示装置的情况下，可以在上曲面透光基板2、下曲面透光基板4和密封剂（例如密封剂的非弯曲边6和密封剂的弯曲边8）包围的空间中包含液晶层（附图中未示出）。虽然，在本发明的附图中没有具体示出液晶层，但是本领域技术人员根据本发明的介绍，结合现有技术的液晶型曲面显示装置中液晶层的布置，是不难实现的。
备选的，上曲面透光基板2是彩色滤光器透光基板或者透明导电薄膜透光基板，下曲面透光基板4是薄膜晶体管透光基板。
备选的，曲面显示装置10还可以包括：位于与下曲面透光基板4相对的上曲面透光基板2另一侧上的第一偏振片，位于与上曲面透光基板2相对的下曲面透光基板4另一侧上的第二偏振片，其中第一偏振片与第二偏振片的偏振方向正交。虽然，在本发明的附图中没有具体示出第一偏振片与第二偏振片，但是本领域技术人员根据本发明的介绍，结合现有技术的曲面显示装置中第一偏振片与第二偏振片的布置，是不难实现的。在曲面显示装置10使用的过程中，由于第一偏振片与第二偏振片的偏振方向正交，这样确保了在暗态下经过第一偏振片、上曲面透光基板2、或者还经过液晶层的光线，在穿过上曲面透光基板2到达第二偏振片时，光线并不能穿过第二偏振片而被阻挡，这样有助于在暗态下实现较少的漏光量。
根据本发明的第二个方面，提供一种制作曲面显示装置的方法，图9A示意性示出了制作曲面显示装置的方法步骤，其可以包括：步骤S32，在上曲面透光基板2和与上曲面透光基板2相对布置的下曲面透光基板4之间，沿着上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的边缘涂覆具有特定宽度分布的密封剂，该密封剂包括位于上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的非弯曲边边缘的第一密封剂和位于上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的弯曲边边缘的第二密封剂，特定宽度分布的密封剂将上曲面透光基板2和下曲面透光基板4粘附在一起，并且使得上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的应力减小，同时改变上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的应力分布。
备选的，涂覆具有特定宽度分布的密封剂的步骤可以包括：第一密封剂宽度W1大于第二密封剂宽度W2。
备选的，第一密封剂宽度W1大于沿第二密封剂宽度W2可以包括：步骤S34，在涂覆上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的非弯曲边边缘时增大密封剂施加器喷嘴的压力，在涂覆上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的弯曲边边缘时减小密封剂施加器喷嘴的压力。增大密封剂施加器喷嘴的压力可以使得密封剂喷嘴在单位时间内喷射更多的密封剂。减小密封剂施加器喷嘴的压力可以使得密封剂喷嘴在单位时间内喷射较少的密封剂。由于在单位施加内密封剂喷嘴喷射密封剂的数量不同，使得在涂覆上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的非弯曲边边缘时具有较多的密封剂，在涂覆上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的弯曲边边缘时具有较少的密封剂。在上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的非弯曲边边缘和弯曲边边缘在压合的时候承受相同压力的情况下，较多的密封剂意味着上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的非弯曲边边缘处密封剂较宽，较少的密封剂意味着上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的弯曲边边缘处密封剂较窄。
可选的，其中步骤S32，涂覆具有特定宽度分布的密封剂还可以包括：步骤S36，在平行于上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的非弯曲边边缘处密封剂施加器喷嘴多次喷射，在平行于上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的弯曲边边缘处密封剂施加器喷嘴进行较少次数喷射。在密封剂施加器喷嘴压力一致的情况下，在平行于上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的非弯曲边边缘处密封剂施加器喷嘴多次喷射可以喷射较多的密封剂，这样使得上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的非弯曲边边缘处密封剂宽度较宽。在平行于上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的弯曲边边缘处密封剂施加器喷嘴进行较少次数喷射可以喷射较少的密封剂，这样使得上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的非弯曲边边缘处密封剂宽度较窄。
优选的，其中第一密封剂的宽度W1与第二密封剂的宽度W2的比值1＜W1/W2≤6。
在制作液晶型的曲面显示装置的情况下，在沿着上曲面透光基板2和下曲面透光基板4的边缘涂覆具有特定宽度分布的密封剂之前，包括：在上曲面透光基板2和下曲面透光基板4之间布置液晶层。
备选的，其中上曲面透光基板2是彩色滤光器透光基板或者透明导电薄膜透光基板，下曲面透光基板4是薄膜晶体管透光基板。
根据本发明的第三个方面，提供一种电子设备，其可以包括上述的曲面显示装置或使用上述的制作曲面显示装置的方法制作的曲面显示装置。
虽然已经参考目前考虑到的实施例描述了本发明，但是应该理解本发明不限于所公开的实施例。相反，本发明旨在涵盖所附权利要求的精神和范围之内所包括的各种修改和等同布置。以下权利要求的范围符合最广泛解释，以便包含每个这样的修改及等同结构和功能。

Claims (14)

1.一种曲面显示装置，包括：
上曲面透光基板；
与所述上曲面透光基板相对布置的下曲面透光基板；
位于所述上曲面透光基板和下曲面透光基板之间并且沿着所述上曲面透光基板和所述下曲面透光基板的边缘涂覆的具有特定宽度分布的密封剂，所述密封剂包括位于所述上曲面透光基板和所述下曲面透光基板的非弯曲边边缘的第一密封剂和位于所述上曲面透光基板和所述下曲面透光基板的弯曲边边缘的第二密封剂，所述第一密封剂的宽度W1大于所述第二密封剂的宽度W2，所述第一密封剂和所述第二密封剂使得所述上曲面透光基板和下曲面透光基板粘附在一起，并且使得所述上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力减小，同时改变了所述上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力分布。
2.根据权利要求1所述的曲面显示装置，其特征在于，在所述第二密封剂的宽度W2为定值时，透过所述上曲面透光基板和下曲面透光基板的光量随着所述第一密封剂的宽度W1增大而减小。
3.根据权利要求1所述的曲面显示装置，其特征在于，在所述第一密封剂的宽度W1为定值时，透过所述上曲面透光基板和下曲面透光基板的光量随着所述第二密封剂的宽度W2增大而增大。
4.根据权利要求1所述的曲面显示装置，其特征在于，所述第一密封剂的宽度W1与所述第二密封剂的宽度W2的比值1＜W1/W2≤6。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的曲面显示装置，其特征在于，在所述上曲面透光基板、下曲面透光基板和密封剂包围的空间中包含液晶层。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的曲面显示装置，其特征在于，所述上曲面透光基板是彩色滤光器透光基板或者透明导电薄膜透光基板，所述下曲面透光基板是薄膜晶体管透光基板。
7.根据权利要求1-4中任一项所述的曲面显示装置，其特征在于，所述曲面显示装置还包括：
位于与所述下曲面透光基板相对的所述上曲面透光基板另一侧上的第一偏振片，位于与所述上曲面透光基板相对的所述下曲面透光基板另一侧上的第二偏振片，其中所述第一偏振片与第二偏振片的偏振方向正交。
8.一种制作曲面显示装置的方法，包括步骤：
在上曲面透光基板和与所述上曲面透光基板相对布置的下曲面透光基板之间，沿着所述上曲面透光基板和所述下曲面透光基板的边缘涂覆具有特定宽度分布的密封剂，所述密封剂包括位于所述上曲面透光基板和所述下曲面透光基板的非弯曲边边缘的第一密封剂和位于所述上曲面透光基板和所述下曲面透光基板的弯曲边边缘的第二密封剂，所述第一密封剂宽度W1大于所述第二密封剂宽度W2，所述特定宽度分布的密封剂将所述上曲面透光基板和下曲面透光基板粘附在一起，并且使得所述上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力减小，同时改变所述上曲面透光基板和下曲面透光基板的应力分布。
9.根据权利要求8所述的制作曲面显示装置的方法，其中所述第一密封剂宽度W1大于所述第二密封剂宽度W2包括：
在涂覆所述上曲面透光基板和下曲面透光基板的非弯曲边边缘时增大密封剂施加器喷嘴的压力，在涂覆所述上曲面透光基板和下曲面透光基板的弯曲边边缘时减小密封剂施加器喷嘴的压力。
10.根据权利要求8所述的制作曲面显示装置的方法，其中所述涂覆具有特定宽度分布的密封剂包括：
在平行于所述上曲面透光基板和下曲面透光基板的非弯曲边边缘处密封剂施加器喷嘴多次喷射，在平行于所述上曲面透光基板和下曲面透光基板的弯曲边边缘处密封剂施加器喷嘴进行较少次数喷射。
11.根据权利要求8-10中任一项所述的制作曲面显示装置的方法，其中所述第一密封剂的宽度W1与所述第二密封剂的宽度W2的比值1＜W1/W2≤6。
12.根据权利要求8-10中任一项所述的制作曲面显示装置的方法，在所述沿着上曲面透光基板和下曲面透光基板的边缘涂覆具有特定宽度分布的密封剂之前，包括：
在所述上曲面透光基板和下曲面透光基板之间布置液晶层。
13.根据权利要求8-10中任一项所述的制作曲面显示装置的方法，其中所述上曲面透光基板是彩色滤光器透光基板或者透明导电薄膜透光基板，所述下曲面透光基板是薄膜晶体管透光基板。
14.一种电子设备，包括权利要求1-7中任一项所述的曲面显示装置或使用权利要求8-13中任一项所述的制作曲面显示装置的方法制作的曲面显示装置。
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