CN104882241B - 一种磁性陶瓷盘及其生产工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明为一种磁性陶瓷盘，包括有永磁体和圆环形支撑板，永磁体由粘结胶粘贴固定于支撑板的上、下表面；永磁体的表面粗糙度在Ra0.4～Ra0.025之间，表面湿滑动摩擦系数在0.03～0.08之间。该磁性陶瓷盘具有永磁体利用率高，表面摩擦系数低，结构和生产工艺简单，加工难度小等特点。
Description
技术领域
本发明是关于磁性圆盘及其生产工艺，尤其涉及一种磁性陶瓷盘及其生产工艺。
背景技术
盘式磁选(磁分离)设备已经广泛应用在冶金、矿山、有色金属、黄金、电力和水处理等行业中，现有的盘式磁选(磁分离)设备，如：CN2721618Y“稀土磁环分离净化废水装置”、CN101327464A“一种盘式磁选机”和CN2077328U“圆盘型永磁弱磁磁选机”等专利中均具有永磁实心圆盘，且均为永磁体靠磁力吸附于支撑板上，再用厚度在2～5mm的不锈钢薄钢板将永磁体密封，使之不直接接触磁性物。这些现有装置的永磁体没有直接接触到浆料或磁性物质，而是人为设置一层不锈钢薄钢板隔层。从理论上分析，距离永磁体表面10mm的范围内的磁场强度的衰减最为严重，该隔层就严重影响永磁体的作用效率。另外，上述专利中公示的盘式磁选(磁分离)设备均采用刮渣条强制性卸渣，由于不锈钢薄钢板摩擦系数较高，导致不锈钢薄钢板和刮渣条的磨损较大，严重降低使用寿命。再者，上述现有技术中的磁盘还存在结构复杂，制造难度大等缺陷。
由此，本发明人凭借多年从事相关行业的经验与实践，提出一种磁性陶瓷盘及其生产工艺，以克服现有技术的缺陷。
发明内容
本发明的目的在于提供一种磁性陶瓷盘及其生产工艺，该磁性陶瓷盘具有永磁体利用率高，表面摩擦系数低，结构和生产工艺简单，加工难度小等特点。
本发明的目的是这样实现的，一种磁性陶瓷盘，包括有永磁体和圆环形支撑板，所述永磁体由粘结胶粘贴固定于支撑板的上、下表面；所述永磁体的表面粗糙度在Ra0.4～Ra0.025之间，表面湿滑动摩擦系数在0.03～0.08之间。
在本发明的一较佳实施方式中，所述永磁体是由多个磁块构成；各相邻磁块之间的间隙填充有粘结胶和粒径在325目以下硬质非金属粉末的混合物。
在本发明的一较佳实施方式中，硬质非金属粉末为莫氏硬度在6.5～7.5之间的硬玉、石英石、榴石、橄揽石或电气石；粘结胶与硬质非金属粉末按体积1:1～1:3之间的比例混合。
在本发明的一较佳实施方式中，所述永磁体为烧结铁氧体或烧结钕铁硼材料。
在本发明的一较佳实施方式中，所述支撑板由金属或硬质非金属材料构成。
在本发明的一较佳实施方式中，所述支撑板直径为300～2000mm，厚度为6～10mm，环宽在100～1000mm。
在本发明的一较佳实施方式中，所述粘结胶为丙烯酸酯结构胶、环氧结构胶或聚氨酯结构胶。
本发明的目的还可以这样实现，一种磁性陶瓷盘的生产工艺，该工艺包括如下步骤：
a、将金属或硬质非金属板裁成圆环支撑板；
b、将永磁体以一定的排列方式通过粘结胶均匀粘结在支撑板两侧，并采用粘结胶和粒径在325目以下硬质非金属粉末的混合物将永磁体之间的间隙严密填充；
c、将经过上述加工之后的磁性陶瓷盘放置烘箱内，在70～100℃的条件下烘烤30min～60min；或自然放置24～36h，以固化粘结胶；
d、将经固化后的磁性陶瓷盘两个侧面进行镜面磨抛；
e、将盘面进行清洗。
在上述步骤d中：
1)打磨压强控制在1～4MPa之间；
2)抛光压强控制在3～6MPa之间；
3)抛磨盘面温度控制在0～45℃之间；
4)打磨需在有水或者油充当介质的条件下进行，介质沉淀净化后循环使用；
5)水或者油介质带压给入盘面；
6)水或者油介质给入压力在0.1MPa～0.5MPa；
7)打磨依次采用100目、500目、1000目、2000目和3000目金刚水磨片，直至盘面表面粗糙度达到Ra0.4～Ra0.025；
8)抛光采用毡轮抛光轮。
由上所述，该磁性陶瓷盘具有永磁体利用率高，表面摩擦系数低，结构和生产工艺简单，加工难度小等特点。
附图说明
以下附图仅旨在于对本发明做示意性说明和解释，并不限定本发明的范围。其中：
图1：为本发明磁性陶瓷盘结构示意图。
图2：为本发明磁性陶瓷盘的剖视结构示意图。
具体实施方式
为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本发明的具体实施方式。
如图1、图2所示，本发明提出一种磁性陶瓷盘100，该磁性陶瓷盘100包括有永磁体1和圆环形支撑板3，所述永磁体1是由多个磁块11构成；所述永磁体1由粘结胶2粘贴固定于支撑板3的上、下表面，各相邻磁块11之间的间隙填充有粘结胶和粒径在325目以下硬质非金属粉末的混合物，以提高填充材料的耐磨性；所述永磁体1的表面粗糙度在Ra0.4～Ra0.025之间(即：表面光洁度在▽9～▽13之间)，表面湿滑动摩擦系数在0.03～0.08之间。
具体地，在本实施例中，永磁体1的表面粗糙度为Ra0.05(即：表面光洁度为▽11)；表面湿滑动摩擦系数为0.07。
在本实施方式中，所述硬质非金属粉末为莫氏硬度在6.5～7.5之间的硬玉、石英石、榴石、橄揽石或电气石；粘结胶2与硬质非金属粉末按体积1:1～1:3之间的比例混合。
所述支撑板3由金属或硬质非金属材料构成，所述支撑板3直径为300～2000mm，厚度为6～10mm，环宽在100～1000mm；在本实施例中，支撑板3采用铁素体不锈钢；
所述粘结胶2采用丙烯酸酯结构胶、环氧结构胶或聚氨酯结构胶其中的一种。在本实施例中粘结胶2采用环氧结构胶。
上述磁性陶瓷盘100的生产工艺，包括如下步骤：
a、将直径为300～2000mm、厚度为6～10mm的金属或硬质非金属板裁成环宽在100～1000mm之间的圆环支撑板3；
b、将永磁体1以一定的排列方式通过粘结胶2均匀粘结在支撑板3的上、下两侧，并采用粘结胶2和粒径在325目(0.045mm)以下硬质非金属粉末的混合物将永磁体1中相邻各磁块11之间的间隙严密填充；
c、将经过上述加工之后的磁性陶瓷盘放置烘箱内，在70～100℃的温度烘烤30～60分钟；或自然放置24～36小时，以固化粘结胶2；
d、将经固化后的磁性陶瓷盘上、下两个侧面进行镜面磨抛：
1)打磨压强控制在1～4MPa之间；2)抛光压强控制在3～6MPa之间；3)抛磨盘面温度控制在0～45℃之间；4)打磨需在有水或者油充当介质的条件下进行，介质沉淀净化后循环使用；5)水或者油介质带压给入盘面；6)水或者油介质给入压力在0.1MPa～0.5MPa(湿润、降温、清洗盘面)；7)打磨依次采用100目、500目、1000目、2000目和3000目金刚水磨片，直至盘面光洁度达到▽9～▽13(表面粗糙度在Ra0.4～Ra0.025)；8)抛光采用毡轮抛光轮；
e、将盘面进行清洗，即制造生产出磁性陶瓷盘。
由上所述，该磁性陶瓷盘具有永磁体利用率高，表面摩擦系数低，结构和生产工艺简单，加工难度小等特点。
与现有技术相比，本发明具有以下特点：
(1)结构简单，加工难度小；
整个磁性陶瓷盘无需焊接，且不追求密封，仅仅采用粘结胶即可完成生产加工；
(2)永磁体磁能积利用率高；
本发明磁性陶瓷盘的永磁体的表面直接作用于磁性物质，与浆料或者磁性物质之间没有隔层，可提高永磁体磁能积利用率30％以上；
(3)盘面摩擦系数低，采用刮渣条卸渣时，对盘面和刮渣条的磨损小，可延长磁性陶瓷盘的使用寿命；
本发明磁性陶瓷盘表面作镜面抛光处理，摩擦系数可由镜面抛光前的0.3～0.6降低至0.08以下，直接表征为刮渣条与盘面的摩擦力降低了4倍以上；
(4)抛磨后盘面平整，无裂痕和磁体崩塌现象；
采用由粗到细金刚水磨片进行打磨，确保盘面平整、光洁；在有水或油介质存在下，通过控制抛磨压强和盘面温度，可以避免盘面磁体出现裂痕或崩塌现象。
以上所述仅为本发明示意性的具体实施方式，并非用以限定本发明的范围。任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的构思和原则的前提下所作出的等同变化与修改，均应属于本发明保护的范围。
Claims (9)
1.一种磁性陶瓷盘，包括有永磁体和圆环形支撑板，其特征在于：所述永磁体由粘结胶粘贴固定于支撑板的上、下表面；所述永磁体的表面粗糙度在Ra0.4μm～Ra0.025μm之间，表面湿滑动摩擦系数在0.03～0.08之间；
所述永磁体是由多个磁块构成；各相邻磁块之间的间隙填充有粘结胶和粒径在325目以下硬质非金属粉末的混合物。
2.如权利要求1所述的磁性陶瓷盘，其特征在于：硬质非金属粉末为莫氏硬度在6.5～7.5之间的硬玉、石英石、榴石、橄揽石或电气石；粘结胶与硬质非金属粉末按体积1:1～1:3之间的比例混合。
3.如权利要求1所述的磁性陶瓷盘，其特征在于：所述永磁体为烧结铁氧体或烧结钕铁硼材料。
4.如权利要求1所述的磁性陶瓷盘，其特征在于：所述支撑板由金属或硬质非金属材料构成。
5.如权利要求4所述的磁性陶瓷盘，其特征在于：所述支撑板直径为300～2000mm，厚度为6～10mm，环宽在100～1000mm。
6.如权利要求1所述的磁性陶瓷盘，其特征在于：所述粘结胶为丙烯酸酯结构胶、环氧结构胶或聚氨酯结构胶。
7.一种磁性陶瓷盘的生产工艺，该工艺包括如下步骤：
a、将金属或硬质非金属板裁成圆环支撑板；
b、将永磁体以一定的排列方式通过粘结胶均匀粘结在支撑板两侧，并采用粘结胶和粒径在325目以下硬质非金属粉末的混合物将永磁体之间的间隙严密填充；
c、将经过上述加工之后的磁性陶瓷盘放置烘箱内，在70～100℃的条件下烘烤30min～60min；或自然放置24～36h，以固化粘结胶；
d、将经固化后的磁性陶瓷盘两个侧面进行镜面磨抛；
e、将盘面进行清洗。
8.如权利要求7所述的磁性陶瓷盘的生产工艺，其特征在于：在上述步骤d中：
1)打磨压强控制在1～4MPa之间；
2)抛光压强控制在3～6MPa之间；
3)抛磨盘面温度控制在0～45℃之间；
4)打磨需在有水或者油充当介质的条件下进行，介质沉淀净化后循环使用；
5)水或者油介质带压给入盘面；
6)水或者油介质给入压力在0.1MPa～0.5MPa；
7)打磨依次采用100目、500目、1000目、2000目和3000目金刚水磨片，直至盘面表面粗糙度达到Ra0.4～Ra0.025；
8)抛光采用毡轮抛光轮。
9.如权利要求7所述的磁性陶瓷盘的生产工艺，其特征在于：在上述步骤a中，所述支撑板直径为300～2000mm，厚度为6～10mm，环宽在100～1000mm。
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
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| CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 610045 Wuhou District, Sichuan Province, Wu Xing Road, No. 3, No. Patentee after: SCIMEE TECH. & SCI. CO.,LTD. Address before: 610045 Wuhou District, Sichuan Province, Wu Xing Road, No. 3, No. Patentee before: SICHUAN DEMO-SCIMEE SCIENCE AND TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
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| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 610045 No. 3, Wu Xing Road, Chengdu, Sichuan, Wuhou District Patentee after: CSCEC Huanneng Technology Co.,Ltd. Address before: 610045 No. 3, Wu Xing Road, Chengdu, Sichuan, Wuhou District Patentee before: SCIMEE TECH. & SCI. CO.,LTD. |
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| CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
| CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Wang Zhexiao Inventor after: Ni Mingliang Inventor after: Chen Li Inventor before: Ni Mingliang Inventor before: Chen Li |
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| CB03 | Change of inventor or designer information | ||
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Application publication date: 20150902 Assignee: SICHUAN METALLURG HUANNENG ENG Assignor: CSCEC Huanneng Technology Co.,Ltd. Contract record no.: X2024980002590 Denomination of invention: A magnetic ceramic disc and its production process Granted publication date: 20170322 License type: Common License Record date: 20240306 |
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| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |