CN104822291A - 用于处理表面的系统和方法 - Google Patents

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CN104822291A CN201380032474.8A CN201380032474A CN104822291A CN 104822291 A CN104822291 A CN 104822291A CN 201380032474 A CN201380032474 A CN 201380032474A CN 104822291 A CN104822291 A CN 104822291A
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Abstract

提供用于处理表面的系统和方法。用于处理表面的柔性的或有适应能力的垫可以特别适用于不平表面的处理。该装置可以包括安装部和柔性表面,该柔性表面包括多个处理部。该处理部可以包括研磨材料。在所述装置的表面上的裂缝或凹槽使第一和第二处理部能相对于被处理表面的呈现各自的第一和第二位置。凹槽的边缘可以用于增加所述装置的研磨性并且可以从被处理表面移除材料。描述并声明了其它实施例。

Description

用于处理表面的系统和方法
相关申请的交叉引用
本申请要求申请号为61/553,961,2011年11月1日提交的美国临时申请的权益,该申请的内容在此引入。
技术领域
本申请涉及表面处理。特别地,涉及用于抛光和/或剥落表面的系统、方法和装置。
背景技术
已经知晓用于处理皮肤、组织或其它表面的各种处理系统和方法。例如,已知用于处理皮肤的化妆品,例如,护肤液,以及各种设备。本领域也已知用于线性设计或从皮肤移除研磨表面的设备,包括机电发动机。
发明内容
本发明的实施例涉及一种用于处理表面、区域或材料的柔性或有适应能力的垫。根据本发明的实施例的装置和/或设备可以特别地涉及不平表面的处理。用于处理表面的装置可包括安装部和柔性表面,该柔性表面包括多个处理部。该处理部可以包括研磨材料并可以设计成使装置与被处理表面的接触区域最大化。在一个实施例中,所述装置可以由一种或更多种柔性材料,例如,硅或橡胶,制造而成。可以在装置的表面上设置裂缝或凹槽,从而凹槽的第一和第二处理部可以用于增加该装置的研磨性。在所述装置的表面上的裂缝或凹槽可以用于从被处理表面移除材料。该装置可以包括孔或通道以使物质能在该装置的内部空间和该装置外的外部空间之间通过。
该装置可以包括用于控制该装置对外部压力的反应的一个或更多个内部支撑件。该装置的一部分内部空间可以用物质填充以控制对外部压力的反应。该装置可以包括用于将材料排放至被处理表面上的排放单元。该装置可以利用安装部安装在设备上并且该设备可以相对于被处理表面平移一个或更多个处理部。对该装置的内室提供的吸力使物质从该室流至容器中。可以通过控制该装置的内室中的压力和/或该装置的内室中的物质的量来控制该装置的柔性。可以控制该装置的温度。
附图说明
在说明书的结束部分特别指出并清楚地声明了本发明的主题。但是,结合下文具体的描述和附图,可以最好地理解本发明的机构和操作方法,及其特征和优势,其中,相同的附图标记表示相应的、相似的或类似的元件,并且其中:
图1A为根据本发明的实施例的柔性垫的示意图;
图1B为根据本发明的实施例的柔性垫的示意图;
图1C为根据本发明的实施例的柔性垫的示意图;
图2为根据本发明的实施例的装置的横截面示意图;
图3为根据本发明的实施例的柔性垫的横截面示意图;
图4为根据本发明的实施例的系统。
具体实施方式
在以下的描述中,会描述本发明的各种实施例。为了解释的目的,阐明了具体的实施例,以彻底理解本发明的至少一个实施例。然而,本发明的其它实施例不受限于在此描述的例子,这对本领域技术人员来说也是显而易见的。此外,可以省略或简化已知的特征以避免掩盖在此描述的本发明的实施例。
在以下的具体说明中,阐明多个细节以提供对本发明的透彻理解。然而,本领域的技术人员应当理解在没有这些特定的细节描述的情况下仍可实施本发明。在其它的例子中,没有对已知的方法,程序以及组件、模块、单元和/或线路进行详细描述以便于不会使本发明变模糊。
虽然本发明的实施例不受限于这方面,在此使用的术语“多个”和“几个”可以包括,例如,“多种”或“两个或更多个”。在全文中可以使用术语“多个”和“几个”描述两个或更多个组件、设备、元件、单元、参数等等。除非明确说明,在此所描述的方法实施例不受限于特定的顺序或序列。此外,所描述的一些方法实施例或其元件可以同步地、在同一时间点或同时地发生或进行。
本发明的实施例提供一种柔性或有适应能力的垫,所述垫提高这种垫对被处理表面、区域或材料的表面适应性。根据本发明的实施例的装置和/或设备可以为,或可以包括用于抛光、剥落、擦洗等的柔性垫。如所述,根据本发明的实施例的装置和/或设备可以特别适于处理不平的表面,例如,可以处理皮肤的不平表面。虽然这里的讨论主要涉及皮肤并且,特别是皮肤的不平表面,的处理,但可以理解的是,处理其它表面是可以考虑的。例如,根据本发明的实施例的装置和/或系统可用于抛光,剥落或处理金属,木材,石材等可能的不平表面。
本发明的实施例包括一种柔性、易弯的或有延展性的垫或膜,该垫或膜用于向被处理区域提供扩展的表面适应性。如在此所述,该装置可以用于化妆应用,比如,机械表皮剥落以及在工艺应用中用于任何不平表面的抛光。如在此所述,该垫可具有不同的柔性和/或变形水平和/或不同的研磨等级。垫的属性(例如,柔性或研磨等级)可以在生产阶段确定,或其可以被动态地控制,改变或修改。该装置可以根据若干预定义的参数制造。例如,研磨水平、等级或速率、柔性、弹性和/或对于被处理表面的可调节性都是可以设置的。在生产阶段使用的其它参数可以是所用的尺寸、形状和材料。
根据本发明的一些实施例,该装置(例如,柔性垫)可以安装在设备上。例如,在此描述的柔性垫可以安装在能使所述垫运转,例如,使所述垫转动、振动或线性移动的机电驱动机。在其它实施例中,该柔性垫可以手动操作。在一些实施例中。例如,在系统(例如,包括安装在机电驱动设备上的垫的系统)操作期间可以动态地和/或持续地,设置和/或改变参数,比如,被处理表面的柔性、弹性和/或可调节性。
现在参见图1A,该图展示了柔性易弯的或有延展性的垫或膜100的示意图。如图所示,该垫100可以包括多个处理部(或接触区域)101,所述处理部被裂缝、切口或凹槽102分开。如图所示,箭头103所示的外力可以使一些处理部101塌下,而其它处理部可以保持在其原来位置。如图所示,通过制作多个被裂缝102分离的处理部101,该装置可以使所述装置与被处理表面的接触区域最大化。
通过使不同等级的研磨性在处理部101上生效可以实现处理包括擦洗、抛光、剥离、剥落或类似操作。该处理部101可以设计成并制作成各种形状以提高对被处理表面的适应性。例如,该处理部101可以为同心圆,比萨饼切片,或任何其它几何形状,包括徽标或艺术插图的形式。可以设计裂缝102以扩展该装置的用途。例如,一些裂缝102可以位于可能易撕裂或断裂的特定区域。例如,同心裂缝可位于垫100的边缘,例如,由于垫100中心向内折叠使该垫可能断裂的地方。
该裂缝102可以根据若干参数,例如,宽度或深度制作。可以将垫100制作成使其具有可变的柔性。例如,第一亚组裂缝102可以根据第一组参数制作,并且第二亚组裂缝102可以根据第二组参数制作。例如,较接近垫100中心的裂缝102可以比较接近垫100圆周或周边的裂缝更深或更宽,使得所述垫100的中心比周边对压力更易起反应。可以考虑产生垫100的其它性质的其它构造。可替代地或另外地,可以制作或制造所述垫100的第一和第二部分,使其包括各自的第一和第二材料或数量。例如,所述垫100的中心可以比周边更厚,使得由压力引起的垫100的折叠是受控制的。因此,可以实现垫100的弹性梯度变化,而没有明显的界线。通过控制施加压力时垫100呈现的形状,可以扩展处理部101与被处理表面的总接触区域或甚至使该接触区域最大化。该裂缝102可以使第一和第二亚组处理部101能呈现各自的第一和第二方位,从而使该垫100适应被处理表面。
该裂缝102可以增加垫100的研磨性。例如,至少一些裂缝102的边缘可以形成叶片,该叶片可以增强垫100的擦洗或剥落效果。该裂缝102可以用于从被处理表面移除材料。例如,该裂缝102可以设置成当转动所述垫100时,离心力引起在裂缝102中收集的或由裂缝102收集的灰尘、液体或其它物质向外平移至所述垫100的边缘或周边,从而从被处理区域移除。
该处理部(或接触区)101可以具有不同等级的研磨性和/或水平。可以利用涂布方法使材料,例如砂、水晶、陶瓷、金刚石等沉积在垫100上实现接触区域101的研磨性。在一些实施例中,可将研磨贴纸胶合或连接至所述垫100或处理部101。在其它情况下,在生产过程中可以利用研磨材料,例如,通过插入设计成连接至柔性垫100的研磨层或通过将研磨物质与用于制造垫100的材料混合。在其它实施例中,第一和第二亚组接触区域101可以设有各自的第一和第二研磨性等级或水平。
现参见图1B,该图展示了柔性易弯的或延展性的垫或膜110的示意图。如图所示,垫110上的裂缝115与垫100上的裂缝不同。例如,垫110上所示的裂缝115可以设计成使该裂缝收集从被处理表面擦洗或移除的材料。裂缝115可以进一步设计成将物质从被处理区域移除。例如,垫110的转动引起的离心力可以使裂缝115中收集的物质向外移动至垫110的周边。不同的裂缝设计(例如,裂缝102和115)可以设有各自不同水平的适应性。例如,由于裂缝的图案或设计不同,垫110的中心可以比垫100的中心更柔韧。因此,通过垫上的裂缝的属性可以确定适应性水平。
所述裂缝102可以用于从被处理表面移除材料。例如,该裂缝102可以设置成当转动所述垫100时,离心力使所述裂缝102中收集的或由裂缝102收集的灰尘、液体或其它物质向外平移至所述垫100的周边,从而从被处理区域移除。
现参见图1C,该图展示了柔性易弯的或有延展性的垫或膜120的示意图。垫100、110和120可以设计成使其适用于各种需求或任务,例如,抛光、擦洗、剥落等。例如,利用不同的设计可以实行不同等级或水平的抛光或擦洗。该垫120展示了根据本发明的实施例的垫的另一种设计。所述垫120可以包括单个处理部125。例如,所述垫120可以适于软抛光。例如,该处理部125可以为柔软和/或光滑表面。在实施例中,该处理部125可以为或可以包括棉织物或软刷子。可以利用其它涂层或表面。例如,在实施例中,在此描述的装置可以用于脱毛。在这种情况下,垫上的一个或更多个处理部可以被覆盖、涂覆或可以包括适于脱毛的材料或结构。在其它实施例中,在此描述的垫可用于按摩。
例如,该垫可以包括若干个压力点。例如,内部支撑件或肋可在垫表面上产生一个或更多个点,当该垫在皮肤或肌肉上缓慢移动或转动时,该一个或更多个点可能充当移动的压力点。应该理解,根据本发明的实施例,在此描述的垫100、110和120是示范性的垫。因此,柔性垫可包括一个或更多个处理部,该处理部可被在此所述的任何图案的凹槽或裂缝分开。如所述,柔性垫可以用柔性和研磨材料的任何组合来制造,从而可以在操作中通过垫施加不同的研磨水平或等级。例如,由垫的中心施加至被处理表面的力(或研磨性)可以大于由所述垫的周边施加的力或研磨性。因此,根据本发明实施例的垫可以特别适于处理不平表面。特别地,本发明的实施例可以应用于处理人类皮肤的不平表面。
在实施例中,垫或处理部的柔性、厚度或其它属性可以不是恒定的,例如,在处理部的不同区,柔性或厚度可以不同。例如,可以将处理125设置或制造成材料的厚度从处理部125的周边朝中心沿着假想线减少。因此,处理部125的中心可比周边更适应表面。可以考虑其它设计,例如,为了实现可变的适应性,垫的周边可由第一物质制造而垫的中心可以由第二物质制造,使得不同的处理区域或区段可以具有各自不同的性质,例如,第一处理部的柔性可以不同于相同的垫上的第二处理部的柔性。
现参见图2,该图展示了根据本发明的实施例的装置的横截面示意图。如图所示,该装置可以包括支撑件202和室201。例如,该垫100可以用202和201分别所示的支撑件和室构建。支撑件202可以设计、定位和/或设置成控制垫100的柔性或可弯性。支撑件202可以设计、定位和/或设置成实现所述处理部101对外部压力的反应的控制。例如,第一亚组支撑件202可以比第二亚组支撑件202更厚,或第一区域中的支撑件202的密度可以与第二区域中的密度不同。该室201可以用空气、气体、颗粒、棉絮、液体或伪固体比如泡沫或硅填充。因此,可以确定和/或控制垫100对压力的反应以及,随之而来的对被处理表面的适应性。所述支撑件202和室或腔201中的气体或其它物质的组合物可以使垫100的扩展的柔性能够受到控制。例如,可以将任何物质,例如,气体或液体引入垫(例如,在此描述的垫100、110和120)内的一个或更多个室中,从而可以,例如,通过控制垫或装置的内室中的物质的量控制并动态地改变垫的柔性。
现参见图3,该图展示了根据本发明的实施例的垫100的横截面示意图。如301所示,该垫100可以包括安装部。可以利用安装部301以便将垫100安装在用户可以把持的手柄或其它构造上,例如,当手动操作垫100时。可以利用安装部301以便将垫100安装在设备,例如,机电驱动机器或设备上。
根据本发明的实施例,处理表面的方法可以包括提供一种装置,该装置包括安装部和一个或更多个处理部,其中所述处理部用于使该装置与被处理表面的接触区域最大化。处理皮肤的不平表面的方法可以包括相对于皮肤的被处理的不平表面平移包括多个处理部的柔性表面、包括研磨材料的处理部。该处理部之间的裂缝可以使第一和第二处理部能相对于皮肤的不平表面呈现各自的第一和第二位置。
该方法可进一步包括相对于被处理表面平移该装置。例如,该装置可以为在此描述的垫并且可以通过专门设计的设备平移该垫。在示范性的方法中,可以通过在此所述的设备,例如,参见下面的图4,转动在此描述的垫(例如,就图1A、1B和1C而言)。处理表面比如人类或其它皮肤的方法可以包括自动地和/或动态地将材料从被处理表面移除,通过用物质自动填充装置的室控制装置对外部压力的反应、控制该装置的内室中的压力和控制该装置的温度。处理表面比如人类或其它皮肤的方法可以包括自动和/或动态地将材料交换至被处理表面上和/或将物质从被处理表面收集至容器中。例如,在此讨论的方法可以通过图4所述的设备实施。
现参见图4,该图展示了根据本发明的实施例的系统400。系统400可以用于操作,比如抛光、剥落,或擦洗不平表面,例如人类皮肤。如图所示,利用安装部310,垫100可以安装在或连接至设备410上。设备410可以相对于被处理表面平移垫100及其上面的处理部。例如,设备410可以转动所述垫100和/或循环地使该垫100水平地、线性地移动,使得该垫100上的处理部101擦洗、抛光或处理表面。为清楚起见,图4中省略了导线、导管等。但是,应该理解,可以制作为了使控制器415能控制系统400的组件所需的任何装置。同样地,尽管未示出,也可以设置,例如,使排放单元能向垫100提供物质或向任何组件提供电力的导线管、导管等。
如进一步所示,设备410可以包括马达480、传感器490、控制器415、存储器420和输入/输出组件425。该设备410可以包括电源(例如电池)430、泵440、排放单元450、温度控制单元460,以及容器470。控制器415可以控制系统400的任何可操作方面。该存储器420可以存储各种参数,例如,在处理中可以利用的结构参数。例如,大概基于存储在存储器420中的结构参数,控制器可以控制持续时间或循环、转速、温度、材料的排放或垫100内部的压力以全部由控制器415。输入/输出(I/O)系统425可以包括任何人性化界面,例如,使用户能操作的按钮和显示器,以及结构系统400。例如,用户可以改变或设置存储在存储器420中的参数。
马达480可以由控制器415控制并且可以转动垫100,例如,通过转动利用安装部310连接至垫100的安装板(未示出)。传感器490可以是任何合适的传感器。例如,传感器490可感测或监测温度、压力等。传感器490可以向控制器415提供任何传感参数。因此,基于动态地监测的参数,该控制器415可以动态地适应系统400的操作。例如,如果传感器490感测到的温度超过阈值,该控制器420可使马达480降低垫100的转速。该泵440可以使垫100内部的室或空间保持预定义的压力,从而控制所述垫100的弹性。基于该传感器490感测的压力,该控制器415可激活或关闭所述泵440,从而保持垫100内的压力(例如,如同存储器420中存储的)。为了进一步控制压力,所述垫100可以包括孔或洞,从而可以释放垫100内部的压力。因此,在实施例中,当泵440闲置时,可以快速降低所述垫100内部的压力。
在处理期间,排放单元可以提供物质(例如,软膏或护肤液)。例如,排放单元450可连接(例如,利用小管道)至垫100中的开口,孔或洞,并且可以基于来自控制器415的指令或命令,通过这些开口排放任何物质。该泵440可以将吸力、真空或负压引入该垫100的内部空间或室。因此,物质比如从被处理的皮肤释放的灰尘或材料可以通过垫100中的开口吸出,并且可以进一步平移至容器470。所述容器470可以收集任何排放的材料。温度控制单元460可以冷却或加热所述垫100。例如,温度控制单元460可以提供冷或热空气。例如,所述传感器480可以通知所述控制器415该垫100的温度高于阈值。在这种情况下,所述控制器415可使温度控制单元460提供冷空气至所述垫100的室中。类似地,可以提供热空气,例如,用于需要特定温度的处理。
虽然所示的排放单元450包括在设备410中,但其它结构也是可能的。例如,排放单元450或套筒可以包括在垫100中。从该排放单元排放物质可以是自动的(例如,由控制器415控制),或者可以是手动控制的。例如,用户可以通过按压或提取排放单元使并入垫100中的排放单元释放护肤液。在其它实施例中,并入垫100中的排放单元可以例如,通过排放单元中的内部压力,和通过用于将物质从排放单元携带至垫100的外表面的专用的导管、开口或洞自动地排放材料。
虽然本发明已经描述了有限数量的实施例,但本领域技术人员应该意识到,本发明不限于在此的特别展示和描述。相反,本发明的范围包括在此描述的各种特征的组合和分组合,以及在阅读本说明书之后本领域技术人员想起的以及在现有技术中不存在的变化和修改。虽然在此展示并描述了本发明的一些特征,但本领域技术人员可以想起许多修改、代替、变化,和等同物。因此,应该理解,权利要求意为涵盖所有这些落入本发明的真实意义内的修改和变化。

Claims (20)

1.一种用于处理不平表面的装置,所述装置包括:
安装部;以及
柔性表面,所述柔性表面包括多个处理部,
其中,所述处理部设计成使所述装置与被处理的不平表面的接触区域最大化。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述装置包括柔性材料。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于,裂缝使第一和第二处理部能呈现各自的第一和第二位置。
4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述裂缝的尖锐边缘被设计为增加所述装置的研磨性。
5.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述裂缝用于从被处理的不平表面移除材料。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的装置,其特征在于,所述处理部包括研磨材料。
7.根据权利要求1至6中任意一项所述的装置,其特征在于,包括用于供物质在所述装置的内部空间和所述装置外的外部空间之间通过的孔。
8.根据权利要求1至7中任意一项所述的装置,其特征在于,包括内部支撑件,所述内部支撑件用于控制处理部对外部压力的反应。
9.根据权利要求1至8中任意一项所述的装置,其特征在于,所述装置的至少一部分内部空间用物质填充,以控制对外部压力的反应。
10.根据权利要求1至9中任意一项所述的装置,其特征在于,包括用于将材料排放至被处理的不平表面上的排放单元。
11.根据权利要求1至10中任意一项所述的装置,其特征在于,所述装置通过所述安装部安装在一设备上,该设备相对于被处理的不平表面平移所述处理部。
12.根据权利要求11所述的装置,其特征在于,向所述装置的内室提供的吸力使物质从所述内室流入容器中。
13.根据权利要求11所述的装置,其特征在于,所述设备被配置为通过控制所述装置的内室中的压力来控制所述装置的柔性。
14.根据权利要求11所述的装置,其特征在于,所述设备被配置为控制所述装置的温度。
15.根据权利要求11所述的装置,其特征在于,所述设备被配置为通过控制所述装置的内室中的物质的量来控制所述装置的柔性。
16.一种用于处理皮肤的不平表面的装置,所述装置包括:
柔性表面,所述柔性表面包括多个处理部,所述处理部包括研磨材料;
其中所述处理部之间的裂缝使第一和第二处理部能相对于皮肤的不平表面呈现各自的第一和第二位置。
17.根据权利要求16所述的装置,其特征在于,所述裂缝用于从被处理的不平表面移除材料并且裂缝的尖锐边缘用于增加所述装置的研磨性。
18.根据权利要求16所述的装置,其特征在于,内部支撑件控制处理部对外部压力的反应;以及
所述装置的至少一部分内部空间用物质填充,以控制对外部压力的反应。
19.根据权利要求16所述的装置,其特征在于,连接至所述装置的设备被配置为:
控制所述装置的内室中的压力;
控制所述装置的温度;以及
控制物质从所述装置的内室流出的流量。
20.一种处理皮肤的不平表面的方法,所述方法包括:
使一柔性表面相对于被处理的皮肤的不平表面平移,所述柔性表面包括多个处理部,所述处理部包括研磨材料;
其中,在所述处理部之间的裂缝使第一和第二处理部能相对于皮肤的不平表面呈现各自的第一和第二位置。
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