CN206561342U - 胚体表面打磨装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种胚体表面打磨装置，所述装置包括：打磨机构、移动机构与压力提供机构。所述打磨机构用于对胚体表面进行打磨处理。所述移动机构与所述压力提供机构传动相连，所述移动机构用于驱动所述压力提供机构按照预设打磨轨迹进行移动。所述压力提供机构与所述打磨机构传动连接，所述压力提供机构用于使得所述打磨机构对所述胚体表面产生预设压力。上述的胚体表面打磨装置及方法，可以通过移动机构与压力提供机构驱动打磨机构按照预设打磨轨迹对胚体表面进行打磨，从而能取代手持打磨机构来对胚体表面进行打磨操作，使得自动化程度较高，提高了打磨效率，且能够保证陶瓷胚体表面的打磨质量，减少了人力成本。

Description

胚体表面打磨装置

技术领域

本实用新型涉及一种打磨装置，特别是涉及胚体表面打磨装置。

背景技术

传统的陶瓷胚体的打磨主要是人工手工打磨完成，打磨工人的经验直接决定了陶瓷胚体的打磨质量和速度。另外陶瓷胚体的打磨的工作量较大、工作环境较为恶劣，使得打磨成本较高，且打磨效率较低。

发明内容

基于此，有必要针对克服现有技术的缺陷，提供一种胚体表面打磨装置，它能够保证陶瓷胚体表面的打磨质量，且打磨效率较高。

其技术方案如下：一种胚体表面打磨装置，包括：打磨机构，所述打磨机构用于对胚体表面进行打磨处理；移动机构与压力提供机构，所述移动机构与所述压力提供机构传动相连，所述移动机构用于驱动所述压力提供机构按照预设打磨轨迹进行移动，所述压力提供机构与所述打磨机构传动连接，所述压力提供机构用于使得所述打磨机构对所述胚体表面产生预设压力。

上述的胚体表面打磨装置，可以通过移动机构与压力提供机构驱动打磨机构按照预设打磨轨迹对胚体表面进行打磨，从而能取代手持打磨机构来对胚体表面进行打磨操作，使得自动化程度较高，提高了打磨效率，且能够保证陶瓷胚体表面的打磨质量，减少了人力成本。

在其中一个实施例中，所述打磨机构包括打磨头与打磨件，所述打磨头装设在所述压力提供机构的驱动端，所述打磨头与所述打磨件传动连接。

在其中一个实施例中，所述打磨头为用于驱动所述打磨件旋转的平面旋转型打磨头，或者为用于驱动所述打磨件来回摆动的振动型打磨头。

在其中一个实施例中，所述打磨件的打磨面为平面，所述打磨件为柔性件或弹性件。具体的，所述打磨件为砂纸、砂带、海绵砂或工业百洁布。

在其中一个实施例中，所述打磨机构还包括柔性过渡垫，所述打磨头通过所述柔性过渡垫与所述打磨件连接。如此，打磨头能够较好的适应于不同曲率的胚体表面，使得胚体表面的打磨效果较好。具体的，柔性过渡垫的硬度可以选为20HA～80HA。

在其中一个实施例中，所述压力提供机构为用于使所述打磨机构对所述胚体表面保持恒定压力的浮动恒力装置。浮动恒力装置能够使得打磨机构对胚体表面施加恒定压力，以保证打磨机构对胚体表面的打磨力恒定，另外可以通过控制浮动恒力装置来调整打磨机构对胚体表面所施加的压力大小来改变打磨力大小。如此，打磨机构对胚体表面的打磨力大小可调，且当打磨机构对胚体表面的打磨力保证恒定的情况下，能使得胚体表面的打磨效果较好。

附图说明

图1为本实用新型实施例所述胚体表面打磨装置对所述陶瓷坐便器胚体外表面打磨时的工作状态示意图；

图2为本实用新型实施例所述胚体表面打磨装置对所述陶瓷坐便器胚体内表面打磨时的工作状态示意图一；

图3为本实用新型实施例所述胚体表面打磨装置对所述陶瓷坐便器胚体外表面打磨时的工作状态示意图二。

10、打磨机构，11、打磨头，12、打磨件，13、柔性过渡垫，20、移动机构，21、转角安装柄，30、压力提供机构，40、陶瓷坐便器，50、旋转机构，60、打磨轨迹。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

需要说明的是，以上所述实施例中，当一个元件被认为是“连接”另一个元件，可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在中间元件。相反，当元件为称作“直接”与另一元件连接时，不存在中间元件。

如图1或图2或图3所示，一种胚体表面打磨装置，包括：打磨机构10、移动机构20与压力提供机构30。所述打磨机构10用于对胚体表面进行打磨处理。所述移动机构20与所述压力提供机构30传动相连，所述移动机构20用于驱动所述压力提供机构30按照预设打磨轨迹进行移动。所述压力提供机构30与所述打磨机构10传动连接，所述压力提供机构30用于使得所述打磨机构10对所述胚体表面产生预设压力。

上述的胚体表面打磨装置，可以通过移动机构20与压力提供机构30驱动打磨机构10按照预设打磨轨迹对胚体表面进行打磨，从而能取代手持打磨机构10来对胚体表面进行打磨操作，使得自动化程度较高，提高了打磨效率，且能够保证陶瓷胚体表面的打磨质量，减少了人力成本。

请参阅图1与图2，本实施例中，所述打磨机构10包括打磨头11与打磨件12。所述打磨头11装设在所述压力提供机构30的驱动端，所述打磨头11与所述打磨件12传动连接。所述打磨头11为用于驱动所述打磨件12在平面上进行高速旋转的平面旋转型打磨头11，或者为用于驱动所述打磨件12沿着预设轨道来回摆动的振动型打磨头11。

此外，所述打磨件12的打磨面为平面，所述打磨件12为柔性件或弹性件。具体的，所述打磨件12为砂纸、砂带、海绵砂或工业百洁布。其中，移动机构20可以采用六轴工业机器人，通过六轴工业机器人可以控制打磨机构10按照预设打磨轨迹进行移动。压力提供机构30可以通过转角安装柄21安装在六轴工业机器人的驱动轴末端上，且通过转角安装柄21可以调整压力提供机构30相对于六轴工业机器人的驱动轴的角度，并能够使得打磨机构10打磨面与六轴工业机器人的驱动轴的角度为5°～150°。优选的，打磨机构10打磨面与六轴工业机器人的驱动轴的角度为45°。

胚体表面打磨装置还包括旋转机构50。旋转机构50用于将胚体进行旋转操作，对胚体进行旋转后，使胚体的打磨面可以朝向机器人本体，方便机器人打磨，降低对机器人本体臂长的要求。另外，旋转机构可以固定在底面上，同时能对胚体起到固定作用，如此能避免打磨机构10对胚体进行打磨过程中，胚体发生移动现象，从而能够保证胚体表面的打磨效果。

另外，所述打磨机构10还包括柔性过渡垫13。所述打磨头11通过所述柔性过渡垫13与所述打磨件12连接。如此，打磨头11能够较好的适应于不同曲率的胚体表面，使得胚体表面的打磨效果较好。具体的，柔性过渡垫13的硬度可以选为20HA～80HA。

需要说明的是，所述压力提供机构30为用于使所述打磨机构10对所述胚体表面保持恒定压力的浮动恒力装置。浮动恒力装置能够使得打磨机构10对胚体表面施加恒定压力，以保证打磨机构10对胚体表面的打磨力恒定，另外可以通过控制浮动恒力装置来调整打磨机构10对胚体表面所施加的压力大小来改变打磨力大小。如此，打磨机构10对胚体表面的打磨力大小可调，且当打磨机构10对胚体表面的打磨力保证恒定的情况下，能使得胚体表面的打磨效果较好。

上述的胚体表面打磨装置对胚体表面进行打磨的步骤如下：

步骤S101、确定胚体表面的打磨轨迹60；可以理解的是，该打磨轨迹60即为移动机构20移动打磨机构10的线路。

步骤S102、根据所述打磨轨迹60在所述胚体表面确定多个刀位点；其中，刀位点对应于打磨机构10的打磨面的中心点。打磨机构10对胚体表面的其中一个刀位点对应的待打磨区域进行打磨步骤之前，可以根据刀位点的位置，将其打磨面的中心点与刀位点进行对准，然后通过压力提供机构30驱动打磨机构10的打磨面压迫在刀位点对应的待打磨区域，通过高速转动或来回振动的方式对待打磨区域进行打磨处理。

步骤S103、移动机构20将打磨机构10移动至所述胚体表面，且压力提供机构30使得所述打磨机构10的打磨面压迫在其中一个所述刀位点对应的待打磨区域，打磨面以预设速度进行转动或来回振动的方式对所述待打磨区域进行打磨；

步骤S104、当其中一个所述刀位点对应的待打磨区域打磨完毕后，通过所述移动机构20将所述打磨机构10移动至另一个所述刀位点对应的待打磨区域进行打磨。

此外，请参阅图3，所述打磨轨迹60为S型，所述刀位点沿着所述打磨轨迹60进行设置。打磨机构10沿着S型的打磨轨迹60对各个刀位点对应的打磨区域依次进行打磨，这样打磨机构10对胚体表面的打磨效率较高。

其中，所述胚体为陶瓷胚体，图1至图3示意出的打磨对象均为陶瓷坐便器40胚体。对于陶瓷类胚体，若选用平面旋转型打磨头11对胚体表面进行打磨，则打磨件12应以600rpm～10000rpm的转动速度对所述待打磨区域进行打磨，并可以根据胚体表面的摩擦系数以及压力提供机构30使打磨机构10对胚体表面所施加的压力来将打磨件12对胚体表面的打磨力控制在1N～100N，这样能够保证陶瓷胚体的胚体表面具有较好的打磨效果；而若选用振动型打磨头11对胚体表面进行打磨，打磨件12应以3000opm～30000opm的来回振动速度对所述待打磨区域进行打磨，同样的可以根据胚体表面的摩擦系数以及压力提供机构30使打磨机构10对胚体表面所施加的压力来将打磨件12对胚体表面的打磨力控制在1N～100N，这样能够保证陶瓷胚体的胚体表面具有较好的打磨效果。

另外，所述的胚体表面打磨方法还包括步骤：获取所述胚体表面的待打磨区域的曲率值，当判断到所述待打磨区域的曲率值大于预设曲率值时，则通过振动型打磨头11对所述待打磨区域进行打磨处理；当判断到所述待打磨区域的曲率值小于预设曲率值时，则通过平面旋转型打磨头11对所述待打磨区域进行打磨处理。其中，预设曲率值可以根据振动型打磨头11的打磨面尺寸大小、平面旋转型打磨头11的打磨面尺寸大小、以及胚体表面待打磨区域尺寸大小的实际情况相应设置，这样能够保证对陶瓷胚体的胚体表面较好的打磨效果。例如，陶瓷坐便器40的内表面各个待打磨区域的曲率值较大，一般都会比预设曲率值大，如此可以通过振动型打磨头11对陶瓷坐便器40的内表面进行打磨处理(可参阅图2)；当然，若陶瓷坐便器40的内表面某些待打磨区域的曲率值较小，也可以采用平面旋转型打磨头11对陶瓷坐便器40的内表面进行打磨处理。另外，陶瓷坐便器40的外表面各个待打磨区域的曲率值较小，一般都会比预设曲率值小，如此往往通过平面旋转型打磨头11对陶瓷坐便器40的外表面进行打磨处理(可参阅图1)；当然，若陶瓷坐便器40的外表面某些待打磨区域的曲率值较大，也可以采用振动型打磨头11对陶瓷坐便器40的外表面进行打磨处理。

需要说明的是，当通过振动型打磨头11对所述待打磨区域进行打磨处理时，相邻所述刀位点之间的间隔为所述振动型打磨头11的工作宽度的30％～80％；可以理解的是，振动型打磨头11的工作宽度指的是振动型打磨头11的打磨面对胚体表面进行一次打磨所对应的打磨区域的横向宽度或纵向宽度。其中，振动型打磨头11的打磨面对胚体表面进行一次打磨所对应的打磨区域的中部的打磨效果相对于外围的打磨效果较好，由于相邻刀位点之间的间隔为振动型打磨头11的工作宽度的30％～80％，如此相邻刀位点对应两个打磨区域具有重叠区域，该重叠区域均为刀位点对应的打磨区域的外围部分，即对刀位点对应的打磨区域的外围部分进行重复打磨，使得能够保证胚体外表面的打磨效果。

另外，当通过平面旋转型打磨头11对所述待打磨区域进行打磨处理，相邻所述刀位点之间的间隔为所述平面旋转型打磨头11的工作宽度的50％～90％。可以理解的是，平面旋转型打磨头11的工作宽度指的是平面旋转型打磨头11的打磨面对胚体表面进行一次打磨所对应的打磨区域的圆周直径。其中，振动型打磨头11的打磨面对胚体表面进行一次打磨所对应的打磨区域的中部的打磨效果相对于外围的打磨效果较好，相邻刀位点之间的间隔为平面旋转型打磨头11的工作宽度的50％～90％。如此相邻刀位点对应两个打磨区域具有重叠区域，该重叠区域均为刀位点对应的打磨区域的外围部分，即对刀位点对应的打磨区域的外围部分进行重复打磨，使得能够保证胚体外表面的打磨效果。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (6)

1.一种胚体表面打磨装置，其特征在于，包括：

打磨机构，所述打磨机构用于对胚体表面进行打磨处理；

移动机构与压力提供机构，所述移动机构与所述压力提供机构传动相连，所述移动机构用于驱动所述压力提供机构按照预设打磨轨迹进行移动，所述压力提供机构与所述打磨机构传动连接，所述压力提供机构用于使得所述打磨机构对所述胚体表面产生预设压力。

2.根据权利要求1所述的胚体表面打磨装置，其特征在于，所述打磨机构包括打磨头与打磨件，所述打磨头装设在所述压力提供机构的驱动端，所述打磨头与所述打磨件传动连接。

3.根据权利要求2所述的胚体表面打磨装置，其特征在于，所述打磨头为用于驱动所述打磨件旋转的平面旋转型打磨头，或者为用于驱动所述打磨件来回摆动的振动型打磨头。

4.根据权利要求2所述的胚体表面打磨装置，其特征在于，所述打磨件的打磨面为平面，所述打磨件为柔性件或弹性件。

5.根据权利要求2所述的胚体表面打磨装置，其特征在于，所述打磨机构还包括柔性过渡垫，所述打磨头通过所述柔性过渡垫与所述打磨件连接。

6.根据权利要求1至5任一项所述的胚体表面打磨装置，其特征在于，所述压力提供机构为用于使所述打磨机构对所述胚体表面保持恒定压力的浮动恒力装置。