CN104749667A - 一种抗反射基板及其制备方法和应用 - Google Patents

Abstract

本发明所述的抗反射基板，包括透明基板本体以及均匀分散在透明基板本体中的透明粒子，透明粒子与基板本体之间存在曲面和/或平面界面，外界光线入射到所述抗反射基板时，在界面处折射率发生变化，形成漫反射，从而实现反射率的降低。本发明所述的抗反射基板的制备方法，结构简单、工艺成熟，适合大规模生产。本发明应用所述抗反射基板的所述平面显示装置，不需要在现有平面显示装置中增加元件或改变装置结构，即可实现降低反射率的目的，工艺简单、良品率高，可有效提高经济效率。

Description

一种抗反射基板及其制备方法和应用

技术领域

本发明涉及平板显示技术领域，具体涉及一种用于平板显示装置的抗反射基板及其制备方法和应用。

背景技术

在户外条件下，特别是强光条件下，诸如液晶显示装置（LCD）、等离子体显示面板（PDP）、有机电致发光显示器（OLED）等平板显示装置极易反射环境光，造成对比度不足，从而使得显示效果变差。

针对平板显示装置在强光下对比度不足的问题，现有技术中提出了多种方法。

一是在显示装置的显示表面设置偏光片，但该方法会大幅度降低显示器亮度，显示装置的透光率会被偏光片降低45%以上。在液晶显示装置等被动发光装置中必须增加背光源亮度，在有机电致发光显示装置等主动发光装置中必须增加操作电压以达到亮度要求，而这些增加亮度的方法均会影响显示装置的使用寿命。

二是在显示装置的显示表面设置光学反射层。例如，中国专利CN103197361A公开了一种透明无色度的抗反射涂层，所述抗反射层包括交替布置在衬底上的多个高反射层和多个低反射层，所述高反射层具有大于1.9的折射率，所述低反射层具有小于1.6的折射率；经测试，所述抗反射涂层具有透明无色度的特点，可以使得应用其的显示装置不因任意颜色或反射而失真，并且可以改善显示装置在户内或户外的可读性。但是所述抗反射涂层需要通过选择性利用晶体厚度控制方法（QCM）和光学厚度控制方法（OPM）来控制所述高反射层和所述低反射层的厚度，精确度要求高、工艺难度大，不适合实施大规模工业化生产。

发明内容

为此，本发明所要解决的是现有解决平板显示装置表面反射光的技术或者影响装置寿命，或者结构复杂、工艺难度大的问题，提供一种结构简单、工艺成本低的抗反射基板及其制备方法和应用。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案如下：

本发明所述的一种抗反射基板，包括透明的基板本体，所述基板本体中均匀分散有透明粒子，所述基板本体的折射率为1.3～1.9，所述透明粒子的折射率为1.3～1.9，所述透明粒子的粒径为0.1～150μm；所述基板本体的厚度为0.2～1.1mm。

所述基板本体为玻璃基板本体，所述透明粒子为玻璃粒子，所述玻璃粒子的熔融温度比所述玻璃基板本体的熔融温度高50～200℃。

所述基板本体为聚合物基板本体，所述透明粒子为玻璃粒子或二氧化硅粒子或聚合物粒子。

所述聚合物粒子的熔融温度比所述聚合物基板本体的熔融温度高50～200℃。

本发明所述的抗反射基板的制备方法，包括如下步骤：

S1、加热基板本体材料，使之处于熔融状态，并稳定温度；

S2、将透明粒子加入到熔融状态的所述基板本体材料中，混合均匀；

S3、将步骤S2中制得的混合物形成板材，并冷却形成所述抗反射基板。

步骤S1中所述温度小于步骤S2中所述透明粒子的熔融温度。

本发明所述的一种平面显示装置，所述平面显示装置的透光面设置有所述的抗反射基板。

所述平面显示装置为有机电致发光显示装置。

所述有机电致发光显示装置包括若干并置的有机发光二极管，所述有机发光二极管包括依次堆叠设置的第一电极层、有机层和第二电极层，所述第二电极层为出光电极，所述抗反射基板设置在所述第二电极上。

所述平面显示装置为液晶显示装置。

步骤S3中所述板材的成型工艺包括注射成型、挤压成型、压制成型、浇注成型、溢流成型或浮法成型中的一种。

本发明的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：

1、本发明所述的抗反射基板，包括透明基板本体以及均匀分散在透明基板本体中的透明粒子，透明粒子与基板本体之间存在曲面和/或平面界面，外界光线入射到所述抗反射基板时，在界面处折射率发生变化，形成漫反射，从而实现反射率的降低。

2、本发明所述的抗反射基板的制备方法，结构简单、工艺成熟，适合大规模生产。

3、本发明应用所述抗反射基板的所述平面显示装置，不需要在现有平面显示装置中增加元件或改变装置结构，即可实现降低反射率的目的，工艺简单、良品率高，可有效提高经济效率。

附图说明

为了使本发明的内容更容易被清楚的理解，下面根据本发明的具体实施例并结合附图，对本发明作进一步详细的说明，其中

图1是本发明所述的一种抗反射面板的剖视图。

附图标记：1-基板本体、2-透明粒子。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的实施方式作进一步地详细描述。

本发明可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本发明的构思充分传达给本领域技术人员，本发明将仅由权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和粒子的尺寸和相对尺寸。

下述实施例和对比例中所述的无碱硅酸盐玻璃(Alumino Silicate Glass)与无碱硅酸盐玻璃粒子购自康宁（corning）公司，聚氨酯购自美国杜邦公司（DuPont），聚氯乙烯粒子购自日本三井化学。

实施例1

本实施例提供一种抗反射基板，如图1所示，包括透明的基板本体1，所述基板本体1中均匀分散有透明粒子2。

所述基板本体1为玻璃基板本体，本实施例优选为融化温度为1000℃的无碱硅酸盐玻璃；所述透明粒子2为玻璃粒子，本实施例优选熔融温度为1200℃的无碱硅酸盐玻璃粒子。

作为本发明的其他实施例，所述玻璃粒子的熔融温度比所述玻璃基板本体的熔融温度高50～200℃即可现实本发明的目的，属于本发明的保护范围。

所述基板本体1的折射率为1.3，所述透明粒子2的折射率为1.9，所述透明粒子2的粒径为1μm。

所述基板本体1的厚度为0.4mm。

作为本发明的其他实施例，所述透明粒子2的粒径还可以为0.1～150μm。所述基板本体1的厚度还可以为0.2～1.1mm，均可以现实本发明的目的，属于本发明的保护范围。

所述的抗反射基板的制备方法，包括如下步骤：

S1、将基板本体材料（融化温度为1000℃的无碱硅酸盐玻璃）加入浮法式熔解池中被加热至熔融状态，并稳定温度在1000℃；

S2、将熔融温度为1200℃的无碱硅酸盐玻璃粒子按透明粒子2和基板本体1以1:30的体积比加入到熔融状态的所述基板本体材料中，混合均匀；

S3、通过均匀移动的移动腔体将步骤S2中制得的混合物形成板材，并通过冷却隧道将所述板材冷却形成所述抗反射基板。

作为本发明的其他实施例，步骤S3中所述板材的成型工艺还可以根据基板本体材料的性质进行选择，选自但不限于注射成型、挤压成型、压制成型、浇注成型、溢流成型或浮法成型中的一种。

实施例2

本实施例提供一种抗反射基板，如图1所示，包括透明的基板本体1，所述基板本体1中均匀分散有透明粒子2。

所述基板本体1为聚合物基板本体，本实施例优选为熔融温度为200℃的聚氨酯，所述透明粒子为玻璃粒子，本实施例优选熔融温度为1200℃的无碱硅酸盐玻璃粒子。

作为本发明的其他实施例，所述玻璃粒子的熔融温度比所述聚合物基板本体的熔融温度高50～200℃即可现实本发明的目的，属于本发明的保护范围。

所述基板本体1的折射率为1.7，所述透明粒子2的折射率为1.3，所述透明粒子2的粒径为10μm。所述基板本体1的厚度为0.7mm。

所述的抗反射基板的制备方法，包括如下步骤：

S1、通过加热板加热基板本体材料，使之处于熔融状态，并稳定温度在200℃；

S2、将透明粒子2加入到熔融状态的所述基板本体材料中，透明粒子2与所述基本本体1的体积比为1:50，混合均匀；

S3、通过挤压成型工艺将步骤S12中制得的混合物形成板材，并通过冷板工艺将所述板材冷却形成所述抗反射基板。

实施例3

本实施例提供一种抗反射基板，如图1所示，包括透明的基板本体1，所述基板本体1中均匀分散有透明粒子2。

所述基板本体1为聚合物基板本体，本实施例优选为熔融温度为200℃的聚氨酯，所述透明粒子2为聚合物粒子，本实施例优选熔融温度为180℃的聚氯乙烯粒子。

作为本发明的其他实施例，所述聚合物粒子的熔融温度比所述聚合物基板本体的熔融温度高50～200℃即可现实本发明的目的，属于本发明的保护范围。

所述基板本体1的折射率为1.4，所述透明粒子2的折射率为1.6，所述透明粒子2的粒径为7μm。所述基板本体1的厚度为0.4mm。

所述的抗反射基板的制备方法，包括如下步骤：

S1、通过加热板将基板本体材料，使之处于熔融状态，并稳定温度在120℃；

S2、将透明粒子2加入到熔融状态的所述基板本体材料中，透明粒子2与基本本体1的体积比1:25，混合均匀；

S3、通过压制成型工艺将步骤S12中制得的混合物形成板材，并通过冷板工艺将所述板材冷却形成所述抗反射基板。

对比例1

本对比例提供一种基板，所述基板的材料和制备方法同实施例1，唯一不同的是，基板本体1中不含透明粒子2，制备方法中不含步骤S2。

对比例2

本对比例提供一种基板，所述基板的材料和制备方法同实施例2，唯一不同的是，基板本体1中不含透明粒子2，制备方法中不含步骤S2。

实施例4

本实施例提供一种平面显示装置，所述平面显示装置为有机电致发光显示装置，包括多个并置的有机发光二极管以及设置在所述有机发光二极管出光面上的所述的抗反射基板。所述有机发光二极管包括依次堆叠设置的第一电极、有机层和第二电极，所述第二电极为出光电极，所述抗反射基板为实施例1中所述的抗反射基板。

实施例5

本实施例提供一种平面显示装置，具体结构同实施例4，唯一不同的是所述抗反射基板为实施例2中所述的抗反射基板。

实施例6

本实施例提供一种平面显示装置，具体结构同实施例4，唯一不同的是所述抗反射基板为实施例3中所述的抗反射基板。

对比例3

本实施例提供一种平面显示装置，具体结构同实施例4，唯一不同的是设置在所述第二电极上的基板为对比例1中所述的基板。

对比例4

本实施例提供一种平面显示装置，具体结构同实施例4，唯一不同的是设置在所述第二电极上的基板为对比例2中所述的基板。

通过购自德国Autronic-Melchers的DMS系列光电测试仪对上述实施例1-3所述的抗反射基板以及对比例1和2中所述的基板进行测试，具体测试数据如下表所示。

	透光率	反射率
			实施例1	85%	40%
实施例2	80%	45%
			实施例3	90%	50%
对比例1	98%	75%
			对比例2	95%	68%

上述实施例中所述的抗反射基板，包括透明基板本体1以及均匀分散在透明基板本体1中的透明粒子2，透明粒子2与基板本体1之间存在曲面和/或平面界面，外界光线入射到所述抗反射基板时，在界面处折射率发生变化，形成漫反射，从而实现反射率的降低。由上述数据可以看出，实施例1-3所述制备的抗反射基板相对于对比1和对比例2中所述的基板有效实现对反射率的降低，能够满足平板显示装置的使用需求。更重要的是，上述实施例中所述的抗反射基板的制备方法简单、工艺成熟，适合大规模生产；而且，应用到平面显示装置中时，不需要在现有平面显示装置中增加元件或改变装置结构，即可实现降低反射率的目的，工艺简单、良品率高，可有效提高经济效率。

通过德国Autronic-Melchers的DMS系列光电测试仪对实施例4-6以及对比例3、4中所述的平板显示装置进行测试，测试结果如下表所示：

	实施例4	实施例5	实施例6	对比例3	对比例4
						对比度	1200:1	800:1	1100:1	500:1	400:1

从上述数据可以看出，实施例4-5中所述平面显示装置的对比度相对于对比例3和4中所述平面显示装置的对比度有大幅提高，有效改善了所述平面显示装置的显示效果；而且仅采用本发明所述的抗反射基板，而不需增加其他光学元件或进行所述平面显示装置结构的变化，即可实现降低反射率的目的，工艺简单、良品率高，可有效提高经济效益。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种抗反射基板，包括透明的基板本体，其特征在于，所述基板本体中均匀分散有透明粒子，所述基板本体的折射率为1.3～1.9，所述透明粒子的折射率为1.3～1.9，所述透明粒子的粒径为0.1～150μm；所述基板本体的厚度为0.2～1.1mm。

2.根据权利要求1所述的抗反射基板，其特征在于，所述基板本体为玻璃基板本体，所述透明粒子为玻璃粒子，所述玻璃粒子的熔融温度比所述玻璃基板本体的熔融温度高50～200℃。

3.根据权利要求1所述的抗反射基板，其特征在于，所述基板本体为聚合物基板本体，所述透明粒子为玻璃粒子或二氧化硅粒子或聚合物粒子。

4.根据权利要求3所述的抗反射基板，其特征在于，所述聚合物粒子的熔融温度比所述聚合物基板本体的熔融温度高50～200℃。

5.一种权利要求1-4任一所述的抗反射基板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、加热基板本体材料，使之处于熔融状态，并稳定温度；

S2、将透明粒子加入到熔融状态的所述基板本体材料中，混合均匀；

S3、将步骤S2中制得的混合物形成板材，并冷却形成所述抗反射基板。

6.根据权利要求5所述的抗反射基板的制备方法，其特征在于，步骤S1中所述温度小于步骤S2中所述透明粒子的熔融温度。

7.一种平面显示装置，其特征在于，所述平面显示装置的透光面设置有权利要求1～4任一所述的抗反射基板。

8.根据权利要求7所述的平面显示装置，其特征在于，所述平面显示装置为有机电致发光显示装置。

9.根据权利要求8所述的平面显示装置，其特征在于，所述有机电致发光显示装置包括若干并置的有机发光二极管，所述有机发光二极管包括依次堆叠设置的第一电极层、有机层和第二电极层，所述第二电极层为出光电极，所述抗反射基板设置在所述第二电极上。

10.根据权利要求7所述的平面显示装置，其特征在于，所述平面显示装置为液晶显示装置。