CN104746032A - 成膜装置、载体和制造成膜基板的方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及成膜装置、载体和制造成膜基板的方法。在抑制在输送载体过程中产生的载体振动的同时稳定地输送载体。由于第一杆状构件（310）的从下方支撑载体（25）的第一支撑面（7X）相对于水平方向倾斜45°，因此，作用于水平方向上的第一水平方向负载（7B）施加于载体（25）。此外，由于第二杆状构件（320）的从下方支撑载体（25）的第二支撑面（7Y）相对于水平方向倾斜45°，因此，作用于水平方向上的第二水平方向负载（7C）施加于载体（25）。在这种情况下，载体（25）通过第一水平方向负载（7B）压抵第二杆状构件（320），且通过第二水平方向负载（7C）压抵第一杆状构件（310）。因此，抑制了载体（25）在其厚度方向上的振动。

Description

成膜装置、载体和制造成膜基板的方法

技术领域

本发明涉及成膜装置、载体和制造成膜基板的方法。

背景技术

硬盘装置等中使用的磁性记录介质例如具有晶种膜、基膜、磁性记录膜、保护膜和润滑剂膜依次形成于非磁性基板的一个或两个表面的结构，且通常，这种磁性记录介质通过在输送保持基板的载体的同时执行成膜工序的连续式成膜装置制造（例如，专利文献1和专利文献2）。

专利文献1披露的连续式成膜装置具有执行成膜工序的多个室通过闸阀连接的结构。在每个室中，围绕水平轴线转动的多个转动体被成排地设置于载体的输送方向上，且载体由多个转动体引导。此外，在每个室中，围绕铅直轴转动的多个转动体被成排地设置于载体的输送方向上，且载体也由多个转动体引导。

另一方面，载体包括多个保持件，每个保持件设置有用于将基板配置于其内部的孔部以及可弹性变形且围绕孔部安装的多个夹子。保持件可拆装地保持安装于夹子内部的基板。

同样，在专利文献2披露的连续式的成膜装置中，提供了进行成膜工序的多个室通过门连接的结构。同样在该成膜装置中，在输送保持基板的载体的同时进行成膜工序。在成膜装置中，在通过利用磁力等将载体的侧表面压抵轨道的侧表面的同时输送载体。因此，在抑制载体的振动的同时输送载体。

引用列表

专利文献

专利文献1：日本特开平8-274142号公报

专利文献2：美国专利No.8382965

发明内容

发明要解决的问题

附带地，如上述描述，在利用转动体引导载体的情况下，容易导致载体的振动。在设置有转动体的构造中，每次载体到达转动体时，转动体和载体彼此碰撞，由此载体振动。如果载体以这种方式振动，则由载体保持的基板容易掉落。此外，载体的振动引起载体和周边组件之间的磨擦，且由于磨擦产生磨擦颗粒。此时，磨擦颗粒导致产品质量的下降。

另一方面，如上述描述，在利用磁力等使载体的侧表面压抵轨道的侧表面的同时输送载体的构造中，相比于上述利用转动体的构造抑制了载体的振动。然而，在利用磁力等使载体压抵轨道的情况下，结构变得复杂。此外，在这种情况下，存在载体的输送变得不稳定的可能性，从而使得载体难以在磁场强度大的位置被输送，而在磁场强度小的位置容易移动。

考虑到传统情况而提出本发明的目的，且本发明的目的在于抑制输送载体时产生的载体振动，由此稳定地输送载体。

用于解决问题的方案

本发明所应用到的成膜装置包括：引导机构，所述引导机构在载体保持基板的情况下引导被沿着输送路径输送的所述载体，在所述基板上进行成膜处理，其中，所述引导机构包括：第一支撑面，所述第一支撑面被配置于所述输送路径的一侧方，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分；以及第二支撑面，所述第二支撑面被配置于隔着所述输送路径与所述第一支撑面相对的对向侧，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分，其中，所述第一支撑面朝向所述第二支撑面所在侧下降地倾斜设置，并且所述第二支撑面朝向所述第一支撑面所在侧下降地倾斜设置。

这里，所述第一支撑面被配置于所述输送路径的所述一侧方，且沿着所述输送路径配置以从下方支撑并引导在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分，且所述第二支撑面被配置于所述输送路径的另一侧方，且沿着所述输送路径配置以从下方支撑并引导在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分。

此外，所述载体的待由所述第一支撑面支撑的一部分以及所述载体的待由所述第二支撑面支撑的一部分均设置有转动构件。在这种情况下，能够平稳地输送载体。

此外，待由所述第一支撑面支撑的部分设置有第一转动构件，且待由所述第二支撑面支撑的部分设置有第二转动构件，所述第一转动构件围绕具有一端和另一端的转动轴转动，且所述第二转动构件围绕具有一端和另一端的转动轴转动，所述第一转动构件被配置成使得，其转动轴的所述一端被定位于所述输送路径所在侧且其转动轴的所述另一端被定位于所述一侧方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述转动轴相对于水平方向倾斜，且所述第二转动构件被配置成使得，其转动轴的所述一端被定位于所述输送路径所在侧且其转动轴的所述另一端被定位于所述另一侧方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述转动轴相对于水平方向倾斜。在这种情况下，易于沿着所述第一支撑面配置所述第一转动构件的外周面，且易于沿着所述第二支撑面配置所述第二转动构件的外周面，因此，能够更稳定地通过所述第一支撑面支撑所述第一转动构件且通过所述第二支撑面支撑所述第二转动构件。

此外，所述第一转动构件和所述第二转动构件均包括圆筒状的转动体，所述第一支撑面从下方与所述第一转动构件的所述转动体的外周面接触，以支撑所述第一转动构件，并且所述第二支撑面从下方与所述第二转动构件的所述转动体的外周面接触，以支撑所述第二转动构件。在这种情况下，能够减少由于所述第一支撑面和所述第一转动构件之间的磨擦产生的磨擦颗粒以及由于所述第二支撑面和所述第二转动构件之间的磨擦产生的磨擦颗粒。

此外，所述载体的待由所述第一支撑面支撑的部分以及所述载体的待由所述第二支撑面支撑的部分都位于所述载体的重心的上方。在这种情况下，能够减小所述载体的上部的振动。

在本发明为载体的情况下，应用本发明的载体是如下载体，待进行成膜处理的基板安装于该载体，该载体在由设置于输送路径的一侧方的引导部以及设置于所述输送路径的另一侧方的引导部引导的同时被沿着所述输送路径输送，其中，所述输送路径设置于成膜装置中，所述载体包括：载体主体，所述基板安装于所述载体主体，该载体主体在所述成膜装置中的所述输送路径上被输送；第一转动构件，所述第一转动构件被设置成能够围绕具有一端和另一端的转动轴转动，当所述载体主体在所述输送路径上被输送时，设置于所述一侧方的引导部在从下方支撑所述第一转动构件的同时引导所述第一转动构件；和第二转动构件，所述第二转动构件被设置成能够围绕具有一端和另一端的转动轴转动，当所述载体主体在所述输送路径上被输送时，设置于所述另一侧方的引导部在从下方支撑所述第二转动构件的同时引导所述第二转动构件；其中，所述第一转动构件被配置成使得，当所述载体主体在所述输送路径上被输送时，所述第一转动构件的转动轴的所述一端被定位于所述输送路径所在侧且所述另一端被定位于所述一侧方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述转动轴相对于水平方向倾斜，且所述第二转动构件被配置成使得，当所述载体主体在所述输送路径上被输送时，所述第二转动构件的转动轴的所述一端被定位于所述输送路径所在侧且所述另一端被定位于所述另一侧方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述转动轴相对于水平方向倾斜。

这里，所述第一转动构件和所述第二转动构件被设置成使得，当所述载体主体在所述输送路径上被输送时，所述第一转动构件和所述第二转动构件的设定位置在输送方向上彼此不同。这种情况下，与当所述载体主体在所述输送路径上被输送时，所述第一转动构件和所述第二转动构件的设定位置在输送方向上相同的情况相比，能够减小所述载体在垂直于所述输送方向的方向上的厚度。

在本发明为制造成膜基板的方法的情况下，应用本发明的制造成膜基板的方法是如下的方法：输送保持基板的载体且在所述基板上进行成膜处理以制造成膜基板，所述基板是待进行所述成膜处理的基板，所述方法包括：当输送所述载体时，通过引导机构引导所述载体，所述引导机构引导所述载体以沿着预定的输送路径输送所述载体，其中，所述引导机构包括：第一支撑面，所述第一支撑面被配置于所述输送路径的一侧方，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分；以及第二支撑面，所述第二支撑面被配置于隔着所述输送路径与所述第一支撑面相对的对向侧，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分，其中，所述第一支撑面朝向所述第二支撑面所在侧下降地倾斜设置，并且所述第二支撑面朝向所述第一支撑面所在侧下降地倾斜设置。

发明的效果

根据本发明，能够在稳定地输送载体的同时，抑制输送载体时产生的载体振动。

附图说明

图1是通过磁性记录介质制造装置制造的磁性记录介质的截面图；

图2是用于图示制造装置的图；

图3是载体的立体图；

图4是示出从图3的箭头IV的方向观察时位于图3的最右侧的位置的上辊对的图；

图5是用于图示图2中所示的载体引导件的图；

图6是示出从侧方观察的载体输送辊的图；

图7是示出从载体的输送方向上的上游侧观察的由上侧载体引导件和下侧载体引导件引导的载体的图；

图8是示出载体和载体引导件的比较例的图；

图9是示出载体和载体引导件的比较例的图；

图10是示出示例性实施方式中的载体的振动和比较例中的载体的振动的图。

具体实施方式

以下，将参照附图描述根据本发明的示例性实施方式。

图1是磁性记录介质的截面图，通过根据本发明的磁性记录介质制造装置（以下，称为“制造装置”）制造该磁性记录介质。

图1示出的磁性记录介质100（以下，称为“记录介质100”）是硬盘装置等中使用的圆盘状记录介质100。记录介质100设置有基板（非磁性基板）80。

此外，在基板80的一个或两个表面上，晶种层81、基膜82、磁性记录膜83、保护膜84和润滑剂层85朝向记录介质100的表面依次形成。通过图2（用于图示制造装置的图）中示出的连续式（in line）制造装置（成膜装置）200制造记录介质100。

图2示出的制造装置200设置有多个载体25，该多个载体25在保持基板80的同时在图中的顺时针方向上被循环输送。制造装置200还设置有：机器人平台1；基板移动机器人3；基板供给机器人室2；基板供给机器人34；基板安装室52；用于转动载体25的拐角室4、7、14和17；通过溅射在基板80上形成膜的溅射成膜室5、6、8-13、15和16；形成保护膜的保护膜形成室18-20；基板卸载室54；基板卸载机器人室22；基板卸载机器人49；和用于载体25的灰化室（ashing chamber）3A。

未示出的真空泵连接于基板供给机器人室2，基板安装室52，拐角室4、7、14和17，溅射成膜室5、6、8-13、15和16，保护膜形成室18-20、基板卸载室54和灰化室3A中的每一个，且这些室中的每一个均通过真空泵进入减压状态。

此外，每个室均设置有引导被输送的载体25的载体引导件210。应当注意，在图2中，为了使得图更明显，仅在溅射成膜室8中示出了载体引导件210。在示例性实施方式中，保持基板80的载体25在由载体引导件210引导的同时在已进入减压状态的每个室中移动。此外，通过穿过每个室，参照图1描述的晶种层81、基膜82、磁性记录膜83、保护膜84等形成于基板80的表面。

图3是载体25的立体图。

应当注意，在本说明书中，在某些情况下，图3中的箭头3A表示的方向被称为载体25的宽度方向，图3中的箭头3B表示的方向被称为载体25的高度方向，且图3中的箭头3C表示的方向被称为载体25的厚度方向。

如图3所示，载体25设置有板状载体主体250。在载体主体250的下部，设置支撑板26。此外，在载体主体250的上部，设置有基板安装部27，基板80安装于该基板安装部27。应当注意，在示例性实施方式中，设置两个基板安装部27，因此，载体25被构造成能够安装两个基板80（图3中未示出）。

支撑板26设置有将通过设置于每个室中的载体引导件210（参见图2）引导的下侧被引导部28。此外，在下侧被引导部28的上方，设置将通过设置于每个室中的载体引导件210同样地引导的上侧被引导部29。

这里，上侧被引导部29总共设置有五对辊91（以下，称为“上辊对91”），每对辊91均通过两个辊状构件构成。这里，沿着载体25的宽度方向排成一排地配置上辊对91。进一步描述，在示例性实施方式中，载体25在由图中的箭头3X表示的方向上被输送，且每个上辊对91均沿着载体25的输送方向配置。

下侧被引导部28也设置有辊对92（以下，称为“下辊对92”），每对辊92均通过两个辊状构件构成。这里，下侧被引导部28总共设置有四个下辊对92。与上辊对91类似，该四个下辊对92沿着载体25的宽度方向排成一排地配置。进一步描述，下辊对92沿着载体25的输送方向配置。

图4是示出上辊对91的图，从图3中的箭头IV的方向观察，该上辊对91位于图3的最右侧的位置。

如图所示，上辊对91设置有作为第一转动构件的示例的第一辊状构件911以及作为第二转动构件的示例的第二辊状构件912。这里，第一辊状构件911和第二辊状构件912被配置于载体25的宽度方向上的彼此不同的位置。

进一步描述，第一辊状构件911和第二辊状构件912配置于载体25的输送方向上的彼此不同的位置，即，第一辊状构件911定位于载体25的输送方向上的上游侧，而第二辊状构件912定位于载体25的输送方向上的下游侧。

第一辊状构件911设置有圆盘状（圆筒状）的转动体911A。转动轴911B穿过转动体911A，且转动体911A围绕转动轴911B转动。这里，在示例性实施方式中，转动轴911B被配置成处于相对于铅垂方向（图中的上下方向）倾斜45°的状态。进一步描述，转动轴911B具有一端911D和另一端911E，且转动轴911B被配置成倾斜状态，使得另一端911E定位于一端911D的上方。

进一步描述，在示例性实施方式中，载体25沿着包括由图4中的链状双点虚线表示的直线SL的平面被输送，该平面也是与图4的纸面垂直的平面（该垂直平面通过的部分成为载体25的输送路径，且载体25在输送路径上被输送）；然而，在示例性实施方式中，一端911D被定位于直线SL侧，且另一端911E被定位在设置了直线SL的一侧的相反侧。进一步描述，另一端911E定位于载体25的输送路径的一侧方侧。此外，在示例性实施方式中，另一端911E定位于一端911D的上方。

此外，第二辊状构件912侧也是如此，第二辊状构件912设置有圆盘状（圆筒状）的转动体912A以及穿过转动体912A的转动轴912B。然后，类似于第一辊状构件911侧，转动轴912B被配置成处于相对于铅垂方向（图中的上下方向）倾斜45°的状态。

进一步描述，第二辊状构件912也处于转动轴912B倾斜从而使另一端912G定位于一端912F的上方的状态。进一步描述，类似于第一辊状构件911侧，转动轴912B的一端912F定位于直线SL侧，而另一端912G定位于直线SL所在侧的相反侧。进一步描述，另一端912G定位于载体25的输送路径的另一侧方侧。此外，另一端912G定位于一端912F的上方。

应当注意，在示例性实施方式中，在第一辊状构件911的转动轴911B的倾斜方向与第二辊状构件912的转动轴912B的倾斜方向之间具有差异；第一辊状构件911的转动轴911B朝向载体25的一个表面侧（载体25的输送路径的一侧方侧）倾斜，而第二辊状构件912的转动轴912B朝向载体25的另一表面侧（载体25的输送路径的另一侧方侧）倾斜。

图5是用于图示图2中所示的载体引导件210的图。应当注意，图5示出了处于从图2的箭头V的方向观察的状态的载体引导件210。进一步描述，图5示出了处于从载体25的输送方向的上游侧观察的状态的载体引导件210。

如图5所示，载体引导件210构造有引导图3中所示的上侧被引导部29的上侧载体引导件210U以及引导图3中所示的下侧被引导部28的下侧载体引导件210L。

这里，上侧载体引导件210U和下侧载体引导件210L沿着载体25的输送方向配置。此外，上侧载体引导件210U和下侧载体引导件210L被设置于设置在制造装置200中的上述每个室中，且在每个室中，被设置成桥接室的入口和出口。

作为引导机械的示例的上侧载体引导件210U构造有具有矩形截面形状的第一杆状构件310以及第二杆状构件320。这里，在示例性实施方式中，第一杆状构件310和第二杆状构件320被配置成在两者之间形成间隙K1的状态。在示例性实施方式中，载体25穿过间隙K1。进一步描述，示例性实施方式具有如下构造：载体25的输送路径设置在作为引导部的第一杆状构件310和第二杆状构件320之间。

进一步描述，第一杆状构件310配置于输送路径的一侧方且沿着输送路径配置，由此支撑载体25的在输送路径上被输送的一部分并且引导该部分。此外，第二杆状构件320配置于输送路径的另一侧方且沿着输送路径配置，由此支撑载体25的在输送路径上被输送的另一部分且引导该另一部分。

此外，第一杆状构件310和第二杆状构件320中的每一个均被配置成定位于间隙K1侧的一侧位于定位于间隙K1侧的一侧的相反侧的另一侧的上方的倾斜状态。应当注意，在示例性实施方式中，相对于水平方向的倾斜角度是45°。

应当注意，在示例性实施方式中，设置形成具有槽的V形的第一块体BK1和第二块体BK2，该槽具有90°的开口角。之后，在示例性实施方式中，第一杆状构件310载置于形成于第一块体BK1的槽中，而第二杆状构件320载置于形成于第二块体BK2的槽中。此外，第一杆状构件310通过螺栓BL紧固于第一块体BK1，且第二杆状构件320也通过螺栓BL紧固于第二块体BK2。

接着，将描述下侧载体引导件210L。

下侧载体引导件210L也设置有具有矩形截面形状的第一杆状构件410和第二杆状构件420。这里，在下侧载体引导件210L中，在第一杆状构件410与第二杆状构件420之间也形成有间隙K2。应当注意，第一杆状构件410和第二杆状构件420中的每一个均不像第一杆状构件310和第二杆状构件320那样倾斜，而是被配置成沿水平方向布置的状态。

将参照图5进一步描述制造装置200的结构。

在示例性实施方式中，在下侧载体引导件210L的下方（在形成于第一杆状构件410和第二杆状构件420之间的间隙K2的下方），设置利用磁性输送载体25的载体输送辊500。

图6是示出从侧方观察的载体输送辊500的图。应当注意，图5还示出了载体25。

载体输送辊500是圆柱状或者圆筒状构件，且如图所示，以螺旋形式配置的磁极51和52形成于载体输送辊500的周面上。

通过将形成于载体输送辊500的周面上的螺旋部分割成较小的部分且磁化每个部分来构成磁极51和52。此外，在示例性实施方式中，如图6所示，以前-后错位的方式配置两个螺旋磁极51和52。在两个磁极51和52中，磁极51形成S极，且磁极52形成N极。

另一方面，尽管以上省略了图示和描述，但是磁体35也被设置于载体25侧（以下，称为“载体侧磁体35”）。这里，载体侧磁体35被设置于载体25的下缘部。此外，载体侧磁体35是具有长方体形状的小磁体，且多个载体侧磁体35以预定的间隔沿着载体25的下缘配置。

此外，载体侧磁体35以磁极出现在其顶面和底面的方式配置。此外，载体侧磁体35以在定位载体输送辊500的一侧的磁极在载体输送辊500的轴向上交替出现的方式配置。此外，载体侧磁体35的配置间隔对应于设置于下方的载体输送辊500上的两个磁极51和52的配置间隔。

在示例性实施方式中，载体侧磁体35磁性耦合于下方的载体输送辊500上的磁极51和52。具体地，N极的载体侧磁体35耦合于载体输送辊500上的S极的磁极51，且S极的载体侧磁体35耦合于N极的磁极52。这种条件下，当载体输送辊500转动时，载体25沿着载体输送辊500的轴向被输送。

图7是示出从载体25的输送方向上的上游侧观察的通过上侧载体引导件210U和下侧载体引导件210L引导的载体25的图。

应当注意，在图7中，示出了设置的五个上辊对91中的一个上辊对91；然而，其余的四个上辊对91也处于图7示出的相同的状态。此外，关于下辊对92，示出了设置的四个下辊对92中的一个下辊对92；然而，其余的三个下辊对92也处于图7示出的相同的状态。

如图7所示，在示例性实施方式中，上辊对91载置于上侧载体引导件210U，且载体25由上侧载体引导件210U从下方支撑。在这种条件下，载体25被朝向下游侧输送；然而，此时，设置上辊对91的部分由上侧载体引导件210U引导。这里，此时，设置于上辊对91的两个转动体911A和912A转动，因此，载体25被朝向下游侧平滑地输送。

此外，示例性实施方式具有载体25压抵上侧载体引导件210U的构造，因此，在示例性实施方式中载体25难以在高度方向上产生移位。为了具体描述，在示例性实施方式中，重力作用于载体25。此外，通过在载体输送辊500（参见图6）与载体25之间互相作用的磁力，载体25被向下拉。结果，载体25压抵上侧载体引导件210U，由此使得载体25将难以在高度方向上移位。

此外，在示例性实施方式中，由于使得载体25压抵上侧载体引导件210U，如图中的箭头7A所示，从下方对载体25施加负载。

此外，在示例性实施方式中，由于设置于上侧载体引导件210U的第一杆状构件310和第二杆状构件320如上述那样相对于水平方向倾斜45°，因此，如图7所示，作用于水平方向上的第一水平方向负载7B和第二水平方向负载7C施加于载体25。

进一步描述，在示例性实施方式中，第一杆状构件310的从下方支撑载体25的支撑面（由图中的附图标记7X表示的表面，以下称为“第一支撑面7X”）相对于水平方向倾斜45°；因此，作用于水平方向上的第一水平方向负载7B已被施加于载体25。

此外，第二杆状构件320的从下方支撑载体25的支撑面（由图中的附图标记7Y表示的表面，以下称为“第二支撑面7Y”）相对于水平方向倾斜45°；因此，作用于水平方向上的第二水平方向负载7C已被施加于载体25。

进一步描述，在示例性实施方式中，由于第一支撑面7X朝向设置第二支撑面7Y的一侧下降地倾斜设置，且第二支撑面7Y朝向设置第一支撑面7X的一侧下降地倾斜设置，因此，施加第一水平方向负载7B和第二水平方向负载7C。

接着，在这种情况下，载体25通过第一水平方向负载7B压抵第二杆状构件320，且载体25通过第二水平方向负载7C压抵第一杆状构件310。因此，也抑制了载体25在厚度方向上的移位。进一步描述，抑制了载体25在垂直于载体25的输送方向的方向上的输送。

此外，如图7所示，示例性实施方式具有如下构造：其中，载体25的重心G定位于上辊对91的下方，且载体25的重心G定位于载体25被上侧载体引导件210U支撑的位置的下方。

在这种情况下，与载体25的重心G定位于载体25被上侧载体引导件210U支撑的位置的上方的构造的情况相比，能够抑制载体25的上部侧中的振动。因而，在这种情况下，也能够抑制基板安装部27（参见图3）中的振动。

接着，将参照图7描述下辊对92和下侧载体引导件210L。

这里，尽管以上省略了描述，但是如图7所示，下辊对92也设置有第一辊状构件921和第二辊状构件922。这里，第一辊状构件921和第二辊状构件922配置于载体25的宽度方向上的彼此不同的位置。进一步描述，第一辊状构件921和第二辊状构件922配置于载体25的输送方向上的彼此不同的位置。进一步描述，第一辊状构件921定位于载体25的输送方向上的上游侧，而第二辊状构件922定位于载体25的输送方向上的下游侧。

此外，第一辊状构件921由圆盘状（圆筒状）的转动体921A和穿过转动体921A的转动轴921B构成。第二辊状构件922也由圆盘状（圆筒状）的转动体922A和穿过转动体922A的转动轴922B构成。

这里，在下辊对92中，不同于上辊对91，转动轴921B和转动轴922B沿着铅垂方向（图中的上下方向）配置。此外，在下辊对92中，第一辊状构件921移向载体25的一侧表面侧（图中的右侧表面侧），而第二辊状构件922移向载体25的另一侧表面侧（图中的左侧表面侧）。

在示例性实施方式中，载体25不仅在设置上辊对91的部分处被引导，还在下辊对92所在的部分处被引导。这里，下辊对92中的引导通过与第一杆状构件410接触的第一辊状构件921的转动体921A和与第二杆状构件420接触的第二辊状构件922的转动体922A进行。因此，在示例性实施方式中，在设置上辊对91的位置的下方，载体25在厚度方向上的移位也被抑制。

图8和9是示出了载体25和载体引导件210的比较例的图。应当注意，图8示出了从载体25的输送方向上的上游侧观察状态下的载体25和载体引导件210，图9示出了从上方观察状态下的载体25和载体引导件210。

如图8所示，在比较例中，凹部25A形成于载体25的一个侧表面侧。此外，在凹部25A中，设置从下方支撑载体25的第一转动体216。这里，载体25的V形槽25C形成于被第一转动体216支撑的部分（由附图标记25B表示的部分，以下称为“被支撑部25B”），且在比较例中，第一转动体216的外周缘进入槽25C。

此外，在该比较例中，第二转动体217位于载体25的一个侧表面侧，且第三转动体218位于载体25的另一个侧表面侧，因此，载体25在载体25的厚度方向上的输送由第二转动体217和第三转动体218限制。应当注意，在比较例中，如图9所示，多个第一转动体216、多个第二转动体217和多个第三转动体218被设置成沿着载体25的输送方向配置。

在比较例的构造的情况下，产生载体25的端部与第一转动体216、第二转动体217或第三转动体218的碰撞，因此，相对于示例性实施方式的构造，载体25的振动变大。这里，如果载体25的振动大，则产生基板80掉落的可能。此外，在载体25与第一转动体216、第二转动体217或第三转动体218碰撞的情况下，载体25与第一转动体216、第二转动体217或第三转动体218磨擦，因此产生很多磨擦颗粒。如果以这种方式产生大量的磨擦颗粒，则磨擦颗粒易于混入待制造的记录介质100中，由此导致产品质量的下降。

另一方面，在示例性实施方式的构造中，第一杆状构件310和第二杆状构件320形成长条形状，且载体25总是压抵第一杆状构件310和第二杆状构件320。进一步描述，该构造在输送载体25的同时保持了载体25与载体引导件210之间的接触。

在这种情况下，能够避免上述的碰撞，且相比于上述比较例，能够抑制载体25的振动。此外，与上述比较例相比，能够抑制磨擦颗粒的产生。

应当注意，在第一杆状构件410、第二杆状构件420与载体25（载体25的下辊对92）之间，存在第一杆状构件410、第二杆状构件420与载体25之间反复接触和分离的可能性；然而，在这种情况下，下辊对92只接触定位于下辊对92的前进方向的侧方的第一杆状构件410和第二杆状构件420，在此种情况下，不产生上述的碰撞。

进一步描述，在示例性实施方式中，下辊对92不接触在下辊对92的前进方向的前方定位的一些构件，但是接触在下辊对92的前进方向的侧方定位的一些构件（第一杆状构件410和第二杆状构件420），因此，不产生上述的碰撞。

然而，即使在示例性实施方式的构造中，当载体25被输送到不同的室（相邻的室）时，载体25（载体25的上辊对91或下辊对92）也与设置于不同的室中的第一杆状构件310、第二杆状构件320、第一杆状构件410或第二杆状构件420的端部碰撞，因此，产生关于载体25的振动的顾虑或者产生磨擦颗粒的顾虑。

然而，通过示例性实施方式的构造，也能够在这种情况下抑制载体25的振动或者抑制产生磨擦颗粒。

在示例性实施方式的构造中，在载体引导件210侧，只设置了四个构件——即，第一杆状构件310、第二杆状构件320、第一杆状构件410和第二杆状构件420，即构成载体引导件210的组件的数量少。

在这种情况下，通过保持四个构件——即，第一杆状构件310、第二杆状构件320、第一杆状构件410和第二杆状构件420的位置精度，能够抑制载体25与该四个构件的碰撞。因而，在这种情况下，能够抑制载体25的振动或者抑制产生磨擦颗粒。

另一方面，在比较例的构造中，设置了大量的第一转动体216、第二转动体217和第三转动体218，因此，难以保持所有转动体的位置精度，且难以避免载体25与转动体的碰撞。

此外，在示例性实施方式的构造中，在保持设置在安装于载体25的上辊对91和下辊对92中的转动体911A、912A、921A和922A转动的状态下，载体25被输送到不同的室（相邻的室）时，转动体911A、912A、921A和922A与位于不同室中的上述四个杆状构件接触。在这种构造的情况下，已抑制了磨擦颗粒的产生。

在上述比较例中，由于载体25与停止的转动体216、217和218接触，因此，载体25与转动体216、217和218两者之间的相对速度差变大，由此将产生更多的磨擦颗粒。在示例性实施方式的构造中，相对速度差变小，因此能够抑制磨擦颗粒的产生。

此外，在比较例中，如图8所示，由第一转动体216支撑的被支撑部25B不在载体25的中心线CL（穿过载体25的重心（未示出）的铅垂线）上，而是被设置于偏离中心线CL的位置处。因此，在比较例中，由箭头8A表示的转动运动作用于载体25，因此，当载体25被输送时，载体25的行为容易不稳定。

另一方面，在示例性实施方式的构造中，由于这种转矩难以作用于载体25上，因此，载体25的行为变得稳定且抑制了载体25的振动。为了具体描述，在示例性实施方式中，如图7所示，载体25的支撑结构（载体引导件210的结构）关于作为对称轴的载体25的中心线（穿过载体25的重心G的铅垂线）线性对称，因此，抑制了转矩的产生，由此使得载体25以更稳定的状态被支撑。

此外，在比较例中，如图8所示，在第一转动体216与被支撑部25B之间的接触部，第一转动体216和被支撑部25B点接触。在这种情况下，载体25的支撑变得不稳定，由此载体25容易振动。此外，当第一转动体216和被支撑部25B点接触时，第一转动体216和被支撑部25B趋于磨损，且产生更多的磨擦颗粒。

另一方面，在示例性实施方式的构造中，如图7所示，第一辊状构件911和第一杆状构件310线接触，且第二辊状构件912和第二杆状构件320也线接触。进一步描述，第一辊状构件911和第一杆状构件310之间的接触部以及第二辊状构件912和第二杆状构件320之间的接触部形成线状。

进一步描述，在示例性实施方式中，第一支撑面7X接触设置于第一辊状构件911中的圆筒状转动体911A的外周面，且第二支撑面7Y接触设置于第二辊状构件912中的圆筒状转动体912A的外周面，因此，第一辊状构件911和第一杆状构件310之间的接触部以及第二辊状构件912和第二杆状构件320之间的接触部形成线状。在这种情况下，载体25被稳定地支撑，且抑制了载体25的振动。此外，在这种情况下，抑制了磨擦颗粒的产生。

此外，在示例性实施方式的构造中，与比较例相比，试图减小载体25的重量。具体地，如图3所示，在彼此相邻的两个下辊对92之间形成通孔98，且通过形成通孔98使得载体25的重量变得较轻。

这里，在比较例的构造中，由于载体25的下部由第二转动体217（参见图8）和第三转动体218引导，因此难以在载体25的下部中形成通孔。另一方面，由于示例性实施方式具有下辊对92被引导的构造，因此能够在相邻的下辊对92之间形成通孔98。

这里，本发明人对示例性实施方式的构造和上述比较例的构造进行了实验，以对载体25的振动（振动加速度）进行研究。

图10是示出示例性实施方式中的载体25的振动以及比较例中的载体25的振动的图。

应当注意，在图中，“峰”表示测量的振动加速度的最大值。此外“平均”表示测量的振动加速度的平均值。此外，在图中，“高度方向”表示载体25在载体25的高度方向上的振动加速度，“前进方向”表示载体25在载体25的前进方向上的振动加速度，且“厚度方向”表示载体25在载体25的厚度方向上的振动加速度。

为了参照图10描述实验结果，如图10所示，在峰和平均两者中，示例性实施方式的构造中的振动加速度小于比较例的构造中的振动加速度。特别地，关于峰值，示例性实施方式的构造中的振动加速度的值是比较例的构造中的振动加速度的值的1/3至1/5。

（其他）

在上述描述中，在每个上辊对91中第一辊状构件911和第二辊状构件912在载体25的输送方向上彼此错开的情况被描述为示例。这是由于，在示例性实施方式中，载体25的厚度小，因此，不能将第一辊状构件911和第二辊状构件912设置于相同的位置。这里，在载体25的厚度大的情况下，第一辊状构件911和第二辊状构件912可被设定于相同的位置。

进一步描述，在第一辊状构件911和第二辊状构件912如示例性实施方式那样在载体25的输送方向上彼此错开的情况下，能够减小载体25的厚度。另一方面，在第一辊状构件911和第二辊状构件912被设置于相同的位置的情况下，需要增大载体25的厚度。

此外，在上述描述中，第一支撑面7X和第二支撑面7Y的每个相对于水平方向的倾斜角度被设定为45°且设置于上辊对91（参见图4）中的转动轴911B和912B相对于水平方向的倾斜角度被设定为45°的情况被描述为示例；然而，该倾斜角度仅是示例，且该倾斜角度可不是45°，即为30°、60°等。

应当注意，根据本发明人进行的载体25的运行测试的结果，相对于水平方向的倾斜角度优选35°-55°（45°±10°）且更优选地位于40°-50°（45°±5°）的范围内。

这里，如果倾斜角度小于35°，则图7中描述的第一水平方向负载7B和第二水平方向负载7C相比于倾斜角度为45°的情况以10%的程度减小。此外，如果倾斜角度小于35°，则难以抑制载体25在载体25的高度方向上的振动。

此外，同样地，如果倾斜角度大于55°，则图7中描述的第一水平方向负载7B和第二水平方向负载7C相比于倾斜角度为45°的情况以10%的程度减小。此外，如果倾斜角度大于55°，则难以抑制载体25在载体25的厚度方向上的振动。

应当注意，在上述描述中，通过使用相对于水平方向倾斜的第一杆状构件310和第二杆状构件320产生第一水平方向负载7B和第二水平方向负载7C的情况被描述为示例；然而，不仅能够通过类似这样的杆状构件产生第一水平方向负载7B和第二水平方向负载7C，还能够通过将类似于图4所示的转动体911A的转动体设置于载体25的输送路径的一侧方和另一侧方的每个产生第一水平方向负载7B和第二水平方向负载7C。应当注意，在这种情况下，转动体的转动轴倾斜以使得用于支撑载体25的转动体的外周面的部分相对于水平方向倾斜。此外，在这种情况下，载体25的与外周面接触的部分相对于水平方向倾斜。

附图标记列表

7X     第一支撑面

7Y     第二支撑面

25     载体

80     基板（非磁性基板）

200    制造装置（成膜装置）

210U   上侧载体引导件

250    载体主体

911    第一辊状构件

911A   转动体

911B   转动轴

912    第二辊状构件

912A   转动体

912B   转动轴

Claims (9)

1.一种成膜装置，其包括：

引导机构，所述引导机构在载体保持基板的情况下引导被沿着输送路径输送的所述载体，在所述基板上进行成膜处理，其中，

所述引导机构包括：

第一支撑面，所述第一支撑面被配置于所述输送路径的一侧方，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分；以及

第二支撑面，所述第二支撑面被配置于隔着所述输送路径与所述第一支撑面相对的对向侧，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分，其中，

所述第一支撑面朝向所述第二支撑面所在侧下降地倾斜设置，并且所述第二支撑面朝向所述第一支撑面所在侧下降地倾斜设置。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述第一支撑面被配置于所述输送路径的所述一侧方，并且沿着所述输送路径配置以从下方支撑并引导在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分，并且

所述第二支撑面被配置于所述输送路径的另一侧方，并且沿着所述输送路径配置以从下方支撑并引导在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分。

3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，所述载体的待由所述第一支撑面支撑的一部分以及所述载体的待由所述第二支撑面支撑的一部分均设置有转动构件。

4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

所述载体的待由所述第一支撑面支撑的部分设置有第一转动构件，所述载体的待由所述第二支撑面支撑的部分设置有第二转动构件，所述第一转动构件围绕具有一端和另一端的转动轴转动，所述第二转动构件围绕具有一端和另一端的转动轴转动，

所述第一转动构件被配置成使得，其转动轴的所述一端被定位于所述输送路径所在侧且其转动轴的所述另一端被定位于所述一侧方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述转动轴相对于水平方向倾斜，并且

所述第二转动构件被配置成使得，其转动轴的所述一端被定位于所述输送路径所在侧且其转动轴的所述另一端被定位于所述另一侧方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述转动轴相对于水平方向倾斜。

5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，

所述第一转动构件和所述第二转动构件均包括圆筒状的转动体，

所述第一支撑面从下方与所述第一转动构件的所述转动体的外周面接触，以支撑所述第一转动构件，并且

所述第二支撑面从下方与所述第二转动构件的所述转动体的外周面接触，以支撑所述第二转动构件。

6.根据权利要求1-5中的任意一项所述的成膜装置，其特征在于，所述载体的待由所述第一支撑面支撑的部分以及所述载体的待由所述第二支撑面支撑的部分都位于所述载体的重心的上方。

7.一种载体，待进行成膜处理的基板安装于该载体，该载体在由设置于输送路径的一侧方的引导部以及设置于所述输送路径的另一侧方的引导部引导的同时被沿着所述输送路径输送，其中，所述输送路径设置于成膜装置中，所述载体包括：

载体主体，所述基板安装于所述载体主体，该载体主体在所述成膜装置中的所述输送路径上被输送；

第一转动构件，所述第一转动构件被设置成能够围绕具有一端和另一端的转动轴转动，当所述载体主体在所述输送路径上被输送时，设置于所述一侧方的引导部在从下方支撑所述第一转动构件的同时引导所述第一转动构件；和

第二转动构件，所述第二转动构件被设置成能够围绕具有一端和另一端的转动轴转动，当所述载体主体在所述输送路径上被输送时，设置于所述另一侧方的引导部在从下方支撑所述第二转动构件的同时引导所述第二转动构件；其中，

所述第一转动构件被配置成使得，当所述载体主体在所述输送路径上被输送时，所述第一转动构件的转动轴的所述一端被定位于所述输送路径所在侧且所述另一端被定位于所述一侧方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述转动轴相对于水平方向倾斜，且

所述第二转动构件被配置成使得，当所述载体主体在所述输送路径上被输送时，所述第二转动构件的转动轴的所述一端被定位于所述输送路径所在侧且所述另一端被定位于所述另一侧方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述转动轴相对于水平方向倾斜。

8.根据权利要求7所述的载体，其特征在于，所述第一转动构件和所述第二转动构件被设置成使得，当所述载体主体在所述输送路径上被输送时，所述第一转动构件和所述第二转动构件的设定位置在输送方向上彼此不同。

9.一种制造成膜基板的方法，其中，输送保持基板的载体且在所述基板上进行成膜处理以制造成膜基板，所述基板是待进行所述成膜处理的基板，所述方法包括：

当输送所述载体时，通过引导机构引导所述载体，所述引导机构引导所述载体以沿着预定的输送路径输送所述载体，其中，

所述引导机构包括：

第一支撑面，所述第一支撑面被配置于所述输送路径的一侧方，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分；以及

第二支撑面，所述第二支撑面被配置于隔着所述输送路径与所述第一支撑面相对的对向侧，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分，其中，

所述第一支撑面朝向所述第二支撑面所在侧下降地倾斜设置，并且所述第二支撑面朝向所述第一支撑面所在侧下降地倾斜设置。