CN104745317A - 一种涂布设备烘道清洗剂 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种涂布设备烘道清洗剂，用于清除涂布设备烘道中的污垢，其特征在于，包括如下组份：占总含量1~30wt%的常温液态的低毒性弱碱、占总含量0~2wt%的表面活性剂OP-10、占总含量0~1wt%的耐碱渗透剂OEP-70、占总含量1~10wt%的低毒性的C2~C5饱和一元醇；余量为去离子水。本发明的有益效果是：能够很容易地清洁结构复杂的涂布设备的各个部位，不仅提高清洁效率、降低劳动强度，同时不腐蚀涂布设备的机件，也不对生产环境构成危害。
Description
技术领域
本发明涉及化学清洗技术领域，具体涉及一种在使用时不会对涂布设备构成腐蚀的使用安全的清洗剂。
背景技术
胶带涂布机的烘道是将涂布在基材上的胶黏剂层挥发溶剂并进行交联固化的设备，长时间的工作，烘道内部将集聚大量的污垢，这些污垢主要由交联缩聚的产物羧酸、交联的小分子胶黏剂及空气中的粉尘混合组成。随着这些污垢的积累，必将因机器的震动导致胶带产生黑点、气泡等外观缺陷，造成胶带的绝缘以及透光率下降等应用缺陷而产生退货。这些污垢理论上可以通过碱性溶液和有机溶剂的浸泡擦洗而除去，但碱性溶液对涂布设备内部大量的铝质机件有很强的腐蚀性，同时挥发溶剂后的碱性粉尘也会造成二次粉尘污染和腐蚀；如使用有机溶剂进行清洗，又容易因静电造成安全隐患，并且溶剂的挥发也会毒害操作环境。正是因为这些原因，胶带涂布机烘道的清理一般都采用拆分的方法人工慢慢用有机溶剂清洗，费时费力，清洗效率非常低下，而且还会影响工人的健康或带来安全隐患；更多的情况下，鉴于胶带涂布机烘道结构复杂性及精密性而放弃清洗，从而造成胶带的质量无法提高。因此，研究开发简单易行、对环境危害较低，同时又不损伤涂布设备的清洗剂及清洗方法是广大胶带涂布企业亟待解决的问题。
发明内容
为了解决现有技术的缺陷，本发明提供一种涂布设备烘道清洗剂，能够很容易地清洁结构复杂的涂布设备的各个部位，不仅提高清洁效率、降低劳动强度，同时不腐蚀涂布设备的机件，也不对生产环境构成危害。
为了解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种涂布设备烘道清洗剂，用于清除涂布设备烘道中的污垢，其特征在于，包括如下组份：占总含量1~30wt%的常温液态的低毒性弱碱、占总含量0~2wt%的表面活性剂OP-10、占总含量0~1wt%的耐碱渗透剂OEP-70、占总含量1~10wt%的低毒性的C2~C5饱和一元醇；余量为去离子水。
所述的常温液态低毒性弱碱为三乙醇胺。
所述的低毒性饱和C2~C5饱和一元醇为乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇、正戊醇、异戊醇、叔戊醇中的至少一种。
本发明具有如下有益效果：
1．涂布设备烘道清洗剂使用方便，可以大大提高清洗效率、降低劳动强度；
2．涂布设备烘道清洗剂具有使用安全性；
3．涂布设备烘道清洗剂不会腐蚀涂布机的铝制机件，也不构成二次污染，大大提高胶带的良品率；
4．涂布设备烘道清洗剂使用时不会因静电造成生产安全事故；
5．涂布设备烘道清洗剂可以同时清洁涂布机中的含有羧酸、焦油及小分子胶黏剂的混合污垢。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步说明。
实施例1
涂布设备烘道清洗剂的制备：
1．向反应容器中依次加入100g的OP-10、30g的耐碱渗透剂OEP-70和4000g的去离子水，搅拌并升温至45℃；
2．静置60分钟；
3．分别称取4000g的异丙醇和2000g的三乙醇胺，在搅拌状态下依次加入到反应容器中，继续搅拌均匀；
4．将溶液静置、室温陈化1小时；
5．快速将陈化后的溶液用300目的筛网过滤到聚烯烃的容器中，密封保存于不见光处；
6．所得的溶液就是涂布设备烘道清洗剂。
实施例2
1. 将涂布设备烘道清洗剂装入喷壶中；
2. 将喷壶的喷组对准待清洁的涂布设备污垢处，启动喷壶的动力，将清洁液均匀浸湿住污垢处；
3. 清洗液的使用量视情而定；
4. 约10分钟之后，可以用清水补喷一次作为冲洗；
5. 开启涂布机的进风和排风系统，吹干被清洗部分。
实施例3
1. 将涂布设备烘道清洗剂倒入敞口容器中；
2. 用自来水和清洗液按10：1的比例进行稀释；
3. 将带有污垢的涂布机部件浸入稀释后的清洗液中15~30分钟；
4. 将浸泡后的涂布机部件放入清水中浸泡1~3分钟；
5. 取出并擦干。
以上是对本发明的描述而非限定，基于本发明思想的其他实施例，亦均在本发明的保护范围之中。
Claims (3)
1.一种涂布设备烘道清洗剂，用于清除涂布设备烘道中的污垢，其特征在于，包括如下组份：占总含量1~30wt%的常温液态的低毒性弱碱、占总含量0~2wt%的表面活性剂OP-10、占总含量0~1wt%的耐碱渗透剂OEP-70、占总含量1~10wt%的低毒性的C2~C5饱和一元醇；余量为去离子水。
2.根据权利要求1所述的涂布设备烘道清洗剂，其特征在于：所述的常温液态低毒性弱碱为三乙醇胺。
3.根据权利要求1所述的涂布设备烘道清洗剂，其特征在于：所述的低毒性饱和C2~C5饱和一元醇为乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇、正戊醇、异戊醇、叔戊醇中的至少一种。
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2013
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