CN104698672A - 滤色片及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种滤色片,包括基底,以及相互间隔的设置在基底上的多个色阻;每个色阻包括两个边缘部与位于两个边缘部之间的主体部;其中至少一个色阻的至少一个边缘部的膜厚大于其主体部的膜厚,用于减弱该边缘部的透光率,在使用上述滤色片的液晶显示装置中,当某个像素的光线发生偏转入射到相邻像素所对应的色阻的边缘部上时,该色阻的边缘部由于透光率的减弱会阻挡住部分偏转光线穿过该色阻,从而可以改善色偏现象。

Description

滤色片及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种滤色片及其制备方法、彩膜基板以及显示装置。
背景技术
液晶显示器是一种采用液晶材料制作的显示装置,具有轻薄、功耗小和显示信息量大等特点。在液晶显示器中,液晶显示面板是其最重要的组成部件,其中,滤色片更是液晶显示面板中不可或缺的部分。
图1为现有技术中液晶显示面板的结构示意图,如图1所示,通常的液晶显示面板主要由相对设置的阵列基板101、彩膜基板102,以及设置在阵列基板101和彩膜基板102之间的液晶层103构成,并且在其中的阵列基板101上设置多个像素104,多个像素104之间例如通过由不透光的金属线制作而成的数据线及扫描线间隔开,每个像素104包括用于允许光通过的透光区及除透光区之外的遮光区;在彩膜基板102上设置有滤色片100,滤色片100包括绿色色阻105a、红色色阻105b和蓝色色阻105c,绿色色阻105a、红色色阻105b和蓝色色阻105c分别与多个像素104的透光区一一对应,且绿色色阻105a、红色色阻105b和蓝色色阻105c具有均一膜厚,另外,在各个色阻之间设置有黑矩阵106,黑矩阵106对应于各个像素104的透光区之外的遮光区,相应的,阵列基板21上用于间隔相邻像素104的数据线或扫描线与彩膜基板22上的黑矩阵106重叠。
在液晶显示面板制备过程中,需要将制备好的阵列基板21和彩膜基板22进行对位贴合,在此贴合过程中会产生阵列基板21和彩膜基板22的对位偏差,导致彩膜基板22上的各个色阻与阵列基板21上的各个像素104的透光区之间差生偏差,此时,当光线穿透液晶层23后,在不同色阻的相邻区域,会发生混色现象,即发生色偏。尤其在观察者所在的位置与液晶显示面板的法线方向存在一定的夹角时,会看到明显的色偏,即产生大视角色偏,影响显示效果。
随着人们对液晶显示图像分辨率的追求越来越高,阵列基板上的像素104和彩膜基板上的绿色色阻105a、红色色阻105b和蓝色色阻105c被设计的越来越小,由阵列基板21和彩膜基板22之间的对位偏差导致的色偏现象也越来越严重,降低了液晶显示面板的显示质量。现有技术中一种解决方式是可以通过增加黑矩阵106的宽度降低色偏,但上述方式会使得液晶显示面板的开口率减小,穿透率降低,同样会影响液晶显示面板的显示效果。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例提供一种滤色片及使用该滤色片的液晶显示面板,以解决现有技术中液晶显示面板的色偏问题。
为达到上述目的,本发明提供了一种滤色片,其特征在于,包括基底,以及相互间隔的设置在所述基底上的多个色阻;每个所述色阻包括两个边缘部与位于两个边缘部之间的主体部;所述色阻包括第一色阻,所述第一色阻的至少一个边缘部的膜厚大于所述主体部的膜厚。
进一步的,本发明提供了一种包含上述滤色片的液晶显示面板。
另外,本发明还提供了一种滤色片的制备方法,形成所述色阻的步骤主要包括:步骤一:涂覆工艺,在基底上涂覆第一颜色着色层并固化;步骤二:曝光工艺,通过第一光掩模对第一颜色着色层进行曝光工艺,所述第一光掩模具有不透光部、透光部及部分透光部;步骤三:显影工艺,对经曝光了的第一颜色着色层显影,形成第一色阻,所述第一色阻的边缘部的膜厚大于所述第一色阻的主体部的膜厚;所述第一光掩模的部分透光部对应所述第一色阻的主体部。
与现有技术相比,本发明液晶显示面板的每个色阻包括边缘部与主体部,且至少一个色阻的至少一个边缘部的膜厚大于其主体部的膜厚,用于减弱该边缘部的透光率,当某个像素的光线发生偏转入射到相邻像素所对应的色阻上时,该色阻的边缘部由于透光率的减弱会阻挡住部分偏转光线穿过该色阻,从而可以改善色偏现象。
附图说明
图1是现有技术中液晶显示面板的剖面示意图;
图2是本发明实施例一中滤色片的俯视图;
图3是沿着图2中V-V线的滤色片的截面图;
图4是本发明实施例一中使用图2所示滤色片的液晶显示面板的剖面示意图;
图5是本发明实施例二中彩膜基板的俯视示意图;
图6是图4所示液晶显示面板的色偏改善效果仿真图;
图7a-7f是图2所示滤色片的制备流程图;
图8是本发明实施例二中液晶显示面板的剖面示意图;
图9是本发明实施例三中滤色片的其中一部分的制备方法示意图;
具体实施方式
以下,根据附图详细地说明本发明的实施方式。另外,本发明并不限定于以下的各实施方式。
图2是本发明实施例一中滤色片的俯视图,图3是沿着图2中V-V线的滤色片的截面图,如图2与图3所示,滤色片10包括基底11与位于基底11上的第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c。在本实施例中,第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c在滤色片10的行向上交错排列,第一色阻15a位于第二色阻15b与第三色阻15c之间;在滤色片10的列向上,单个色阻重复连续排列,如第一色阻15a所在列由第一色阻15a重复连续排列形成。滤色片10还包括覆盖第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的平坦层17,用于使滤色片10表面平坦化。
具体的,滤色片10的每个色阻包括主体部151与位于主体部151两侧的边缘部152,边缘部152沿着滤色片10的列向延伸,其中至少一个色阻的至少一个边缘部152的膜厚大于该色阻的主体部151的膜厚。在本实施例中,第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的边缘部152的膜厚全部大于主体部151的膜厚,且第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的边缘部152分别具有相同的膜厚,优选的,该边缘部152的膜厚为2.7μm-3.7μm,第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的主体部151分别具有相同的膜厚,优选的,该主体部151的膜厚为1.7μm-2.7μm。
进一步的,滤色片10还包括位于基板11上的黑矩阵13,黑矩阵13包括沿滤色片10的列向延伸的第一部分131与沿滤色片10的行向延伸的第二部分132,其中,第一部分131用于将滤色片10的行向上的相邻色阻间隔开。
进一步的,在本实施例中,第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的边缘部152分别沿着黑矩阵13的第一部分131延伸,并与第一部分131部分重叠。
优选的,相邻色阻上的相邻边缘部152相互接触,也就是说,相邻色阻上的相邻边缘部152之间无缝隙,可以增加滤色片10的表面平坦度。黑矩阵13的第一部分131沿滤色片10的行向上的宽度取为Wb,相邻两个边缘部152分别与Wb/2宽度的黑矩阵13相重叠。在本实施例中,相邻边缘部152在沿滤色片10的行向上的宽度W2为(Wb/2+2μm),每个色阻的主体部151在沿滤色片10的行向上的宽度W1为(Wb+4μm),也即,各色阻的主体部151的宽度为边缘部152的宽度的2倍,当然,各色阻的主体部151与边缘部152的宽度比例也可以根据透光率与色偏改善的需要设置为其它值,在此并不做特别限定。
优选的,黑矩阵13的第一部分131沿滤色片10的行向上的宽度Wb的值为5μm-6μm,此时,主体部151的宽度W1的值为9μm-10μm,边缘部152的宽度W2的值为4.5μm-5μm。
优选的,在本实施例中,各个色阻的边缘部152在滤色片10的列向上的长度与每个色阻在滤色片10的列向上的长度相等,且等于黑矩阵13两相邻的第二部分132之间的宽度。
优选的,在本实施例中,第一色阻15a为绿色色阻,第二色阻15b为红色色阻,第三色阻15c为蓝色色阻。
上述滤色片10可以应用在多种显示装置中,现以包括图2所示滤色片10的液晶显示面板为例来介绍上述滤色片10的具体应用,图4是本发明实施例一中使用图2所示滤色片的液晶显示面板的剖面示意图。如图4所示,液晶显示面板20主要由相对设置的阵列基板21、彩膜基板22,以及设置在阵列基板21和彩膜基板22之间的液晶层23构成。阵列基板21上设置有第一像素24a、第二像素24b与第三像素24c,相邻像素之间例如通过位于阵列基板21上的数据线26等金属线间隔开,当然,已知的,阵列基板21上还设置有用于控制每个像素开关的薄膜晶体管、栅线以及像素电极等,分别位于数据线26以下或以上的膜层中,图4只是示出了阵列基板21的简化图,并不对阵列基板21的具体构成进行限制;彩膜基板22上还设置有滤色片10,滤色片10包括黑矩阵13与通过黑矩阵13间隔开的第一色阻15a、第二色阻15b和第三色阻15c,其中第一色阻15a、第二色阻15b和第三色阻15c分别与阵列基板21上的第一像素24a、第二像素24b与第三像素24c相对应。
在本实施例中,每个色阻的主体部151对应于阵列基板21上的每个像素的透光区P,每个边缘部152分别与位于每个色阻两侧的黑矩阵13部分重叠,每个边缘部152除与黑矩阵13的第一部分131相重叠的部分还包括与每个像素的透光区P相重叠的部分,具体的,每个色阻的主体部151的膜厚取为2.6μm、边缘部152的膜厚取为3.6μm,且主体部151沿行向的宽度为9.5μm,边缘部152沿行向的宽度为4.75μm。
进一步的,彩膜基板22还包括覆盖黑矩阵13、第一色阻15a、第二色阻15b和第三色阻15c的平坦层17,以增加彩膜基板22的表面平坦度。在本实施例中,滤色片10的平坦层17与液晶显示面板20的配向层同层设置。
优选的,在本实施例中,第一色阻15a为绿色色阻,第二色阻15b为红色色阻,第三色阻15c为蓝色色阻。以红色画面为例,当液晶显示面板需要显示红色画面时,利用第二像素24b上的电场控制第二色阻15b下的液晶层23的液晶分子发生偏转,而第一色阻15a与第三色阻15c下的液晶分子初始取向保持不变,也就是只允许光线通过红色色阻15b,以显示红色画面。此时,假设在贴合阵列基板21和彩膜基板22时产生对位偏差或者其它原因,导致部分本应入射到第二色阻15b上的光线入射到与该第二色阻15b相邻的第一色阻15a与第三色阻15c上,例如,图4中的光线S穿过第二像素24b后,入射到第三色阻15c的临近第二色阻15b的边缘部152上,该边缘部152相对于主体部151为一凸起结构,即边缘部152的膜厚大于主体部151的膜厚,色阻膜厚的增加会削弱色阻的透光率,因此增加了膜厚的边缘部152会阻挡部分入射到该边缘部152上的光线S透过第一色阻15a,减少红色画面因混入了蓝色光线而偏紫的现象的发生;同样的,通过增大第一色阻15a的邻近第二色阻15b的边缘部152的膜厚,可以减少红色画面因混入了绿色光线而偏黄的现象的发生,进而改善因阵列基板21和彩膜基板22对位偏差或者其它导致的色偏现象,尤其可以改善液晶显示面板的大视角色偏现象。
而且,本发明实施例一中只增大了色阻的边缘部152的膜厚,而色阻的主体部151的膜厚保持不变,在改善因阵列基板21和彩膜基板22对位偏差导致的色偏现象的同时,可以保证色阻的主体部151的透光率不变。
图5是本发明实施例二中彩膜基板的俯视示意图。具体的,液晶显示面板还包括用于保持其盒厚均一性的支撑物29,支撑物29可以形成于液晶显示面板的任何一个基板上,当支撑物29形成于彩膜基板22上时,一般是在形成色阻后直接在色阻上形成支撑物29,此时,为保持支撑物29在彩膜基板22上站立的稳定性,可以将支撑物29所在位置的色阻设置为具有均一的膜厚,如,支撑物29可以对应于色阻的边缘部152之外的区域。
优选的,在本实施例中,如图5所示,黑矩阵13包括沿彩膜基板22行向延伸的第一部分131与沿彩膜基板22列向延伸的第二部分132。与彩膜基板22相对设置的阵列基板上的每个像素包括与黑矩阵13的第一部分131及第二部分132相对应的遮光区142,每个像素的除遮光区142之外的区域为透光区141。在本实施例中,每个色阻的边缘部152部分与黑矩阵13的第一部分131重叠,且每个色阻的边缘部152沿彩膜基板22的列向的长度L1小于每个像素的透光区142的长度L2,即每个色阻的主体部151包括每个色阻的边缘部152与黑矩阵13的第二部分132之间的色阻层,支撑物29位于列向上的两相邻色阻的相邻边缘部152之间,该区域色阻的膜厚等于主体部151的膜厚,也就是说,支撑物29所在位置的色阻的膜厚均一,在改善因液晶显示面板对位偏差导致的色偏现象的同时,可以保证支撑物29在彩膜基板22上的站立稳定性,从而可以提高液晶显示面板20的盒厚的稳定性。
当然,也可以设置为如本发明实施例一中所述的色阻结构,此时,每个色阻的边缘部152沿彩膜基板22的列向的长度L1等于每个像素的透光区142的长度L2,支撑物29形成于黑矩阵13的第二部分132上,同样可以实现支撑物29所在位置的色阻的膜厚均一性,从而保证支撑物29在彩膜基板22上的站立稳定性。
在其它实施方式中,也可以设置为各个色阻的边缘部152具有不同的长度,如支撑物29对应位置处的边缘部152的长度L1小于每个像素的透光区142的长度L2,而支撑物29对应位置之外的区域的边缘部152的长度L1等于或大于每个像素的透光区142的长度L2,同样可以保证支撑物29对应位置处具有均一的膜厚。
或者,也可以设置为所有色阻的边缘部152的长度都大于每个像素的透光区142的长度L2,但是各个色阻的边缘部152具有不同的膜厚,如支撑物29对应位置处的边缘部152的膜厚等于色阻的主体部151的膜厚,而支撑物29对应位置之外的区域的边缘部152的膜厚大于主体部151的膜厚,在选择性的改善因液晶显示面板对位偏差导致的色偏现象的同时,同样可以保证支撑物29在彩膜基板22上的站立稳定性,从而可以提高液晶显示面板20的盒厚的稳定性。
图6是图4所示液晶显示面板的色偏改善效果仿真图。如图4与图6所示,其中横向坐标代表观察者所处位置与液晶显示面板20的法线方向的夹角度数,竖向坐标代表色坐标差值,色坐标差值代表了实际色坐标值与目标色坐标值之间的差别,即色坐标差值的大小代表了色偏的大小,该色坐标差值越大表示液晶显示面板的色偏现象越严重。图6所示虚线代表现有技术(图1所示)中色偏大小,此时,液晶显示面板的色阻膜厚均一,取为2.6μm,且阵列基板101与彩膜基板102的对位偏差取为2μm;图6所示实线代表本发明实施例一液晶显示面板20的色偏大小,此时,液晶显示面板20的色阻15的主体部151的膜厚取为2.6μm、边缘部152的膜厚取为3.6μm,主体部151沿行向的宽度为9.5μm,边缘部152沿行向的宽度为4.75μm。且阵列基板21与彩膜基板22的对位偏差同样取为2μm;以观察者所处位置与液晶显示面板20的法线方向的夹角为50度为例,从图上可以看出,此时本发明实施例一中液晶显示面板20的色偏明显小于现有技术中液晶显示面板的色偏,也即,采用了本发明的滤色片10的液晶显示面板20相比于现有技术明显具有色偏改善效果。
进一步的,本发明提供一种滤色片的制备方法,现以制备本发明实施例一即图2所示的滤色片10的方法为例进行说明,图7a-7f是图2所示滤色片的制备流程图。制备该滤色片10的主要步骤包括:
步骤一:首先提供一透明基底11,并在基底11上形成黑矩阵13;
具体的,在基底11的整个表面上沉积例如深色遮光性树脂层,然后通过构图工艺对该树脂层进行构图,形成如图7a所示的黑矩阵13。
步骤二:涂覆工艺,接着在基底11上涂覆第一颜色着色层14并固化;
具体的,如图7b所示,在形成有黑矩阵13的基底11的整个表面上涂敷含有着色剂的具有第一颜色的着色固化性组合物,将涂覆完成的着色固化性组合物在80℃以上进行预烘焙,形成固化后的第一颜色着色层14。
步骤三:曝光工艺,通过第一光掩模M1对第一颜色着色层14进行曝光工艺;
具体的,如图7c所示,将第一掩模M1定位在第一颜色着色层14上方,并且通过第一掩模M1用紫外(UV)线照射第一颜色着色层14,对第一颜色着色层14进行有选择的曝光。其中,第一掩模M1包括对应着第一颜色着色层14的第一区域141的部分透光部T1、对应着第一颜色着色层14的第二区域142的透光部T2和除透光部T1与部分透光部T2之外的不透光部T3。进一步的,不透光部T3例如为由不透光的铬膜制备而成,部分透光部T2为由具有部分透光率的薄膜材料制备而成,或者由光栅形成,可以通过控制部分透光部T2的透光率的方法来控制第一颜色着色层14的第一区域141的曝光深度,从而获得具有预定膜厚的色阻层结构,如获得图7d所示的第一色阻15a的边缘部152,使其膜厚小于第一色阻15a的主体部151的膜厚。
步骤四:显影工艺,对经曝光了的第一颜色着色层14进行显影,形成第一色阻15a,所述第一色阻15a的边缘部152的膜厚大于所述第一色阻15a的主体部151的膜厚;
具体的,如图7d所示,通过刻蚀工艺选择性的去掉第一颜色着色层14的第一区域141的一部分形成第一色阻15a的主体部151,并保留第一颜色着色层14的第二区域141形成第一色阻15a的边缘部152。边缘部152沿着黑矩阵13的边沿与黑矩阵13部分重叠。优选的,第一色阻15a的边缘部152的膜厚为2.7μm-3.7μm,第一色阻15a的主体部151的膜厚为1.7μm-2.7μm。
接着,重复上述步骤二、步骤三与步骤四,利用第一掩模M1形成如图7e所示的第二色阻15b与第三色阻15c,且第二色阻15b与第三色阻15c的主体部151的膜厚与第一色阻15a的主体部151的膜厚相等,第二色阻15b与第三色阻15c的边缘部151的膜厚与第一色阻15a的边缘部151的膜厚相等。
最后,在形成有第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的基底11上涂覆一透明有机材料,如可以为由丙烯酸树脂、二叠氮基萘醌酯、1,4-二氧六环、偶联剂、二乙二醇甲乙醚和丙二醇甲醚醋酸酯组成的材料,由于该有机材料在涂覆过程中具有流动性,可以将各个色阻的边缘部152与主体部151之间的段差填平,经烘焙固化后形成一具有平坦表面的平坦层17,保证了滤色片10的平坦度,并最终形成如图7f所示的滤色片10。
上述滤色片10的制备方法无需增加额外的掩膜,通过一个具有部分透光结构的第一掩膜M1即可得到本发明所述具有不同膜厚结构的滤色片,步骤简单,节省成本。
利用上述相同的制备方法可以得到本发明实施例二即图5所述滤色片,只要通过调节第一掩膜M1的透光部T1与部分透光部T2的形状即可,在此不再赘述。
图8是本发明实施例三中液晶显示面板的剖面示意图。如图8所示,本实施例中液晶显示面板的组成结构与本发明实施例一中液晶显示面板的组成结构类似,主要由相对设置的阵列基板21、彩膜基板22,以及设置在阵列基板21和彩膜基板22之间的液晶层23构成。不同点在于,彩膜基板22上设置的滤色片10’与本发明实施例一中设置的滤色片10具有不同的色阻结构。具体的,滤色片10’包括黑矩阵13与通过黑矩阵13间隔开的第一色阻15a、第二色阻15b’与第三色阻15c,其中第一色阻15a、第二色阻15b’和第三色阻15c分别与阵列基板21上的第一像素24a、第二像素24b与第三像素24c相对应,在本实施例中,第一色阻15a与第三色阻15c的边缘部152的膜厚大于主体部151的膜厚,第二色阻15b’的边缘部152的膜厚与主体部151的膜厚相同,也即第二色阻15b’整体具有均一的膜厚。
优选的,第一色阻15a与第三色阻15c的边缘部152的膜厚为2.7μm-3.7μm,第一色阻15a与第三色阻15c的主体部151的膜厚为1.7μm-2.7μm。,且主体部151沿行向的宽度为4.5μm-5μm,边缘部152沿行向的宽度为9μm-10μm。
具体的,以第一色阻15a、第二色阻15b’与第三色阻15c分别为绿色色阻、红色色阻和蓝色色阻为例,也就是说滤色片10’包括绿色色阻15a、红色色阻15b’与蓝色色阻15c。根据实际经验,滤色片的色阻因颜色不同会呈现不同的透光率,具体的,在绿、红、蓝三色组成的色阻中,绿色色阻15a的穿透率是最大的,红色色阻15b’的穿透率次之,而且当相同功率的的各色光照射进人眼时,人眼对绿色光是最敏感的,因此当从第二像素24b透射出的光线发生偏转入射到绿色色阻15a上时,导致红色画面偏黄,最容易发生色偏。在本实施例中,绿色色阻15a的边缘部152的膜厚大于主体部151的膜厚,即增大了边缘部152的膜厚,当来自第二像素24b的光线在红色色阻15b’与绿色色阻15a相邻处发生偏转并入射到绿色色阻15a的边缘部152上时,由于增大了边缘部152的膜厚,减弱了绿色色阻15a的边缘部152的透光率,也就是说,大部分偏转光线不会穿过绿色色阻15c而显示绿色光线,从而减弱红色画面偏黄现象的发生,达到改善色偏的效果;进一步的,当从第二像素24b透射出的光线发生偏转入射到蓝色色阻15c上时,导致红色画面偏紫,为改善此色偏现象,在本实施例中,蓝色色阻15c的边缘部152的膜厚大于主体部151的膜厚,即增大了蓝色色阻15c的边缘部152的膜厚,减弱了蓝色色阻15c的边缘部152的透光率,也就是说,大部分偏转到蓝色色阻15c的边缘部152的光线不会穿过蓝色色阻15c而显示蓝色光线,从而减弱红色画面偏紫现象的发生,达到改善色偏的效果。
优选的,本实施例中,红色色阻15b’的边缘部152的膜厚设置为与主体部151的膜厚相同,即不增大红色色阻15b’的边缘部152的膜厚,可以有效保证红色色阻15b’的穿透率。
首先,以绿色画面为例,当需要显示绿色画面时,虽然也会有部分穿过第一像素24a的光线会在红色色阻15b’与绿色色阻15a相邻处发生偏转并入射到红色色阻15b’上,但是,由于红色色阻15b’的透光率相对于绿色色阻15c的透光率较弱,且人眼对红色光较不敏感,该部分穿过红色色阻15b’的偏转光线对绿色画面的影响较小,较不易发生色偏现象,或者说色偏现象较弱,不容易被人眼感知出来,可以不予考虑;其次,根据实际经验也可以得知,当需要显示蓝色画面时,相对于其他颜色,人眼对蓝色较不敏感,且蓝色色阻15c的透光率较低,因此蓝色画面本身就较暗;同时,又由于紫色(波长:380nm-460nm)与蓝色(波长:450nm-490nm)的波长接近,即使有少量红色光线混到蓝色画面中发生蓝色画面偏紫的现象,也不容易被人眼所识别,因此红色色阻15b’的边缘部152的膜厚大小对色偏的影响不是很明显,在考虑不影响红色色阻15b’整体透光率的情况下,可以不必增大红色色阻15b’的边缘部152的膜厚。
综上,本发明实施例三中,只是增大了绿色色阻15a与蓝色色阻15c的边缘部152的膜厚,保持红色色阻15b’的边缘部152的膜厚与其主体部151的膜厚相同,此结构的滤色片10’可以在保证不降低红色色阻15b’的整体透光率的情况下,有效改善因液晶显示面板对位偏差导致的色偏现象。
进一步的,本发明提供一种滤色片的制备方法,现以制备本发明实施例三即图8所示的滤色片10’的方法为例进行说明。制备本发明实施例三即图8所示的滤色片10’的步骤与制备图2所示滤色片10的步骤类似,同样包括如图7a-7d所示的以下步骤:
步骤一:首先提供一透明基底11,并在基底11上形成黑矩阵13;
步骤二:涂覆工艺,在基底11上涂覆第一颜色着色层14并固化,在本实施例中,所述第一颜色着色层14为绿色着色层;
步骤三:曝光工艺,通过第一光掩模M1对第一颜色着色层14进行曝光工艺;
步骤四:显影工艺,对经曝光了的第一颜色着色层14进行显影,形成第一色阻15a,所述第一色阻15a的边缘部152的膜厚大于所述第一色阻15a的主体部151的膜厚;
另外,请参考图8与图9所示,制备本发明实施例三即图8所示的滤色片10’的方法还包括形成第二色阻15b’的步骤:
步骤五:涂覆工艺,在形成有黑矩阵13与第一色阻15a的基底11上涂覆第二颜色着色层14b’并固化,第二颜色着色层14b’的膜厚等于第二色阻15b’的主体部151的膜厚,在本实施例中,所述第二颜色着色层14b’为红色着色层;
步骤六:曝光工艺,通过第二光掩模M2对第二颜色着色层14b’进行曝光工艺,其中,第二掩膜M2包括透光部T2’与不透光部T3’,透光部T2’对应于第二颜色着色层14b’的第二色阻15b’所在的位置;
步骤七,显影工艺,,对经曝光了的第二颜色着色层14b’进行显影,形成第二色阻15b’,所述第二色阻15b’的边缘部152的膜厚与其主体部151的膜厚相等;
接着,重复上述步骤二、步骤三与步骤四,利用第一掩模M1形成如图8所示的第三色阻15c。
最后,在形成有第一色阻15a、第二色阻15b’与第三色阻15c的基底11上涂覆一透明有机材料,如可以为由丙烯酸树脂、二叠氮基萘醌酯、1,4-二氧六环、偶联剂、二乙二醇甲乙醚和丙二醇甲醚醋酸酯组成的材料,由于该有机材料在涂覆过程中具有流动性,可以将各个色阻的边缘部152与主体部151之间的段差填平,经烘焙固化后形成一具有平坦表面的平坦层17,保证了滤色片10’的平坦度,并最终形成如图8所示的滤光片10’。
当然,以上只是选出几个实施例对本发明的滤色片结构进行说明,但滤色片的结构并不以此为限,例如,也可以根据需要设置为:只有第一色阻15a的的边缘部152的膜厚大于第一色阻15a的主体部151的膜厚,第二色阻15b’与第三色阻15c的边缘部151的膜厚与其主体部151的膜厚相同,以改善由第一色阻15a引起的色偏现象。
众所周知的,在早期的滤色片制备过程中,由于黑矩阵的存在,在沉积色阻层时,会导致色阻与黑矩阵重叠的地方的膜厚大于两相邻黑矩阵之间的色阻层的膜厚,也即不可避免的出现色阻层边界隆起的情况,从而使色阻层不平坦,产生画质劣化的问题。鉴于此,近年来,人们一直致力于解决色阻层平坦化的问题,而忽略了逐步趋于平坦化的色阻层给显示面板是否带来其它影响显示效果的问题。
目前的滤色片的制备技术,已能很好的解决色阻层边界隆起的情况,得到具有平坦化色阻层的滤色片,本发明在具有平坦化色阻层的滤色片的基础上对其进行了进一步的改进,通过具有不同膜厚的色阻层来改善液晶显示面板的色偏问题。该不同膜厚的色阻层并不同于早期的具有色阻边界隆起的色阻层,早期的色阻边界隆起是在制备过程中由于膜层叠加引起的,是不可控的,且主要形成在与黑矩阵重叠的区域,与黑矩阵不重叠的区域的色阻层的膜厚是均一的,该结构的滤色片并不能用以改善色偏现象。本发明的色阻层结构是根据需要进行设置的,也即每个色阻的主体部151与边缘部152的宽度、膜厚差值是可以控制的,可以根据综合考虑滤色片透光率与改善色偏的需要令边缘部152的膜厚比主体部151的膜厚大1μm或者1.5μm,也可以根据综合考虑滤色片透光率与改善色偏的需要令主体部151的宽度为边缘部152的宽度的2倍;如,本发明的边缘部152的宽度主要位于黑矩阵13与主体部151之间,即不存在黑矩阵13的地方,用以改善色偏;又如,在包含有第一色阻15a、第二色阻15b与第三色阻15c的滤色片中,根据改善某个色偏的需要,可以只设定其中一个色阻的边缘部152的膜厚大于其主体部151的膜厚,而其他色阻的边缘部152的膜厚与其主体部151的膜厚相同,等等。这些通过现有技术中的色阻边界隆起是不可能实现的。
本发明的滤色片结构减少了因阵列基板和彩膜基板对位偏差等原因导致的色偏现象的发生,尤其可以改善如液晶显示面板等显示装置的大视角色偏现象。
以上对本发明所提供的滤色片及其制作方法进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,在不脱离本发明的精神或范围的情况下,可以对本发明做出各种修改和变型,因此,本发明旨在涵盖落入所附权利要求及其等同物范围内的本发明的修改和变型。

Claims (22)

1.一种滤色片,其特征在于,包括基底,以及相互间隔的设置在所述基底上的多个色阻,;
每个所述色阻包括两个边缘部与位于两个边缘部之间的主体部;
所述色阻包括第一色阻,所述第一色阻的至少一个边缘部的膜厚大于所述主体部的膜厚。
2.如权利要求1所述的滤色片,其特征在于,所述滤色片还包括设置在所述基底上的黑矩阵,所述黑矩阵位于任意两相邻色阻之间。
3.如权利要求1所述的滤色片,其特征在于,所述第一色阻的所述两个边缘部的膜厚相等。
4.如权利要求1所述的滤色片,其特征在于,所述主体部的膜厚为1.7μm-2.7μm,所述边缘部的膜厚为2.7μm-3.7μm。
5.如权利要求1所述的滤色片,其特征在于,所述主体部的宽度为所述边缘部的宽度的2倍。
6.如权利要求5所述的滤色片,其特征在于,所述主体部的宽度为9μm-10μm,所述边缘部的宽度为4.5μm-5μm。
7.如权利要求1所述的滤色片,其特征在于,所述滤色片还包括与所述第一色阻相互间隔设置的第二色阻与第三色阻;
所述第一色阻的靠近所述第二色阻的边缘部的膜厚大于所述主体部的膜厚;所述第三色阻的靠近所述第一色阻的边缘部的膜厚大于所述主体部的膜厚。
8.如权利要求7所述的滤色片,其特征在于,所述第二色阻的所述边缘部的膜厚全部大于所述主体部的膜厚。
9.如权利要求7所述的滤色片,其特征在于,所述第一色阻为绿色色阻,所述第二色阻为红色色阻,所述第三色阻为蓝色色阻。
10.一种彩膜基板,包括如权利要求1-9任一项所述的滤色片。
11.一种显示装置,包括如权利要求10所述的彩膜基板、阵列基板及位于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的支撑物。
12.如权利要求11所述的显示装置,其特征在于,所述支撑物对应位置处的所述色阻的膜厚等于所述色阻的所述主体部的膜厚;或者,所述支撑物对应于所述色阻的所述主体部。
13.如权利要求11所述的显示装置,其特征在于,所述阵列基板包括呈阵列排列的多个像素单元,所述彩膜基板上的每个所述色阻对应于每个所述像素单元;
每个所述像素单元包括透光区,所述色阻的所述边缘部的长度不大于所述透光区的长度。
14.如权利要求11所述的显示装置,其特征在于,所述支撑物对应于所述色阻的所述边缘部之外的地方。
15.一种滤色片的制备方法,包括通过构图工艺在基底上形成不同颜色的色阻的步骤,其特征在于,形成所述色阻的步骤包括:
步骤一:涂覆工艺,在基底上涂覆第一颜色着色层并固化;
步骤二:曝光工艺,通过第一光掩模对第一颜色着色层进行曝光工艺,所述第一光掩模具有不透光部、透光部及部分透光部;
步骤三:显影工艺,对经曝光了的第一颜色着色层显影,形成第一色阻,所述第一色阻的边缘部的膜厚大于所述第一色阻的主体部的膜厚;
所述第一光掩模的部分透光部对应所述第一色阻的主体部。
16.如权利要求15所述滤色片的制备方法,其特征在于,所述在基底上形成不同颜色的色阻的步骤之前,还包括:通过构图工艺在基底上形成黑矩阵。
17.如权利要求15所述滤色片的制备方法,其特征在于,所述主体部的膜厚为1.7μm-2.7μm,所述边缘部的膜厚为2.7μm-3.7μm。
18.如权利要求15所述滤色片的制备方法,其特征在于,所述主体部的宽度为所述边缘部的宽度的2倍。
19.如权利要求18所述滤色片的制备方法,其特征在于,所述主体部的宽度为9μm-10μm,所述边缘部的宽度为4.5μm-5μm。
20.如权利要求15所述滤色片的制备方法,其特征在于,形成所述滤色片的步骤还包括:重复所述步骤一、步骤二与步骤三形成第二色阻与第三色阻,所述第一色阻、所述第二色阻与所述第三色阻在所述滤色片的行向上相互间隔交错排列,且所述第二色阻位于所述第一色阻与所述第三色阻之间。
21.如权利要求15所述滤色片的制备方法,其特征在于,形成所述滤色片的步骤还包括:
步骤四:涂覆工艺,在基底上涂覆第二颜色着色层并固化;
步骤五:曝光工艺,通过第二光掩模对第二颜色着色层进行曝光工艺,所述第二光掩模具有不透光部与透光部;
步骤六:显影工艺,对经曝光了的第二颜色着色层显影,形成第二色阻。
22.如权利要求21所述滤色片的制备方法,其特征在于,重复所述步骤一、步骤二与步骤三形成第三色阻,所述第一色阻、所述第二色阻与所述第三色阻在所述滤色片的行向上相互间隔交错排列,且所述第二色阻位于所述第一色阻与所述第三色阻之间。
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