CN104675856A - 一种立式运动导轨机构 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种立式运动导轨机构,包括上导轨腔和下导轨腔,所述上导轨腔内设有上导轨,所述下导轨腔内设有下导轨,所述上导轨和所述下导轨的两侧边缘呈内凹的梯形,所述上导轨腔和所述下导轨腔设有与之对应的滚柱。本发明的导轨机构既可以减轻自身重力对运行速度的影响,又可以在运动中对其进行定位。
Description
技术领域
本发明涉及机械运动领域,尤其是涉及一种立式运动导轨机构。
背景技术
立式机械运动在正常运动的同时还要比平面运动兼顾重力的要求,即在运动中需要克服其自身的重力做功。立式运动的结构与平面式运动机构相比就需要有其特殊的限位机构,比如对导轨的底部进行限位,在运动中设置框架结构,使得运动的轨迹实际在平面上运动等。现有技术中虽然对立式运动的结构进行了改进,但是其改进影响到运动中的运动速度和定位精准度,不能达到高速工艺的要求。
发明内容
鉴于上述现有技术存在的缺陷,本发明的目的是提出一种立式运动导轨机构。
作为第一种实施方案,本发明提供了一种立式运动导轨机构,包括上导轨腔和下导轨腔,所述上导轨腔内设有上导轨,所述下导轨腔内设有下导轨,所述上导轨和所述下导轨的两侧边缘呈内凹的梯形,所述上导轨腔和所述下导轨腔设有与之对应的滚柱。
在第一种实施方案的基础上,作为第二种实施方案,所述上导轨与所述下导轨的两侧分别设有两个滚柱。
在第二种实施方案的基础上,作为第三种实施方案,所述滚柱可滑动的内嵌于所述上导轨腔和所述下导轨腔。
在第一种实施方案的基础上,作为第四种实施方案,所述上导轨腔和所述下导轨腔设有对所述上导轨和所述下导轨限位的楔块。
在第三种实施方案的基础上,作为第五种实施方案,所述滚柱抵靠于所述上导轨和所述下导轨的梯形内凹斜面上。
本发明所提供的一种立式运动导轨机构,通过设置滚柱,可以保证立式运动的机械在高速运动的过程中不会发生卡死等现象;而且滚柱设置于导轨的梯形斜面上,通过其余导轨的相互作用力,可以保证对运动中的机械设备处于提升状态。
附图说明
图1是本发明实施例提供的立式运动导轨的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明解决的技术问题、采用的技术方案和产生的有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例对本发明作进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,并不用于限定本发明。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者可能同时存在居中元件。当一个元件被称为时“连接于”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
具体地,如图1所示,本实施例的一种立式运动导轨机构,包括上导轨腔1和下导轨腔3,上导轨腔1内设有上导轨2,下导轨腔3内设有下导轨4,上导轨2和下导轨4的两侧边缘呈内凹的梯形,上导轨腔1和下导轨腔3设有与之对应的滚柱5。滚柱5与梯形的侧面相配合,使得立式运动能够在高速环境下进行。
具体地,在上导轨2与下导轨4的两侧分别设有两个滚柱5。针对上导轨2或者下导轨4分别单独设有四个滚柱5,两侧分别为两个,便于在运行中对导轨进行定位。
具体地,滚柱5可滑动的内嵌于上导轨腔1和下导轨腔3。通过与上导轨腔1和下导轨腔3的定位,从而对上导轨2和下导轨4进行定位。
具体地,在上导轨腔1和下导轨腔3内设有对上导轨2和下导轨4限位的楔块6。楔块6用于限制导轨的运动幅度,使其控制在合理的运动范围之内。
具体地,滚柱5抵靠于上导轨2和下导轨4的梯形内凹斜面上。抵靠的结构使得滚柱5能够对导轨起到支撑的作用,即可以克服机械本身的重力。
以上仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种立式运动导轨机构,包括上导轨腔和下导轨腔,所述上导轨腔内设有上导轨,所述下导轨腔内设有下导轨,其特征在于:所述上导轨和所述下导轨的两侧边缘呈内凹的梯形,所述上导轨腔和所述下导轨腔设有与之对应的滚柱。
2.根据权利要求1所述的一种立式运动导轨机构,其特征在于:所述上导轨与所述下导轨的两侧分别设有两个滚柱。
3.根据权利要求2所述的一种立式运动导轨机构,其特征在于:所述滚柱可滑动的内嵌于所述上导轨腔和所述下导轨腔。
4.根据权利要求1所述的一种立式运动导轨机构,其特征在于:所述上导轨腔和所述下导轨腔设有对所述上导轨和所述下导轨限位的楔块。
5.根据权利要求3所述的一种立式运动导轨机构,其特征在于:所述滚柱抵靠于所述上导轨和所述下导轨的梯形内凹斜面上。
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2015
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |