CN104675840A - 一种晶体吸盘装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种晶体吸盘装置，包括吸盘体、吸孔、导气槽及环形吸槽，其中，上述吸盘体为圆柱体结构，吸孔设置在吸盘体上，并贯穿吸盘体；上述环形槽包括至少二个，各环形槽间隔设置在吸盘体的顶面，并向下凹陷，形成晶体吸附面，以便吸附晶体；上述导气槽设置在吸盘体的顶面，导气槽连接吸孔及环形吸槽，吸孔连接外设的真空发生器及气泵，以便将吸附面上的空气走，形成负压。本发明结构简单，使用方便快捷，吸附稳定牢固。
Description
技术领域
本发明涉及晶体加工领域，特别指一种晶体吸盘装置。
背景技术
晶体片是常用的一种材料，经常用来做眼镜镜片，晶体片在生产加工过程中要进行研磨抛光，研磨抛光之后，需要对晶体片进行倒角，在加工的时候需要对晶体片进行固定，因为晶体片是薄片状结构，一般的工装难以对其进行夹持，而且夹紧力过大的情况会使得晶体片碎裂。
发明内容
本发明要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种结构简单，使用方便快捷，吸附稳定牢固的晶体吸盘装置。
本发明采取的技术方案如下：一种晶体吸盘装置，包括吸盘体、吸孔、导气槽及环形吸槽，其中，上述吸盘体为圆柱体结构，吸孔设置在吸盘体上，并贯穿吸盘体；上述环形槽包括至少二个，各环形槽间隔设置在吸盘体的顶面，并向下凹陷，形成晶体吸附面，以便吸附晶体；上述导气槽设置在吸盘体的顶面，导气槽连接吸孔及环形吸槽，吸孔连接外设的真空发生器及气泵，以便将吸附面上的空气走，形成负压。
优选地，所述的吸孔设置在吸盘体的中央位置，与吸盘体同轴心。
优选地，所述的导气槽由相互垂直的两个长条状槽体交叉形成为十字形槽体，导气槽的交叉点与吸孔重叠，使吸孔与导气槽连通。
优选地，所述的环形吸槽包括至少二个，各环形吸槽沿吸盘体的径向方向，由内而外依此间隔设置，且同圆心。
优选地，所述的导气槽的两个长条状槽体向两侧延伸至外侧的环形槽体内，以便使各环形槽体与吸孔连通。
优选地，所述的吸孔的两端分别延伸至吸盘体的顶面及底面，吸孔的底端设有接气管，接气管的上端与吸孔连接，下端连接有气管，气管连接在外设的真空发生器及气泵。
本发明的有益效果在于：
本发明是针对现有技术的一种改进技术方案，通过设计一种吸盘装置，该吸盘体结构为平面圆盘结构，该结构上表面上依次等间距开有围绕圆盘轴心线的环形吸槽，且圆盘上表面轴心线位置处开有垂直贯穿圆盘上表面的通气孔，且圆盘上表面上开有十字形槽，该十字形槽的交叉点为通气孔，十字形槽位于最大环形槽之内，且与所有环形槽相连通，圆盘上的通气孔连接有真空发生器，发生器与气泵连接，将晶体片放置在圆盘上，在真空发生器的作用下，圆盘上环形槽和十字形槽内的空气被抽空，晶体片被牢牢吸住，该装置使用简单，工作效率高。
附图说明
图1为本发明的立体结构示意图之一。
图2为本发明的立体结构示意图之二。
图3为本发明的俯视图。
图4为图3的主视图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明作进一步描述：
如图1至图4所示，本发明采取的技术方案如下：一种晶体吸盘装置，包括吸盘体1、吸孔2、导气槽3及环形吸槽4，其中，上述吸盘体1为圆柱体结构，吸孔2设置在吸盘体1上，并贯穿吸盘体1；上述环形槽4包括至少二个，各环形槽4间隔设置在吸盘体1的顶面，并向下凹陷，形成晶体吸附面，以便吸附晶体；上述导气槽3设置在吸盘体1的顶面，导气槽3连接吸孔2及环形吸槽4，吸孔2连接外设的真空发生器及气泵，以便将吸附面上的空气走，形成负压。
吸孔2设置在吸盘体1的中央位置，与吸盘体1同轴心。
导气槽3由相互垂直的两个长条状槽体交叉形成为十字形槽体，导气槽3的交叉点与吸孔2重叠，使吸孔2与导气槽3连通。
环形吸槽4包括至少二个，各环形吸槽4沿吸盘体1的径向方向，由内而外依此间隔设置，且同圆心。
导气槽3的两个长条状槽体向两侧延伸至外侧的环形槽体4内，以便使各环形槽体4与吸孔2连通。
吸孔2的两端分别延伸至吸盘体1的顶面及底面，吸孔2的底端设有接气管5，接气管5的上端与吸孔2连接，下端连接有气管，气管连接在外设的真空发生器及气泵。
进一步，本发明通过设计一种吸盘装置，该吸盘体结构为平面圆盘结构，该结构上表面上依次等间距开有围绕圆盘轴心线的环形吸槽，且圆盘上表面轴心线位置处开有垂直贯穿圆盘上表面的通气孔，且圆盘上表面上开有十字形槽，该十字形槽的交叉点为通气孔，十字形槽位于最大环形槽之内，且与所有环形槽相连通，圆盘上的通气孔连接有真空发生器，发生器与气泵连接，将晶体片放置在圆盘上，在真空发生器的作用下，圆盘上环形槽和十字形槽内的空气被抽空，晶体片被牢牢吸住，该装置使用简单，工作效率高。
本发明的实施例只是介绍其具体实施方式，不在于限制其保护范围。本行业的技术人员在本实施例的启发下可以作出某些修改，故凡依照本发明专利范围所做的等效变化或修饰，均属于本发明专利权利要求范围内。
Claims (6)
1.一种晶体吸盘装置，其特征在于：包括吸盘体（1）、吸孔（2）、导气槽（3）及环形吸槽（4），其中，上述吸盘体（1）为圆柱体结构，吸孔（2）设置在吸盘体（1）上，并贯穿吸盘体（1）；上述环形槽（4）包括至少二个，各环形槽（4）间隔设置在吸盘体（1）的顶面，并向下凹陷，形成晶体吸附面，以便吸附晶体；上述导气槽（3）设置在吸盘体（1）的顶面，导气槽（3）连接吸孔（2）及环形吸槽（4），吸孔（2）连接外设的真空发生器及气泵，以便将吸附面上的空气走，形成负压。
2.根据权利要求1所述的一种晶体吸盘装置，其特征在于：所述的吸孔（2）设置在吸盘体（1）的中央位置，与吸盘体（1）同轴心。
3.根据权利要求2所述的一种晶体吸盘装置，其特征在于：所述的导气槽（3）由相互垂直的两个长条状槽体交叉形成为十字形槽体，导气槽（3）的交叉点与吸孔（2）重叠，使吸孔（2）与导气槽（3）连通。
4.根据权利要求3所述的一种晶体吸盘装置，其特征在于：所述的环形吸槽（4）包括至少二个，各环形吸槽（4）沿吸盘体（1）的径向方向，由内而外依此间隔设置，且同圆心。
5.根据权利要求4所述的一种晶体吸盘装置，其特征在于：所述的导气槽（3）的两个长条状槽体向两侧延伸至外侧的环形槽体（4）内，以便使各环形槽体（4）与吸孔（2）连通。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的一种晶体吸盘装置，其特征在于：所述的吸孔（2）的两端分别延伸至吸盘体（1）的顶面及底面，吸孔（2）的底端设有接气管（5），接气管（5）的上端与吸孔（2）连接，下端连接有气管，气管连接在外设的真空发生器及气泵。
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