CN104675840A - 一种晶体吸盘装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种晶体吸盘装置,包括吸盘体、吸孔、导气槽及环形吸槽,其中,上述吸盘体为圆柱体结构,吸孔设置在吸盘体上,并贯穿吸盘体;上述环形槽包括至少二个,各环形槽间隔设置在吸盘体的顶面,并向下凹陷,形成晶体吸附面,以便吸附晶体;上述导气槽设置在吸盘体的顶面,导气槽连接吸孔及环形吸槽,吸孔连接外设的真空发生器及气泵,以便将吸附面上的空气走,形成负压。本发明结构简单,使用方便快捷,吸附稳定牢固。
Description
技术领域
本发明涉及晶体加工领域,特别指一种晶体吸盘装置。
背景技术
晶体片是常用的一种材料,经常用来做眼镜镜片,晶体片在生产加工过程中要进行研磨抛光,研磨抛光之后,需要对晶体片进行倒角,在加工的时候需要对晶体片进行固定,因为晶体片是薄片状结构,一般的工装难以对其进行夹持,而且夹紧力过大的情况会使得晶体片碎裂。
发明内容
本发明要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足,提供一种结构简单,使用方便快捷,吸附稳定牢固的晶体吸盘装置。
本发明采取的技术方案如下:一种晶体吸盘装置,包括吸盘体、吸孔、导气槽及环形吸槽,其中,上述吸盘体为圆柱体结构,吸孔设置在吸盘体上,并贯穿吸盘体;上述环形槽包括至少二个,各环形槽间隔设置在吸盘体的顶面,并向下凹陷,形成晶体吸附面,以便吸附晶体;上述导气槽设置在吸盘体的顶面,导气槽连接吸孔及环形吸槽,吸孔连接外设的真空发生器及气泵,以便将吸附面上的空气走,形成负压。
优选地,所述的吸孔设置在吸盘体的中央位置,与吸盘体同轴心。
优选地,所述的导气槽由相互垂直的两个长条状槽体交叉形成为十字形槽体,导气槽的交叉点与吸孔重叠,使吸孔与导气槽连通。
优选地,所述的环形吸槽包括至少二个,各环形吸槽沿吸盘体的径向方向,由内而外依此间隔设置,且同圆心。
优选地,所述的导气槽的两个长条状槽体向两侧延伸至外侧的环形槽体内,以便使各环形槽体与吸孔连通。
优选地,所述的吸孔的两端分别延伸至吸盘体的顶面及底面,吸孔的底端设有接气管,接气管的上端与吸孔连接,下端连接有气管,气管连接在外设的真空发生器及气泵。
本发明的有益效果在于:
本发明是针对现有技术的一种改进技术方案,通过设计一种吸盘装置,该吸盘体结构为平面圆盘结构,该结构上表面上依次等间距开有围绕圆盘轴心线的环形吸槽,且圆盘上表面轴心线位置处开有垂直贯穿圆盘上表面的通气孔,且圆盘上表面上开有十字形槽,该十字形槽的交叉点为通气孔,十字形槽位于最大环形槽之内,且与所有环形槽相连通,圆盘上的通气孔连接有真空发生器,发生器与气泵连接,将晶体片放置在圆盘上,在真空发生器的作用下,圆盘上环形槽和十字形槽内的空气被抽空,晶体片被牢牢吸住,该装置使用简单,工作效率高。
附图说明
图1为本发明的立体结构示意图之一。
图2为本发明的立体结构示意图之二。
图3为本发明的俯视图。
图4为图3的主视图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明作进一步描述:
如图1至图4所示,本发明采取的技术方案如下:一种晶体吸盘装置,包括吸盘体1、吸孔2、导气槽3及环形吸槽4,其中,上述吸盘体1为圆柱体结构,吸孔2设置在吸盘体1上,并贯穿吸盘体1;上述环形槽4包括至少二个,各环形槽4间隔设置在吸盘体1的顶面,并向下凹陷,形成晶体吸附面,以便吸附晶体;上述导气槽3设置在吸盘体1的顶面,导气槽3连接吸孔2及环形吸槽4,吸孔2连接外设的真空发生器及气泵,以便将吸附面上的空气走,形成负压。
吸孔2设置在吸盘体1的中央位置,与吸盘体1同轴心。
导气槽3由相互垂直的两个长条状槽体交叉形成为十字形槽体,导气槽3的交叉点与吸孔2重叠,使吸孔2与导气槽3连通。
环形吸槽4包括至少二个,各环形吸槽4沿吸盘体1的径向方向,由内而外依此间隔设置,且同圆心。
导气槽3的两个长条状槽体向两侧延伸至外侧的环形槽体4内,以便使各环形槽体4与吸孔2连通。
吸孔2的两端分别延伸至吸盘体1的顶面及底面,吸孔2的底端设有接气管5,接气管5的上端与吸孔2连接,下端连接有气管,气管连接在外设的真空发生器及气泵。
进一步,本发明通过设计一种吸盘装置,该吸盘体结构为平面圆盘结构,该结构上表面上依次等间距开有围绕圆盘轴心线的环形吸槽,且圆盘上表面轴心线位置处开有垂直贯穿圆盘上表面的通气孔,且圆盘上表面上开有十字形槽,该十字形槽的交叉点为通气孔,十字形槽位于最大环形槽之内,且与所有环形槽相连通,圆盘上的通气孔连接有真空发生器,发生器与气泵连接,将晶体片放置在圆盘上,在真空发生器的作用下,圆盘上环形槽和十字形槽内的空气被抽空,晶体片被牢牢吸住,该装置使用简单,工作效率高。
本发明的实施例只是介绍其具体实施方式,不在于限制其保护范围。本行业的技术人员在本实施例的启发下可以作出某些修改,故凡依照本发明专利范围所做的等效变化或修饰,均属于本发明专利权利要求范围内。
Claims (6)
1.一种晶体吸盘装置,其特征在于:包括吸盘体(1)、吸孔(2)、导气槽(3)及环形吸槽(4),其中,上述吸盘体(1)为圆柱体结构,吸孔(2)设置在吸盘体(1)上,并贯穿吸盘体(1);上述环形槽(4)包括至少二个,各环形槽(4)间隔设置在吸盘体(1)的顶面,并向下凹陷,形成晶体吸附面,以便吸附晶体;上述导气槽(3)设置在吸盘体(1)的顶面,导气槽(3)连接吸孔(2)及环形吸槽(4),吸孔(2)连接外设的真空发生器及气泵,以便将吸附面上的空气走,形成负压。
2.根据权利要求1所述的一种晶体吸盘装置,其特征在于:所述的吸孔(2)设置在吸盘体(1)的中央位置,与吸盘体(1)同轴心。
3.根据权利要求2所述的一种晶体吸盘装置,其特征在于:所述的导气槽(3)由相互垂直的两个长条状槽体交叉形成为十字形槽体,导气槽(3)的交叉点与吸孔(2)重叠,使吸孔(2)与导气槽(3)连通。
4.根据权利要求3所述的一种晶体吸盘装置,其特征在于:所述的环形吸槽(4)包括至少二个,各环形吸槽(4)沿吸盘体(1)的径向方向,由内而外依此间隔设置,且同圆心。
5.根据权利要求4所述的一种晶体吸盘装置,其特征在于:所述的导气槽(3)的两个长条状槽体向两侧延伸至外侧的环形槽体(4)内,以便使各环形槽体(4)与吸孔(2)连通。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的一种晶体吸盘装置,其特征在于:所述的吸孔(2)的两端分别延伸至吸盘体(1)的顶面及底面,吸孔(2)的底端设有接气管(5),接气管(5)的上端与吸孔(2)连接,下端连接有气管,气管连接在外设的真空发生器及气泵。
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