CN104640653A - 金属微粒的制造方法 - Google Patents
金属微粒的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104640653A CN104640653A CN201280075760.8A CN201280075760A CN104640653A CN 104640653 A CN104640653 A CN 104640653A CN 201280075760 A CN201280075760 A CN 201280075760A CN 104640653 A CN104640653 A CN 104640653A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- fluid
- mentioned
- water
- metal
- polyol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
- B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
- B22F9/24—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from liquid metal compounds, e.g. solutions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F27/00—Mixers with rotary stirring devices in fixed receptacles; Kneaders
- B01F27/27—Mixers with stator-rotor systems, e.g. with intermeshing teeth or cylinders or having orifices
- B01F27/271—Mixers with stator-rotor systems, e.g. with intermeshing teeth or cylinders or having orifices with means for moving the materials to be mixed radially between the surfaces of the rotor and the stator
- B01F27/2712—Mixers with stator-rotor systems, e.g. with intermeshing teeth or cylinders or having orifices with means for moving the materials to be mixed radially between the surfaces of the rotor and the stator provided with ribs, ridges or grooves on one surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/18—Stationary reactors having moving elements inside
- B01J19/1887—Stationary reactors having moving elements inside forming a thin film
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/03—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C28/00—Alloys based on a metal not provided for in groups C22C5/00 - C22C27/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C5/00—Alloys based on noble metals
- C22C5/06—Alloys based on silver
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00186—Controlling or regulating processes controlling the composition of the reactive mixture
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2999/00—Aspects linked to processes or compositions used in powder metallurgy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
本发明的课题在于提供控制了粒径及其变动系数的金属微粒的制造方法。使用含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和含有至少1种还原剂的流体的至少2种被处理流动体,将上述的被处理流动体在对向配设的、可接近·分离的至少一方相对于另一方相对地进行旋转的至少2个处理用面间形成的薄膜流体中进行混合,使金属微粒析出。此时,含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和含有至少1种还原剂的流体的至少任一方的被处理流动体含有使水和多元醇混合了的含水多元醇,且不含有一元醇,通过控制含水多元醇中所含的水的比率,控制析出的金属微粒的粒径及其变动系数。
Description
技术领域
本发明涉及金属微粒的制造方法。
背景技术
近年来,在催化剂、导电性材料、磁性材料、二次电子放出材料、发光体、吸热体、能量贮藏材料、电极材料、色料等宽广的领域中谋求金属微粒,需要具有与使用目的相应的粒径的各种金属微粒。金属微粒的制造方法大致区分为气相法和液相法。在气相法中,一般为向高温氛围中喷雾含有金属离子的溶液而进行热分解的方法等,但存在不仅难以得到均匀的粒径、微晶直径的粒子、而且装置也容易变大、能量成本升高等的问题,现状为:液相法成为主流。
如专利文献1那样,在实质上仅使用水作为溶剂的液相法的情况下,存在粒径的控制等困难、处方等变得复杂的问题。因此,专利文献2或3中所记载的那样的、在溶剂中使用了多元醇(polyol)的多元醇还原法,从改善粒径的均匀性、分散性的观点出发,受到关注。但是,多元醇还原法存在需要在高温下长时间的还原反应、由于一样的还原反应困难而因此实际上难以控制粒径等的问题。另外,也具有通过如在专利文献4、5中所记载的那样的多元醇中含有另外的还原剂来制作更均匀的粒子的方法。但是,在上述全部的方法中,为了进行均匀的还原反应,需要一定的反应时间。因此,不得不采用使用了反应用的罐等的间歇式的还原方法,难以确保反应中的温度、浓度等的均匀性困难。因此,谋求可以连续地生产均匀的粒径的金属微粒的方法。而且,在使用多元醇作为溶剂的情况下,对作为金属微粒的原料的金属化合物向多元醇的溶解度低,因此存在有时溶解了金属化合物的多元醇溶液的调整中需要长时间、从一次制备了的金属化合物的多元醇溶液中金属化合物随着时间而析出等、难以稳定地生产金属微粒的课题。而且,在专利文献5中提案有使用碳数4以下的一元醇和多元醇的混合溶剂的方法,但由于在将具有闪点低的一元醇的溶剂加热了的状态下反应一定时间,因此不仅反应的控制困难,而且从安全性的观点出发也存在课题。从以上的情况出发,恳求可以连续且稳定地制造均匀且均质的金属微粒的方法。
由本申请申请人提供如专利文献6那样的连续且稳定地制造均匀且均质的金属微粒的方法,但对于控制得到的金属微粒的粒径或其变动系数的方法,具体而言没有公开。特别是,在专利文献6的说明书第[0153]段落中,有“作为上述溶剂,只要是可以溶解上述金属化合物的溶剂,就没有特别限定,可以列举例如水、有机溶剂等”,或从“上述金属化合物的溶解性方面出发,优选水、醇以及水和醇的混合溶液”的记载,但没有通过使用水和醇的混合溶液作为溶剂、控制水和醇的混合溶液中的水的比率来控制得到的金属微粒的粒径或其变动系数的意向的记载。
另外,在专利文献5中提案有使用碳数4以下的一元醇和多元醇的混合溶剂与水的混合液的方法,记载有通过控制混合溶剂和水的混合比率来控制进行析出的金属粉末的粒径,但没有将进行析出的金属粉末的粒径的变动系数控制在小于5%的意向的记载。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平11-302709号公报
专利文献2:日本特开昭59-173206号公报
专利文献3:国际公开WO2006/062186号小册子
专利文献4:日本特开2009-24254号公报
专利文献5:日本特开2003-27115号公报
专利文献6:国际公开WO2009/008390号小册子
发明内容
发明要解决的课题
本发明鉴于该情况,提供一种至今以上连续且稳定地制造均匀且均质的金属微粒的方法,其目的在于,制造控制得到的金属微粒的粒径及其变动系数、控制有粒径及其变动系数的金属微粒。更优选的是,谋求提供一种控制得到的金属微粒的粒径及其变动系数、且使生产率提高了的金属微粒的制造方法。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题,本发明提供以下的金属微粒的制造方法:其特征在于,使用至少2种被处理流动体,其中至少1种被处理流动体为含有至少1种金属及/或金属化合物的流体,在上述以外的被处理流动体中至少1种被处理流动体为含有至少1种还原剂的流体,将上述的被处理流动体在对向配设了的、可接近·分离的、至少一方相对于另一方相对地进行旋转的至少2个处理用面间形成的薄膜流体中进行混合,使金属微粒析出,上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体的至少任一方的被处理流动体含有使水和多元醇混合了的含水多元醇,且不含有一元醇,通过控制上述含水多元醇中所含的水的比率,控制析出的金属微粒的粒径及其变动系数。
另外,本发明可以作为如下来实施:通过将上述含水多元醇中所含的水的比率控制在5wt%~60wt%的范围,将上述变动系数控制在小于5%。
另外,本发明可以作为如下来实施:上述多元醇为选自乙二醇、丙二醇、1,3-丙二醇、四甘醇、聚乙二醇、二甘醇、甘油、聚丙二醇中的至少任一种。
另外,本发明可以作为如下来实施:上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体的任一方的被处理流动体含有上述含水多元醇,且不含有一元醇;可以作为如下来实施:上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体含有上述含水多元醇,且不含有一元醇。
另外,本发明可以作为如下来实施:上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体这两者的被处理流动体含有上述含水多元醇,且不含有一元醇。
另外,本发明可以作为如下发明实施:上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体中的任一方的被处理流动体一边形成上述薄膜流体,一边通过上述两处理用面间,具备与上述任一方的被处理流动体流过的流路独立的另外的导入路,具备至少一个在上述至少2个处理用面的至少任一方中与上述另外的导入路相通的开口部,将上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体中的任意另一方的被处理流动体从上述开口部导入上述至少2个处理用面之间,将上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体在上述薄膜流体中进行混合。
另外,本发明可以作为如下来实施:上述金属和/或金属化合物为选自镍、银、镍化合物、银化合物中的至少任一种,上述还原剂为用于使选自镍、银中的至少任一种析出的还原剂。
另外,本发明可以作为如下来实施:上述至少1种金属化合物为镍化合物,上述至少1种还原剂为用于使镍析出的还原剂,上述析出的镍微粒的粒径的平均值为350nm以下。
如果示出上述本发明的实施方式的一个例子,可以作为以下的金属微粒的制造方法来实施:具备对被处理流动体赋予压力的流体压力赋予机构、具备上述至少2个处理用面中第1处理用面的第1处理用部和具备上述至少2个处理用面中第2处理用面的第2处理用部,具备使这些处理用部相对进行旋转的旋转驱动机构,上述的各处理用面构成上述被赋予了压力的被处理流动体流过的、被密封了的流路的一部分,上述第1处理用部和第2处理用部中,至少第2处理用部具备受压面,并且该受压面的至少一部分由上述第2处理用面构成,该受压面承受上述的流体压力赋予机构对被处理流动体赋予的压力而产生在使第2处理用面向从第1处理用面分离的方向上移动的力,在对向配设了的、可以接近·分离的、至少一方相对于另一方相对进行旋转的第1处理用面和第2处理用面之间上述的被赋予了压力的被处理流动体通过,由此上述被处理流动体形成上述薄膜流体,在该薄膜流体中使金属微粒析出。
发明的效果
本发明发现:在将含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和含有至少1种还原剂的流体在对向配设了的、可接近·分离的至少一方相对于另一方相对地进行旋转的至少2个处理用面之间形成的薄膜流体中进行混合、使金属微粒析出,在含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和含有至少1种还原剂的流体的至少任一方的流体中含有使水和多元醇混合了的含水多元醇,且不含有一元醇,控制含水多元醇中的水的比率,由此控制析出的金属微粒的粒径及其变动系数,发现:通过将含水多元醇中的水的比率控制在5wt%~60wt%的范围,可以使其变动系数为小于5%。另外,通过在含有至少1种金属及/或金属化合物的流体中含有含水多元醇、提高含水多元醇中的水的比率,可以增加每单位时间的金属微粒的产量,可以进行在以往的制造方法中困难的、控制了粒径的金属微粒的连续且稳定的大量生产。而且,通过控制含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和含有至少1种还原剂的流体的至少任一方中所含的含水多元醇中的水的比率,也可以降低使金属微粒析出时的反应温度,可以在一直以来以上地以低成本、低能量控制不同的粒径的金属微粒而制作,可以廉价且稳定地提供金属微粒,此外可以提供分散性良好的金属微粒。
附图说明
图1是本申请发明的实施方式涉及的流体处理装置的大致剖面图。
图2(A)是图1中所示的流体处理装置的第1处理用面的大致平面图,(B)是同装置的处理用面的主要部分放大图。
图3(A)是同装置的第2导入部的剖面图,(B)是用于说明同第2导入部的处理用面的主要部分放大图。
图4是在试样4中制作的镍微粒的SEM照片。
图5是在试样11中制作的银微粒的TEM照片。
图6是在试样16中制作的银粒子的TEM照片。
图7是示出在试样1~7中相对于第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(平均值)及粒径的变动系数(C.V.)的变化的坐标图。
图8是示出在试样8~16中相对于在第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的银微粒的粒径(平均值)及粒径的变动系数(C.V.)的变化的坐标图。
图9是示出在试样18~24中相对于在第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(平均值)及粒径的变动系数(C.V.)的变化的坐标图。
图10是示出在试样25~30中相对于在第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(平均值)及粒径的变动系数(C.V.)的变化的坐标图。
图11是示出在试样32~36中相对于在第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(平均值)及粒径的变动系数(C.V.)的变化的坐标图。
图12是示出在试样37、38、35、39中相对于在第2流体中使用的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(平均值)及粒径的变动系数(C.V.)的变化的坐标图。
图13是示出在试样40~45中相对于在第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(平均值)及粒径的变动系数(C.V.)的变化的坐标图。
具体实施方式
以下,基于附图,举出本发明的实施方式的一例来具体地进行说明。
(金属)
本申请发明中的金属,没有特别限定。为化学周期表上的所有的金属。作为一例,可列举Ti、Fe、W、Pt、Au、Cu、Ag、Pd、Ni、Mn、Co、Ru、V、Zn、Zr、Sn、In、Te、Ta、Bi、Sb等的金属元素。对于这些金属,可以为单质元素的金属,也可以为含有多种元素的合金、在金属元素中含有非金属元素的物质。当然,也可以形成贱金属和贵金属的合金来实施。
(金属化合物)
作为本发明中的金属化合物,没有特别限定。作为一例,可列举金属的盐、氧化物、氢氧化物、氢氧化氧化物、氮化物、碳化物、络合物、有机盐、有机络合物、有机化合物或它们的水合物、有机溶剂合物等。作为金属的盐,没有特别限定,可列举金属的硝酸盐或亚硝酸盐、硫酸盐或亚硫酸盐、甲酸盐或乙酸盐、磷酸盐或亚磷酸盐、次磷酸盐、氯化物、含氧盐或乙酰丙酮化物或它们的水合物、有机溶剂合物等。这些金属化合物可以分别单独使用,也可以形成多种的混合物来使用。
(还原剂)
作为本发明中使用的还原剂,为能够还原金属和/或金属化合物、优选金属离子的物质,没有特别限定,可以举出肼或肼一水合物、甲醛化次硫酸钠、氢化硼金属盐、氢化铝金属盐、氢化三乙基硼金属盐、葡萄糖、柠檬酸、抗坏血酸、鞣酸、二甲基甲酰胺、四丁基硼氢化铵、次膦酸钠(NaH2PO2)、金属的化合物或者它们的离子,优选过渡金属的化合物或它们的离子(铁、钛等)等。上述的还原剂中,可以各自单独使用,也可以作为多种以上的混合物来使用。
在本发明中,使用含有至少1种金属及/或金属化合物的流体,优选将至少1种上述的金属和/或金属化合物与溶剂混合、进行溶解或分子分散而使用。
另外,在本发明中,使用含有至少1种还原剂的流体,优选将至少1种上述的还原剂与溶剂混合、进行溶解或分子分散而使用。
而且,含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和含有至少1种还原剂的流体的至少任一方的流体含有后述的含水多元醇,且不含有甲醇或乙醇等一元醇,优选在含有至少1种金属及/或金属化合物的流体中使用的溶剂和在含有至少1种还原剂的流体中使用的溶剂的至少任一方的溶剂中使用该含水多元醇。
(含水多元醇)
本发明中使用的含水多元醇是使水和多元醇混合了的。作为水,没有特别限定,可列举离子交换水、RO水、纯水、超纯水等。另外,多元醇为2元以上的醇,可列举:乙二醇、丙二醇、1,3-丙二醇、四甘醇、或者二甘醇、甘油、聚乙二醇、聚丙二醇等。
在本发明中,通过控制含水多元醇中所含的水的比率,可以控制得到的金属微粒的粒径及其变动系数。可以根据作为对象的金属种类、目标粒径等而调整其比率来实施。
所谓粒径的变动系数,为表示得到的金属微粒的均匀度的程度的指标,由金属微粒的粒径分布中的平均粒径和标准偏差、用变动系数(C.V.)(%)=标准偏差÷平均粒径×100的式子而求出。该变动系数的值越小,得到的金属微粒的粒径的分布越窄,作为金属微粒的均匀性越高。另外,由于该变动系数的值越大作为金属微粒的均匀性越低,因此例如为了在工业上使用,有时发生以下等的问题:需要通过分级操作而除去需要的尺寸的粒径的金属微粒以外。
多元醇还原法中的还原力,一般而言依赖于进行还原时的温度、金属盐的种类、多元醇的种类等。在本发明中,本申请申请人认为:通过与还原温度、金属盐的种类、多元醇的种类引起的还原力的控制一起来控制含水多元醇中所含的水的比率,可以控制进行制作的金属微粒的粒径及其变动系数。在此,多元醇还原法是指:除多元醇引起的金属离子的还原之外、也包含并用多元醇和另外的还原剂的金属离子的还原。
在本发明中,得到的金属微粒的粒径的控制,优选以通过提高含水多元醇中的水的比率而粒径变大地进行控制、以通过降低含水多元醇中的水的比率而粒径变小地进行控制。另外,在本发明中,得到的金属微粒的粒径的变动系数的控制优选,通过将含水多元醇中的水的比率控制在5wt%~60wt%的范围而将粒径的变动系数控制为小于5%。
而且,优选将至少1种金属及/或金属化合物溶解于含水多元醇而形成含有至少1种金属及/或金属化合物的流体。一般而言,仅将多元醇作为溶剂而使用的情况与仅将水作为溶剂来使用的情况相比,金属和/或金属化合物的溶解度低。通过将含水多元醇在溶剂中使用,与仅将多元醇作为溶剂而使用的情况相比,可以提高含有至少1种金属及/或金属化合物的流体中的金属和/或金属化合物的浓度,特别是在使用如后述的流体处理装置那样的可连续生产的装置的情况下,可以飞跃地提高其生产量以及生产效率。
(金属微粒的析出)
在本发明中,优选将含水多元醇中的水的比率控制在5wt%~60wt%的范围,更优选控制在10wt%~55wt%的范围。可以将得到的金属微粒的粒径的变动系数控制在小于5%。含水多元醇中的水的比率超过5wt%~60wt%的范围时,得到的金属微粒的粒径的变动系数成为5%以上。作为主要原因,本申请申请人认为是因为:含水多元醇中的水和多元醇的混合比率与多元醇的还原能对金属微粒的粒径的变动系数产生影响。
另外,具有可以通过混合水而降低作为多元醇的易燃性液体的危险性的优点,在含水多元醇中的水的比率超过40wt%的情况下,具有可以为危险物的适用的对象外的优点。
(其它溶剂)
在本发明中使用的含水多元醇以外的溶剂没有特别限定,可以使用各种溶剂。作为含水多元醇以外的溶剂,没有特别限定,可列举上述的含水多元醇中使用的水、多元醇、如甲醇、乙醇这样的醇系有机溶剂、如丙酮、甲基乙基酮这样的酮系有机溶剂、如乙酸乙酯、乙酸丁酯这样的酯系有机溶剂、二甲基醚、二丁基醚等的醚系有机溶剂、苯、甲苯、二甲苯等的芳香族系有机溶剂、己烷、戊烷等的脂肪族烃系有机溶剂等。另外,作为含水多元醇以外的溶剂,可以使用后述的酸性物质。上述的溶剂可以分别单独使用,也可以将多种混合而使用。
另外,在本发明中,在含水多元醇中,可以以对本发明没有影响的程度使用水和多元醇以外的溶剂,另外,也可以不使用。作为水和多元醇以外的溶剂,可列举如丙酮、甲基乙基酮这样的酮系有机溶剂、乙酸乙酯、乙酸丁酯这样的酯系有机溶剂、二甲基醚、二丁基醚等的醚系有机溶剂、苯、甲苯、二甲苯等的芳香族系有机溶剂、己烷、戊烷等的脂肪族烃系有机溶剂等。上述的溶剂可以分别单独使用,也可以将多种混合而使用。
另外,在将上述的醇系有机溶剂、多元醇作为溶剂来使用的情况下,具有溶剂本身作为还原剂也起作用的优点。
但是,在简单地实行本发明的控制方面,在被处理流动体中不含有一元醇是有利的。
另外,可以在含水多元醇或含水多元醇以外的溶剂中将碱性物质或酸性物质进行混合或溶解而使用。作为碱性物质,可列举氢氧化钠、氢氧化钾等的金属氢氧化物、如甲醇钠或异丙醇钠那样的金属醇盐、进而三乙基胺、2-二乙基氨基乙醇、二乙基胺等的胺系化合物等。作为酸性物质,可列举王水、盐酸、硝酸、发烟硝酸、硫酸、发烟硫酸等的无机酸、甲酸、乙酸、氯乙酸、二氯乙酸、草酸、三氟乙酸、三氯乙酸等的有机酸。
(流体处理装置)
在本申请发明中,优选使用将含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和含有至少1种还原剂的流体在对向配设了的、可接近·分离的、至少一方相对于另一方进行旋转的至少2个处理用面之间形成的薄膜流体中进行混合的方法来进行,例如,优选使用与专利文献6中所示的装置同样的原理的装置而进行混合来由此使金属微粒析出。
以下使用附图对上述流体处理装置的实施方式进行说明。
图1~图3中所示的流体处理装置,为如下的装置:在可接近·分离的至少一方相对于另一方相对地进行旋转的处理用部中的处理用面之间处理被处理物,且将被处理流动体中的作为第1被处理流动体的第1流体导入处理用面间,从与导入了上述第1流体的流路独立、具备与处理用面间相通的开口部的其它的流路将被处理流动体中的作为第2被处理流动体的第2流体导入处理用面间,在处理用面间将上述第1流体和第2流体进行混合·搅拌来进行处理。需要说明的是,在图1中,U表示上方,S表示下方,在本发明中,上下前后左右仅限于表示相对的位置关系,并不限定绝对的位置。在图2(A)、图3(B)中,R表示旋转方向。在图3(B)中C表示离心力方向(半径方向)。
该装置为如下装置:作为被处理流动体使用至少2种流体,对于其中至少1种流体含有至少1种被处理物,具备可接近·分离地相互对向配设的至少一方相对于另一方进行旋转的处理用面,在这些处理用面之间使上述的各流体进行合流而形成薄膜流体,在该薄膜流体中处理上述的被处理物。该装置,如上所述,可以处理多种被处理流动体,但也可以处理单一的被处理流动体。
该流体处理装置具备对向的第1及第2的2个处理用部10、20,至少一方的处理用部进行旋转。两处理用部10、20的对向的面分别成为处理用面。第1处理用部10具备第1处理用面1,第2处理用部20具备第2处理用面2。
两处理用面1、2与被处理流动体的流路连接,构成被处理流动体的流路的一部分。该两处理用面1、2间的间隔可以适宜变更而实施,通常调整为1mm以下,例如0.1μm~50μm左右的微小间隔。由此,通过该两处理用面1、2间的被处理流动体,成为由两处理用面1、2所强制的强制薄膜流体。
在使用该装置处理多个被处理流动体的情况下,该装置与第1被处理流动体的流路连接,形成该第1被处理流动体的流路的一部分,同时,形成与第1被处理流动体不同的第2被处理流动体的流路的一部分。而且,该装置进行如下流体的处理:使两流路合流,在处理用面1、2间,混合两被处理流动体,使其反应等。需要说明的是,在此,“处理”并不限于被处理物反应的方式,也包含不伴随反应而仅进行混合·分散的方式。
具体地进行说明时,具备:保持上述第1处理用部10的第1托架11、保持第2处理用部20的第2托架21、接面压力赋予机构、旋转驱动机构、第1导入部d1、第2导入部d2和流体压力赋予机构p。
如图2(A)所示,在该实施方式中,第1处理用部10为环状体,更详细而言,其为圈状的圆盘。另外,第2处理用部20也为环状的圈状的圆盘。第1、第2处理用部10、20的材质除金属之外,可以采用对陶瓷或烧结金属、耐磨耗钢、蓝宝石、其它金属实施有固化处理的材料或将硬质材料实施有加衬或涂覆、镀敷等的材料。在该实施方式中,两处理用部10、20,相互对向的第1、第2处理用面1、2的至少一部分被行镜面研磨。
该镜面研磨的面粗糙度没有特别限定,优选设为Ra0.01~1.0μm,更优选为Ra0.03~0.3μm。
至少一方的托架可以用电动机等旋转驱动机构(无图示)相对于另一方的托架相对地进行旋转。图1的50表示旋转驱动机构的旋转轴,在该例中,该旋转轴50上所安装的第1托架11进行旋转,该第1托架11上所支承的第1处理用部10相对于第2处理用部20进行旋转。当然,可以使第2处理用部20旋转,也可以使两者旋转。另外,在该例中,将第1、第2托架11、21,使第1、第2处理用部10、20相对于该第1、第2托架11、21旋转也是可以的。
所谓第1处理用部10和第2处理用部20,至少任一方可与至少任意另一方接近·分离,两处理用面1、2可接近·分离。
在该实施方式中,第2处理用部20相对于第1处理用部10接近·分离,在设置于第2托架21的收容部41中可以可出没地收容第2处理用部20。但是,相反地,可以第1处理用部10可相对于第2处理用部20接近·分离,也可以两处理用部10、20相互接近·分离。
该收容部41为第2处理用部20的主要收容与处理用面2侧相反侧的部位的凹部,从平面看,其为呈现圆的即形成为环状的槽。该收容部41具有可以可使第2处理用部20旋转的充分的间隙,收容第2处理用部20。需要说明的是,第2处理用部20以在轴方向可以仅进行平行移动的方式配置,通过增大上述间隙,第2处理用部20也可以以消除与上述收容部41的轴方向平行的关系的方式使处理用部20的中心线相对于收容部41倾斜而位移,进而,可以以第2处理用部20的中心线和收容部41的中心线在半径方向偏离的方式进行位移。
这样,优选通过3维且可以位移地保持的浮动机构来保持第2处理用部20。
上述的被处理流动体,在通过由各种泵、位置能量等构成的流体压力赋予机构p赋予压力的状态下,从成为流体流过的流路的第1导入部d1和第2导入部d2导入两处理用面1、2间。在该实施方式中,第1导入部d1为设置在环状的第2托架21的中央的流体的通路,其一端从环状的两处理用部10、20的内侧被导入两处理用面1、2间。第2导入部d2向处理用面1、2供给第1被处理流动体和进行反应的第2被处理流动体。在该实施方式中,第2导入部d2为设置于第2处理用部20的内部的流体的通路,其一端在第2处理用面2上开口。通过流体压力赋予机构p所加压的第1被处理流动体从第1导入部d1被导入两处理用部10、20的内侧的空间,通过第1处理用面1和第2处理用面2之间,在两处理用部10、20的外侧穿过。在这些处理用面1、2间,从第2导入部d2供给通过流体压力赋予机构p所加压的第2被处理流动体,与第1被处理流动体合流,进行混合、搅拌、乳化、分散、反应、晶出、晶析、析出等的各种流体处理,从两处理用面1、2排出至两处理用部10、20的外侧。需要说明的是,也可以通过减压泵使两处理用部10、20的外侧的环境为负压。
上述的接面压力赋予机构将作用于使第1处理用面1和第2处理用面2接近的方向的力赋予处理用部。在该实施方式中,接面压力赋予机构设置在第2托架21上,将第2处理用部20向第1处理用部10赋能。
上述的接面压力赋予机构,为用于产生第1处理用部10的第1处理用面1和第2处理用部20的第2处理用面2压在进行接近的方向的挤压力(以下称为接面压力)的机构。通过该接面压力与流体压力等的使两处理用面1、2间分离的力的均衡,产生具有nm单位至μm单位的微小的膜厚的薄膜流体。换言之,通过上述力的均衡,将两处理用面1、2间的间隔保持在规定的微小间隔。
在图1中所示的实施方式中,接面压力赋予机构配位于上述收容部41和第2处理用部20之间。具体而言,由向将第2处理用部20靠近于第1处理用部10的方向赋能的弹簧43和导入空气、油等赋能用流体的赋能用流体的导入部44构成,通过弹簧43和上述赋能用流体的流体压力赋予上述接面压力。该弹簧43和上述赋能用流体的流体压力赋予任一方即可,可以为磁力或重力等其它的力。抵抗该接面压力赋予机构的赋能,由于通过流体压力赋予机构p所加压的被处理流动体的压力、粘性等产生的分离力,第2处理用部20远离第1处理用部10,在两处理用面间打开微小的间隔。这样,利用该接面压力和分离力的平衡,以μm单位的精度设定第1处理用面1和第2处理用面2,进行两处理用面1、2间的微小间隔的设定。作为上述分离力,可以举出被处理流动体的流体压或粘性和处理用部的旋转形成的离心力、对赋能用流体导入部44施加负压时的该负压、将弹簧43制成抗张弹簧时的弹簧的力等。该接面压力赋予机构不是第2处理用部20,可以设置于第1处理用部10,也可以设置于两者。
对上述的分离力具体进行说明时,第2处理用部20与上述第2处理用面2一起具备位于第2处理用面2的内侧(即,被处理流动体向第1处理用面1和第2处理用面2之间的进入口侧)而与该第2处理用面2邻接的分离用调整面23。在该例中,分离用调整面23作为倾斜面被实施,但也可以为水平面。被处理流动体的压力作用于分离用调整面23,产生使第2处理用部20从第1处理用部10分离的方向的力。因此,用于产生分离力的受压面成为第2处理用面2和分离用调整面23。
进而,在该图1的例中,在第2处理用部20中形成有近接用调整面24。该近接用调整面24,为与分离用调整面23在轴方向上相反侧的面(在图1中为上方的面),被处理流动体的压力发生作用,产生使第2处理用部20向第1处理用部10接近的方向的力。
需要说明的是,作用于第2处理用面2及分离用调整面23的被处理流动体的压力、即流体压,可理解为构成机械密封中的开启力的力。投影于与处理用面1、2的接近·分离的方向、即第2处理用部20的出没方向(在图1中为轴方向)正交的假想平面上的近接用调整面24的投影面积A1和投影于该假想平面上的第2处理用部20的第2处理用面2及分离用调整面23的投影面积的合计面积A2的面积比A1/A2被称为平衡比K,上述开启力的调整上是重要的。对该开启力而言,可以通过变更上述平衡线、即近接用调整面24的面积A1,通过被处理流动体的压力、即流体压进行调整。
滑动面的实面压P、即接面压力中的流体压产生的压力用下式进行计算。
P=P1×(K-k)+Ps
在此,P1表示被处理流动体的压力即流体压,K表示上述的平衡比,k表示开启力系数,Ps表示弹簧及背压力。
通过利用该平衡线的调整调整滑动面的实面压P而使处理用面1、2间为所期望的微小间隙量,形成被处理流动体产生的流动体膜,将产物等被处理了的被处理物制成微细,另外,进行均匀的反应处理。
需要说明的是,省略图示,也可以将近接用调整面24形成具有比分离用调整面23还大的面积的面进行实施。
被处理流动体成为通过保持上述的微小的间隙的两处理用面1、2而被强制了的薄膜流体,要移动至环状的两处理用面1、2的外侧。但是,由于第1处理用部10旋转,因此,所混合的被处理流动体不会从环状的两处理用面1、2的内侧向外侧直线地移动,向环状的半径方向的移动向量和向周方向的移动向量的合成向量作用于被处理流动体,从内侧向外侧大致漩涡状地移动。
需要说明的是,旋转轴50并不限定于垂直配置的旋转轴,可以为在水平方向配位的旋转轴,也可以为倾斜配位的旋转轴。这是因为被处理流动体以两处理用面1、2间的微细的间隔进行处理,实质上可以排除重力的影响。另外,该接面压力赋予机构通过与可位移地保持上述第2处理用部20的浮动机构并用,也作为微振动、旋转对准的缓冲机构起作用。
在流体的运动中,将表示惯性力和粘性力之比的无因次数叫做雷诺数,用下式来表示。
雷诺数Re=惯性力/粘性力=ρVL/μ=VL/ν
其中,ν=μ/ρ表示运动粘度、V表示代表速度、L表示代表长度、ρ表示密度、μ表示粘度。
而且,流体的流动以临界雷诺数为边界,在临界雷诺数以下成为层流、在临界雷诺数以上成为紊流。
上述流体处理装置的两处理用面1、2间被调整为微小间隔,因此在两处理用面1、2间保有的流体的量极少。因此,代表长度L变得非常小,在两处理用面1、2间通过的薄膜流体的离心力小,薄膜流体中,粘性力的影响变大。因此,上述的雷诺数变小,薄膜流体成为层流。
离心力是旋转运动中的惯性力的一种,为从中心朝向外侧的力。离心力由以下的式表示。
离心力F=ma=mv2/R
其中,a表示加速度、m表示质量、v表示速度、R表示半径。
如上述,两处理用面1、2间所保有的流体的量少,因此流体的速度相对于质量的比例变得非常大,其质量可以忽视。因此,在两处理用面1、2间形成的薄膜流体中,可忽视重力的影响。因此,能够使含有本来难以作为微粒而得到的存在比重差的某2种以上的金属元素的合金或复合金属化合物等的微粒中,在两处理用面1、2间形成的薄膜流体中得到。
第1、第2处理用部10、20可以将其至少任一方进行冷却或加热而调整其温度,在图1中,图示有在第1、第2处理用部10、20上设有温调机构(温度调整机构)J1,J2的例子。另外,可以将所导入的被处理流动体进行冷却或加热而调整其温度。这些温度也可以用于所处理的被处理物的析出,另外,也可以为了在第1、第2处理用面1、2间的被处理流动体上产生贝纳尔对流或马朗格尼对流而设定。
如图2中所示,可以在第1处理用部10的第1处理用面1上形成从第1处理用部10的中心侧向外侧、即在径方向伸长的槽状的凹部13而实施。该凹部13的平面形状,如图2(B)所示,可以为将第1处理用面1上弯曲或漩涡状地伸长而成的形状或没有图示,也可以为笔直地向外方向伸长的形状、L字状等地屈曲或弯曲而成的形状、连续而成形状、断续而成的形状、分支而成的形状。另外,该凹部13也可作为形成于第2处理用面2而实施,也可作为形成于第1及第2处理用面1、2的两者而实施。通过形成这样的凹部13可得到微泵效果,具有可在第1及第2处理用面1、2间抽吸被处理流动体的效果。
该凹部13的基端优选达到第1处理用部10的内周。该凹部13的前端向第1处理用部面1的外周面侧延伸,其深度(横截面积)随着从基端向前端而逐渐减小。
该凹部13的前端与第1处理用面1的外周面之间,设有没有凹部13的平坦面16。
在第2处理用面2上设有上述第2导入部d2的开口部d20的情况下,优选设置于与对向的上述第1处理用面1的平坦面16对向的位置。
该开口部d20,优选设于与第1处理用面1的凹部13相比更下游侧(在该例子中,外侧)。特别优选设于与通过微泵效果而导入时的流动方向变换为在处理用面间形成的以螺旋状层流的流动方向的点相比外径侧的与平坦面16对向的位置。具体而言,在图2(B)中,优选使从设于第1处理用面1的凹部13的最外侧的位置起向径向的距离n为约0.5mm以上。特别是在从流体中使微粒析出的情况下,优选在层流条件下进行多个被处理流动体的混合、和微粒的析出。开口部d20的形状,可以如图2(B)、图3(B)中以实线所示的那样为圆形状,也可以如图2(B)中以虚线所示的那样为卷绕作为环形盘的处理用面2的中央的开口的同心圆状的圆环形状。也可以将圆环形状的开口部d20设置为卷绕处理用面2的中央的开口的同心圆状。另外,在使开口部为圆环形状的情况下,其圆环形状的开口部既可以连续,也可以不连续。
在将圆环形状的开口部d20设置为卷绕处理用面2的中央的开口的同心圆状的情况下,可将导入处理用面1、2间的第2流体在同一条件下导入,因此可进行更均匀的扩散·反应·析出等的流体处理。在大量生产微粒的情况下,优选将开口部设为圆环形状。
该第2导入部d2可以具有方向性。例如,如图3(A)所示,来自上述第2处理用面2的开口部d20的导入方向相对于第2处理用面2以规定的仰角(θ1)倾斜。该仰角(θ1)设为超过0度且小于90度,进而,在反应速度快的反应的情况下,优选以1度以上且45度以下设置。
另外,如图3(B)中所示,来自上述第2处理用面2的开口部d20的导入方向在沿上述第2处理用面2的平面上具有方向性。该第2流体的导入方向在处理用面的半径方向的成分中为远离中心的外方向,且在相对于进行了旋转的处理用面间中的流体的旋转方向的成分中为正向。换言之,以通过开口部d20的半径方向即外方向的线段为基准线g,具有从该基准线g向旋转方向R的规定的角度(θ2)。关于该角度(θ2),也优选设为超过0度且低于90度。
该角度(θ2),可以根据流体的种类、反应速度、粘度、处理用面的旋转速度等各种的条件进行变更而实施。另外,也可以在第2导入部d2中完全不具有方向性。
上述的被处理流体的种类和其流路的数在图1的例中设为2个,但可以为1个,也可以为3个以上。在图1的例中,从第2导入部d2在处理用面1、2间导入第2流体,该导入部可以设置于第1处理用部10,也可以设置于两者。另外,可以对一种被处理流体准备多个导入部。另外,对设置于各处理用部的导入用的开口部而言,其形状或大小或数量没有特别限制,可以适宜变更而实施。另外,可以就在上述第1及第2处理用面间1、2之前或更上游侧设置导入部的开口部。
需要说明的是,可以在处理用面1、2间进行上述反应即可,因此也可以与上述相反地,从第1导入部d1导入第2流体,从第2导入部d2导入第1流体。也就是说,各流体中第1、第2这样的表述,只不过具有存在的多个流体的第n个这样为了识别的含义,也可能存在第3以上的流体。
上述流体处理装置中,析出·沉淀或结晶化这样的处理,如图1中所示,一般在可以接近·分离地相互对向配设了的、至少一方相对于另一方进行旋转的处理用面1、2之间强制地均匀混合一边发生。被处理了的被处理物的粒径、单分散度,可以通过适当调整处理用部10、20的转速、流速、处理用面1、2间的距离、被处理流动体的原料浓度或者被处理流动体的溶剂种类等进行控制。
以下,对于使用上述的装置进行的金属微粒的制造方法的具体方式进行说明。
在上述的流体处理装置中,在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对地进行旋转的处理用面1、2之间形成的薄膜流体中,使含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和含有至少1种还原剂的流体混合、使金属微粒析出。此时,在含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和含有至少1种还原剂的流体的至少任一方的流体中含有含水多元醇,且不含有一元醇,控制含水多元醇中所含的水的比率。
上述的金属微粒的析出,在本申请的图1中所示的装置的、可以接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方进行旋转的处理用面1、2间的薄膜流体中一边强制地均匀混合一边进行。
首先,从作为一个流路的第1导入部d1将作为第1流体的含有至少1种金属及/或金属化合物的流体导入可以接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方进行旋转的处理用面1、2间,在该处理用面间制作由第1流体构成的薄膜流体即第1流体膜。
接着,从作为另外流路的第2导入部d2,将作为第2流体的含有至少1种还原剂的流体直接导入在上述处理用面1、2间制作了的第1流体膜。
如上所述,通过被处理流动体的供给压与对旋转的处理用面之间施加的压力的压力平衡,可以在固定了距离的处理用面1、2间将第1流体与第2流体混合、进行金属微粒的析出。此时,作为第1流体的含有至少一种金属及/或金属化合物的流体在含有1种金属元素的情况下,可进行单质的金属微粒的析出,或通过含有2种以上的金属元素而使它们的金属元素的合金粒子析出。
需要说明的是,可以在处理用面1、2间进行上述反应即可,因此也可以与上述相反地,从第1导入部d1导入第2流体,从第2导入部d2导入第1流体。也就是说,各流体中第1、第2这样的表述,只不过具有存在的多个流体的第n个这样为了识别的含义,也可能存在第3以上的流体。
如上所述,除第1导入部d1、第1导入部d2之外,也可以设置第3导入部d3,该情况下,例如可以从各导入部将作为第1流体的含有至少1种金属及/或金属化合物的流体、作为第2流体的含有与第1流体中使用的金属和/或金属化合物不同的至少1种金属及/或金属化合物的流体、作为第3流体的含有至少1种还原剂的流体分别导入处理装置。这样一来,可以各自管理各流体的浓度、压力,可以更精密地控制上述的析出。需要说明的是,向各导入部导入的被处理流动体(第1流体~第3流体)的组合可以任意地设定。设有第4以上的导入部的情况也同样,这样可以将向处理装置导入的流体细分化。这样,通过由各自的导入部导入多种含有至少1种金属及/或金属化合物的流体,可以制作芯壳型的合金粒子等。
而且,也可以控制第1、第2流体等被处理流动体的温度、或控制第1流体和第2流体等的温度差(即供给的各被处理流动体的温度差)。为了控制进行供给的各被处理流动体的温度、温度差,也可以测定各被处理流动体的温度(处理装置、更详细而言、就要导入处理用面1、2间之前的温度),附加进行被导入处理用面1、2间的各被处理流动体的加热或冷却的机构而实施。
(pH区域)
在本发明中,含有至少1种金属及/或金属化合物的流体、含有至少1种还原剂的流体的pH没有特别限定。可以根据使用的金属和/或金属化合物、还原剂的种类、浓度、作为目的、对象的金属种类等而适当变更。
(分散剂等)
在本申请发明中,可以根据目的、需要而使用各种分散剂、表面活性剂。虽然没有特别限定,但作为表面活性剂及分散剂,可使用一般使用的各种各样的市售品、产品或新合成的等。虽然没有特别限定,但可举出阴离子性表面活性剂、阳离子性表面活性剂、非离子性表面活性剂、各种聚合物等的分散剂等。它们既可以单独使用,也可以并用2种以上。另外,在将聚乙二醇、聚丙二醇等作为多元醇来使用的情况下,多元醇也作为分散剂而起作用。
(温度)
本发明中,混合含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和含有至少1种还原剂的流体没有特别限定。可以根据使用的金属和/或金属化合物的种类、还原剂的种类、作为对象的金属种类、各流体的pH等在适合的温度下实施。
(含有氧化物、氢氧化物的情况)
另外,本发明中的金属微粒,即使含有一部分氧化物、氢氧化物、氧化氢氧化物等也可以实施。
实施例
在以下举出实施例对本申请发明更具体地进行说明。但是本发明并不限定于下述实施例。
予以说明的是,在以下的实施例中,所谓“从中央”,是图1中所示的处理装置的“从第1导入部d1”这样的意思,第1流体指的是从第1导入部d1导入的上述的第1被处理流动体,第2流体指的是从图1中所示的处理装置的第2导入部d2导入的上述的第2被处理流动体。另外,作为第2导入部d2的开口部d20,如图2(B)中以虚线所示,使用卷绕处理用面2的中央的开口的同心圆状的圆环形状的开口部。
(扫描型电子显微镜观察)
在扫描型电子显微镜(SEM)观察中,使用电场放射型扫描电子显微镜(FE-SEM):日本电子制的JSM-7500F、观察得到的金属微粒粉体。作为观察条件,将加速电压设为15kV,将观察倍率设为5千倍以上,对于粒径,将通过SEM观察确认的金属微粒的一次粒径设为粒径,将100个一次粒径的平均值作为粒径的平均值采用。另外,用C.V.=标准偏差÷粒径的平均值×100(%)算出变动系数(C.V.)。
(X射线衍射测定)
在X射线衍射(XRD)测定中,使用粉末X射线衍射测定装置X’Pert PRO MPD(XRDスペクトリスPANalytical事业部制)。测定条件为Cu对银极、管电压45kV、管电流40mA、0.016step/10sec,测定范围为10~100[°2Theta](Cu)。由XRD测定结果算出得到的镍微粒的干燥粉体的微晶直径。硅多结晶盘使用确认为47.3℃的峰值,在得到的镍衍射图案的44.5°附近的峰值中应用Scherrer式D=K·λ/(β·cosθ)。
在此,K为Scherrer常数,设为K=0.9。λ使用使用的X射线灯管的波长而算出,β使用半值宽度而算出,θ使用衍射角而算出。
(透射电子显微镜)
在透射电子显微镜(TEM)观察中,使用透过型电子显微镜、JEM-2100(JEOL制)观察得到的金属微粒粉体。作为观察条件,将加速电压设为200kV,将观察倍率设为3万倍以上,对于粒径,将通过TEM观察确认的金属微粒的一次粒径设为粒径,将100个一次粒径的平均值作为粒径的平均值采用。另外,用C.V.=标准偏差÷粒径的平均值×100(%)算出变动系数(C.V.)。
使用图1中所示的流体处理装置,作为试样1-7,将含有镍化合物的流体和含有还原剂的流体在具有对向配设了的、可接近·分离的处理用面的、至少一方相对于另一方进行旋转的处理用面1、2间形成的薄膜流体中进行混合、在薄膜流体中使镍微粒作为金属微粒而析出。
一边从中央将作为第1流体的含有镍化合物的流体以供给压力=0.50MPaG、转速1700rpm送液,一边将作为第2流体的含有还原剂的流体导入处理用面1、2间,将第1流体和第2流体在薄膜流体中进行混合。镍微粒分散液从处理用面1、2间被排出。将被排出的镍微粒分散液置于磁铁上,使镍微粒沉降,除去上清液,然后进行3次用纯水进行清洗的作业,将得到的湿滤饼在25℃下大气压下进行干燥,制作镍微粒的干燥粉体。干燥后的镍微粒粉体的XRD测定的结果得知:具有与FCC型的Ni一致的结晶结构,进而由使其粉体溶解于硝酸HNO3的溶液的ICP测定,得知制作了没有杂质的镍微粒。另外,通过SEM观察确认镍微粒的粒径,算出粒径的平均值和粒径的变动系数。另外,由X射线衍射(XRD)测定而算出微晶直径。
表1及表2中示出第1流体和第2流体的处理条件(处方及运转条件)。另外,表1中示出第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率,表2中示出得到的镍微粒的粒径的平均值(表2中“表述为粒径“)和粒径的变动系数(C.V.)、微晶直径。另外,第1流体及第2流体的温度为在分别将第1流体和第2流体就要导入处理装置之前(更详细而言,就要导入处理用面1、2间之前)进行温度调整(加热、冷却)而测定了的温度。
在此,就表中的简称而言,NiSO4·6H2O表示硫酸镍六水合物,EG表示乙二醇,PEG600表示聚乙二醇600,PW表示纯水,HMH表示肼一水合物,KOH表示氢氧化钾。另外,由于在本实施例中使用的乙二醇中原来所含的水小于1.0wt%,因此,对于原来所含的水,没有考虑。另外,将在试样4中得到的镍微粒的SEM照片示于图4。另外,图7示出在试样1~7中相对于第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(平均值)及粒径的变动系数(C.V.)的变化。
[表1]
[表2]
由试样1~7可以确认:通过控制第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率,可以控制镍微粒的粒径及其变动系数、微晶直径。具体而言,确认:通过提高含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变大的方式控制,通过降低含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变小的方式控制。另外确认:通过将含水多元醇中的水的比率控制在5wt%~60wt%的范围,镍微粒的粒径的变动系数成为小于5%。
另外确认:提高第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率时,可以在第1流体的温度低的条件下进行还原反应,结果,可以降低使镍微粒析出时的反应温度,因此,与以往的制造方法相比,可以以低成本、低能量制作镍微粒。
另一方面,使用不含有水的多元醇作为溶剂的试样1的第1流体,在室温(25℃)下制备第1流体后经过30分钟后,析出物产生,其后,即使将试样1的第1流体进行加热,其析出物也不溶解。因此,判断为:试样1的第1流体作为在镍微粒制作中使用的流体不适合。
接着,使用图1中所示的流体处理装置,作为试样8~16,将含有银化合物的流体和含有还原剂的流体在具有对向配设的、可接近·分离的处理用面的、至少一方相对于另一方进行旋转的处理用面1、2间形成的薄膜流体中进行混合,在薄膜流体中制作作为金属微粒的银微粒。
一边将从中央将作为第1流体的含有银化合物的流体以供给压力=0.15MPaG、转速1700rpm送液,一边将作为第2流体的含有还原剂的流体导入处理用面1、2间,将第1流体和第2流体在薄膜流体中进行混合。银微粒分散液从处理用面1、2间被排出。将被排出的银微粒分散液通过离心分离处理(18000G 20分钟)使银微粒沉降,除去上清液,然后进行3次用纯水进行清洗的作业,将得到的湿滤饼在25℃的大气压下进行干燥,制作银微粒的干燥粉体。干燥后的银微粒粉体的XRD测定及ICP测定的结果得知:制作了没有杂质的银微粒。另外,通过TEM观察确认银微粒的粒径,算出粒径的平均值和粒径的变动系数。在试样8、13、14、15、16中,如后所述,由于得到的银微粒凝聚,因此,观察凝聚·熔敷的银粒子,算出粒径的平均值和粒径的变动系数。
表3、表4中示出第1流体和第2流体的处理条件(处方及运转条件)。另外,表3中示出每单位时间的银微粒的产量(Ag产量)和第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率,表4中示出得到的银微粒的粒径的平均值(表4中表述为“粒径“)和粒径的变动系数(C.V.)。另外,第1流体及第2流体的温度为在分别将第1流体和第2流体的就要导入处理装置之前(更详细而言,就要导入处理用面1、2间之前)进行温度调整(加热、冷却)而测定了的温度。
在此,就表中的简称而言,AgNO3表示硝酸银,EG表示乙二醇,PVP(K=30)表示聚乙烯基吡咯烷酮(K=30),PW表示纯水,HMH表示肼一水合物,KOH表示氢氧化钾。另外,由于在本实施例中使用的乙二醇中原来所含的水小于1.0wt%,因此,对于原来所含的水,没有考虑。另外,将在试样11中得到的银微粒的TEM照片示于图5,将在试样16中得到的银粒子的TEM照片示于图6。另外,图8中示出在试样8~16中相对于第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的银微粒的粒径(平均值)及粒径的变动系数(C.V.)的变化。
[表3]
[表4]
由试样8~16可以确认:通过控制第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率,可以控制银微粒的粒径及其变动系数。具体而言,确认:除试样8之外,通过提高含水多元醇中的水的比率可以以银微粒的粒径变大的方式控制,通过降低含水多元醇中的水的比率,可以以银微粒的粒径变小的方式控制。另外确认:通过将含水多元醇中的水的比率控制在5wt%~60wt%的范围,银微粒的粒径的变动系数成为小于5%。
在试样8、13、14、15、16中,确认在将银微粒分散液从处理用面1、2间排出之后10分钟左右银微粒分散液中的银微粒明显地进行凝聚的情景,如图6中所示,确认表观上凝聚·熔敷的银粒子。另一方面,在试样9~12中,没有确认在排出后10分钟左右银微粒分散液中的银微粒进行凝聚的情景。因此,得知:通过使用在含水多元醇中的水的比率为5wt%~60wt%的范围将乙二醇和纯水混合了的含水多元醇,可以效率良好地制作分离良好的银微粒。
另外,在试样8的第1流体中,在向由乙二醇构成的不含有水的多元醇的0.14mol/L AgNO3的溶解中,需要2小时以上的时间,不能将超过0.14mol/L的AgNO3溶解。但是,如试样9~16那样,通过使用作为第1流体的溶剂的将乙二醇和纯水混合了的含水多元醇,AgNO3向溶剂的溶解可以在短时间进行,且在提高第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率时可以提高第1流体中的AgNO3的浓度,试样11~16的每单位时间制作的银微粒的产量,与试样8相比增多。由以上的情况来看,通过在第1流体中含有含水多元醇,可以使银微粒的产量增大。
接着,使用图1中所示的流体处理装置,作为试样17~24,将含有镍化合物的流体和含有还原剂的流体在具有对向配设了的、可接近·分离的处理用面的、至少一方相对于另一方进行旋转的处理用面1、2间形成的薄膜流体中进行混合,在薄膜流体中制作作为金属微粒的镍微粒。
一边从中央将作为第1流体的含有镍化合物的流体以供给压力=0.30MPaG、转速1700rpm送液,一边将作为第2流体的含有还原剂的流体导入处理用面1、2间,将第1流体和第2流体在薄膜流体中进行混合。镍微粒分散液从处理用面1、2间被排出。将被排出的镍微粒分散液置于磁铁上,使镍微粒沉降,除去上清液,然后进行3次用纯水进行清洗的作业,将得到的湿滤饼在25℃下大气压下进行干燥,制作镍微粒的干燥粉体。干燥后的镍微粒粉体的XRD测定的结果得知:具有与FCC型的Ni一致的结晶结构,进而由使其粉体溶解于硝酸HNO3的溶液的ICP测定,得知制作了没有杂质的镍微粒。另外,通过SEM观察确认镍微粒的粒径,算出粒径的平均值和粒径的变动系数。另外,由X射线衍射(XRD)测定而算出微晶直径。
表5及表6中示出第1流体和第2流体的处理条件(处方及运转条件)。另外,表5中示出每单位时间的镍微粒的产量(Ni产量)和第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率,表6中示出得到的镍微粒的粒径的平均值(表6中表述为“粒径“)和粒径的变动系数(C.V.)、微晶直径。另外,第1流体及第2流体的温度为在分别将第1流体和第2流体就要导入处理装置之前(更详细而言,就要导入处理用面1、2间之前)进行温度调整(加热·冷却)而测定了的温度。
在此,就表中的简称而言,NiSO4·6H2O表示硫酸镍六水合物,DEG表示二甘醇,PEG600表示聚乙二醇600,PW表示纯水,HMH表示肼一水合物,KOH表示氢氧化钾。另外,由于在本实施例中使用的二甘醇中原来所含的水小于0.5wt%,因此,对于原来所含的水,没有考虑。另外,图9中示出在试样18~24中相对于第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(平均值)及粒径的变动系数(C.V.)的变化。
[表5]
[表6]
由试样18~24可以确认:通过控制第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率,可以控制镍微粒的粒径及其变动系数、微晶直径。具体而言,确认:通过提高含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变大的方式控制,通过降低含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变小的方式控制。另外确认:通过将含水多元醇中的水的比率控制在5wt%~60wt%的范围,镍微粒的粒径的变动系数成为小于5%。
试样17的第1流体的溶剂仅为多元醇,与试样18~24的作为第1流体的溶剂的含水多元醇相比,不仅镍化合物(硫酸镍六水合物)的饱和溶解度低,而且由于在室温(25℃)下制备第1流体而立即产生析出物而因此不能使用试样17的第1流体来制作镍微粒。因此,判断为:试样17的第1流体作为在镍微粒制作中使用的流体是不适合的。
另外,提高第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率时,第1流体中的硫酸镍六水合物的浓度也可以提高,因此通过提高含水多元醇中的水的比率,可以使每单位时间制作的镍微粒的产量增大。
在试样18~24中,在第1流体的温度、第2流体的温度均相同的温度下实施,但确认:通过控制第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率,可以控制镍微粒的粒径及其变动系数,通过将含水多元醇中的水的比率控制在5wt%~60wt%的范围,镍微粒的粒径的变动系数成为小于5%。
使用图1中所示的流体处理装置,作为试样25~31,将含有镍化合物的流体和含有还原剂的流体在具有对向配设了的、可接近·分离的处理用面的、至少一方相对于另一方进行旋转的处理用面1、2间形成的薄膜流体中进行混合,在薄膜流体中制作作为金属微粒的镍微粒。
一边从中央将作为第1流体的镍化合物流体以供给压力=0.30MPaG、转速1700rpm送液,一边将作为第2流体的含有还原剂的流体导入处理用面1、2间,将第1流体和第2流体在薄膜流体中进行混合。镍微粒分散液从处理用面1、2间被排出。将被排出的镍微粒分散液置于磁铁上,使镍微粒沉降,除去上清液,然后进行3次用纯水进行清洗的作业,将得到的湿滤饼在25℃下大气压下进行干燥,制作镍微粒的干燥粉体。干燥后的镍微粒粉体的XRD测定的结果得知:具有与FCC型的Ni一致的结晶结构,进而由将其粉体溶解于硝酸HNO3的溶液的ICP测定,得知制作了没有杂质的镍微粒。另外确认:通过SEM观察镍微粒的粒径,算出粒径的平均值和粒径的变动系数。另外,由X射线衍射(XRD)测定而算出微晶直径。
表7及表8中示出第1流体和第2流体的处理条件(处方及运转条件)。另外,表7中示出每单位时间的镍微粒的产量(Ni产量)和第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率,表8中示出得到的镍微粒的粒径的平均值(表8中表述为“粒径”)和粒径的变动系数(C.V.)、微晶直径。另外,第1流体及第2流体的温度为在分别将第1流体和第2流体的就要导入处理装置之前(更详细而言,就要导入处理用面1、2间之前)进行温度调整(加热、冷却)而测定了的温度。
在此,就表中的简称而言,NiSO4·6H2O表示硫酸镍六水合物,PG表示丙二醇,PEG600表示聚乙二醇600,PW表示纯水,HMH表示肼一水合物,KOH表示氢氧化钾。另外,在本实施例中使用的丙二醇中原来所含的水小于1.0wt%,因此,对于原来所含的水,没有考虑。另外,图10中示出在试样25~30中相对于第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(粒径)及粒径的变动系数(C.V.)的变化。
[表7]
[表8]
由试样25~30确认:通过控制第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率,可以控制镍微粒的粒径及其变动系数、微晶直径。具体而言,确认:通过提高含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变大的方式控制,通过降低含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变小的方式控制。另外确认:通过将含水多元醇中的水的比率控制在5wt%~60%的范围,镍微粒的粒径的变动系数成为小于5%。
另外,提高第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率时,由于第1流体中的硫酸镍六水合物的浓度也可以提高,因此通过提高含水多元醇中的水的比率,可以使每单位时间制作的镍微粒的产量增大。另外确认:提高第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率时,可以在第1流体的温度低的条件下进行还原反应,结果,可以降低使镍微粒析出时的反应温度,因此,与以往的制造方法相比,可以以低成本、低能量制作镍微粒。
另一方面,在试样25中,在第1流体调整后不产生析出物,但第1流体的制备需要5小时。另外,如果在溶解时间上需要9小时以上的长时间,则虽然对于在丙二醇中硫酸镍六水合物20wt%左右进行溶解也进行了确认,但判断为不现实。另外在试样31中,完全不使用丙二醇地尝试镍微粒的制作,但不充分地进行还原,不能制作镍微粒。
使用图1中所示的流体处理装置,作为试样32~39,将含有镍化合物的流体和含有还原剂的流体在具有对向配设了的、可接近·分离的处理用面、至少一方相对于另一方进行旋转的处理用面1、2间形成的薄膜流体中进行混合,在薄膜流体中制作作为金属微粒的镍微粒。
一边从中央将作为第1流体的含有还原剂的流体以供给压力=0.30MPaG、转速1700rpm送液,一边将作为第2流体的含有镍化合物的流体导入处理用面1、2间,将第1流体和第2流体在薄膜流体中进行混合。镍微粒分散液从处理用面1、2间被排出。将被排出的镍微粒分散液置于磁铁上,使镍微粒沉降,除去上清液,然后进行3次用纯水进行清洗的作业,将得到的湿滤饼在25℃下大气压下进行干燥,制作镍微粒的干燥粉体。干燥后的镍微粒粉体的XRD测定的结果得知:具有与FCC型的Ni一致的结晶结构,进而由将其粉体溶解于硝酸HNO3的溶液的ICP测定,得知制作了没有杂质的镍微粒。另外,通过SEM观察确认镍微粒的粒径,算出粒径的平均值和粒径的变动系数。另外,由X射线衍射(XRD)测定而算出微晶直径。
表9及表10中示出第1流体和第2流体的处理条件(处方及运转条件)。另外,表9中示出第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率,表10中示出每单位时间的镍微粒的产量(Ni产量)和得到的镍微粒的粒径的平均值(表10中表述为“粒径”)和粒径的变动系数(C.V.)、微晶直径、用于第2流体的含水多元醇中的水的比率。另外,第1流体及第2流体的温度为在分别将第1流体和第2流体就要导入处理装置之前(更详细而言,就要导入处理用面1、2间之前)进行温度调整(加热、冷却)而测定了的温度。
在此,就表中的简称而言,NiSO4·6H2O表示硫酸镍6水合物,EG表示乙二醇,PEG600表示聚乙二醇600,PW表示纯水,HMH表示肼一水合物,KOH表示氢氧化钾。另外,在本实施例中使用的乙二醇中原来所含的水小于1.0wt%,因此,对于原来所含的水,没有考虑。另外,图11示出在试样32~36中相对于第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(平均值)及其变动系数(C.V.)的变化,图12中示出在试样37、38、35、39中相对于用于第2流体的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(平均值)及粒径的变动系数(C.V.)的变化。
[表9]
[表10]
由试样32~39确认:通过控制第1流体和第2流体中所含的含水多元醇中的水的比率,可以控制粒径及其变动系数、微晶直径。具体而言,由实施例32~36确认:通过提高第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变大的方式控制,通过降低含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变小的方式控制,由实施例37、38、35、39确认:通过提高第2流体中所含的含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变大的方式控制,通过降低含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变小的方式控制。另外,由实施例32~36确认:通过将第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率控制在5wt%~60wt%的范围,镍微粒的粒径的变动系数成为小于5%,由实施例37、38、35、39确认:通过控制第2流体中所含的含水多元醇中的水的比率,镍微粒的粒径的变动系数成为小于5%。
另外确认:在试样32~36中,提高第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率时,可以在第1流体的温度低的条件下进行还原反应,结果,可以降低使镍微粒析出时的反应温度,因此,与以往的制造方法相比,可以以低成本、低能量制作镍微粒。
进而确认:在含有至少1种金属化合物的流体和含有至少1种还原剂的流体这两者中含有含水多元醇、控制两者的中的任一方中所含的含水多元醇中的水的比率,可以控制镍微粒的粒径及其变动系数。
使用图1中所示的流体处理装置,作为试样40~45,将含有镍化合物的流体和含有还原剂的流体在具有对向配设了的、可接近·分离的处理用面的至少一方相对于另一方进行旋转的处理用面1、2间形成的薄膜流体中进行混合,在薄膜流体中制作作为金属微粒的镍微粒。
一边从中央将作为第1流体的含有还原剂的流体以供给压力=0.30MPaG、转速1700rpm送液,一边将作为第2流体的含有镍化合物的流体导入处理用面1、2间,将第1流体和第2流体在薄膜流体中进行混合。镍微粒分散液从处理用面1、2间被排出。将被排出的镍微粒分散液置于磁铁上,使镍微粒沉降,除去上清液,然后进行3次用纯水进行清洗的作业,将得到的湿滤饼在25℃下大气压下进行干燥,制作镍微粒的干燥粉体。干燥后的镍微粒粉体的XRD测定的结果得知:具有与FCC型的Ni一致的结晶结构,进而由将其粉体溶解于硝酸HNO3的溶液的ICP测定,得知制作了没有杂质的镍微粒。另外,通过SEM观察确认镍微粒的粒径,算出粒径的平均值和粒径的变动系数。由X射线解析(XRD)测定而算出微晶直径。
表11及表12中示出第1流体和第2流体的处理条件(处方及运转条件)。另外,表11中示出第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率,表12中示出得到的镍微粒的粒径的平均值(表12中表述为“粒径”)和粒径的变动系数(C.V.)、微晶直径、每单位时间的镍微粒的产量(Ni产量)。另外,第1流体及第2流体的温度为在分别将第1流体和第2流体就要导入处理装置之前(更详细而言,就要导入处理用面1、2间之前)进行温度调整(加热·冷却)而测定的温度。
在此,就表中的简称而言,Ni(NO3)2·6H2O表示硝酸镍6水合物,EG表示乙二醇,BYK-154表示ディスパービッグBYK-154(ビックケミー社制分散剂),PW表示纯水,HMH表示肼一水合物,KOH表示氢氧化钾。另外,由于在本实施例中使用的乙二醇中原来所含的水小于1.0wt%,因此,对于原来所含的水,没有考虑。另外,图13中示出在试样40~45中相对于第1流体中使用的含水多元醇中的水的比率的镍微粒的粒径(平均值)和粒径的变动系数(C.V.)的变化。
[表11]
[表12]
由试样40~45确认:通过控制第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率,可以控制镍微粒的粒径及其变动系数、微晶直径。具体而言,确认:通过提高含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变大的方式控制,通过降低含水多元醇中的水的比率,可以以镍微粒的粒径、微晶直径变小的方式控制。另外确认:通过将含水多元醇中的水的比率控制在5wt%~60%的范围,镍微粒的粒径的变动系数成为小于5%。
另外确认:提高第1流体中所含的含水多元醇中的水的比率时,可以在第1流体的温度低的条件下进行还原反应,结果,可以降低使镍微粒析出时的反应温度,因此,与以往的制造方法相比,可以以低成本、低能量制作镍微粒。
符号的说明
1 第1处理用面
2 第2处理用面
10 第1处理用部
11 第1托架
20 第2处理用部
21 第2托架
d1 第1导入部
d2 第2导入部
d20 开口部
Claims (9)
1.一种金属微粒的制造方法,其特征在于,使用至少2种被处理流动体,
其中至少1种被处理流动体为含有至少1种金属及/或金属化合物的流体,
在上述以外的被处理流动体中至少1种被处理流动体为含有至少1种还原剂的流体,
将上述的被处理流动体在对向配设了的、可接近·分离的至少一方相对于另一方相对地进行旋转的至少2个处理用面间形成的薄膜流体中进行混合,使金属微粒析出,
上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体的至少任一方的被处理流动体含有使水和多元醇混合了的含水多元醇,且不含有一元醇,
通过控制上述含水多元醇中所含的水的比率,控制析出的金属微粒的粒径及其变动系数。
2.根据权利要求1所述的金属微粒的制造方法,其特征在于,通过将上述含水多元醇中所含的水的比率控制在5wt%~60wt%的范围,将上述变动系数控制为小于5%。
3.根据权利要求1或2所述的金属微粒的制造方法,其特征在于,上述多元醇为选自乙二醇、丙二醇、1,3-丙二醇、四甘醇、聚乙二醇、二甘醇、甘油、聚丙二醇中的至少任一种。
4.根据权利要求1~3的任一项所述的金属微粒的制造方法,其特征在于,上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体的任一方的被处理流动体含有上述含水多元醇,且不含有一元醇。
5.根据权利要求4所述的金属微粒的制造方法,其特征在于,上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体含有上述含水多元醇,且不含有一元醇。
6.如权利要求1~3的任一项所述的金属微粒的制造方法,其特征在于,上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体这两者的被处理流动体含有上述含水多元醇,且不含有一元醇。
7.根据权利要求1~6的任一项所述的金属微粒的制造方法,其特征在于,上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体中的任一方的被处理流动体一边形成上述薄膜流体,一边通过上述两处理用面间,
具备与上述任一方的被处理流动体流过的流路独立的另外的导入路,
具备至少一个在上述至少2个处理用面的至少任一方中与上述另外的导入路相通的开口部,
将上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体中的任意另一方的被处理流动体从上述开口部导入上述至少2个处理用面之间,将上述含有至少1种金属及/或金属化合物的流体和上述含有至少1种还原剂的流体在上述薄膜流体中进行混合。
8.根据权利要求1~7的任一项所述的金属微粒的制造方法,其特征在于,上述金属和/或金属化合物为选自镍、银、镍化合物、银化合物中的至少任一种,
上述还原剂为用于使选自镍、银中的至少任一种析出的还原剂。
9.根据权利要求1~8的任一项所述的金属微粒的制造方法,其特征在于,上述至少1种金属化合物为镍化合物,上述至少1种还原剂为用于使镍析出的还原剂,上述析出的镍微粒的粒径的平均值为350nm以下。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012201023 | 2012-09-12 | ||
JP2012-201023 | 2012-09-12 | ||
PCT/JP2012/075463 WO2014041705A1 (ja) | 2012-09-12 | 2012-10-02 | 金属微粒子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104640653A true CN104640653A (zh) | 2015-05-20 |
CN104640653B CN104640653B (zh) | 2016-06-15 |
Family
ID=50277855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201280075760.8A Active CN104640653B (zh) | 2012-09-12 | 2012-10-02 | 金属微粒的制造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9821375B2 (zh) |
EP (1) | EP2896474B1 (zh) |
JP (1) | JP5831821B2 (zh) |
KR (1) | KR101988239B1 (zh) |
CN (1) | CN104640653B (zh) |
WO (1) | WO2014041705A1 (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114736540A (zh) * | 2016-06-02 | 2022-07-12 | M技术株式会社 | 覆盖有硅化合物的金属微粒 |
CN115461172A (zh) * | 2020-04-28 | 2022-12-09 | 拓自达电线株式会社 | 银粒子 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9744594B2 (en) * | 2012-09-12 | 2017-08-29 | M. Technique Co., Ltd. | Method for producing nickel microparticles |
US10239122B2 (en) * | 2015-03-02 | 2019-03-26 | Polyvalor, Société En Commandite | Alloy nanoparticles, process for their preparation and use thereof |
JP6771773B2 (ja) | 2015-10-05 | 2020-10-21 | エム・テクニック株式会社 | 金属酸化物粒子及びその製造方法 |
JP7293591B2 (ja) * | 2018-09-12 | 2023-06-20 | 住友金属鉱山株式会社 | ニッケル粉末およびニッケル粉末の製造方法 |
JP2022134575A (ja) * | 2021-03-03 | 2022-09-15 | 戸田工業株式会社 | 軟磁性金属粉末 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1539581A (zh) * | 2003-04-08 | 2004-10-27 | ���ǵ�����ʽ���� | 金属镍粉,其制备方法,导电膏和多层陶瓷电容器 |
WO2006050251A2 (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-11 | Nanodynamics, Inc. | Polyol-based method for producing ultra-fine metal powders |
CN101028653A (zh) * | 2007-04-10 | 2007-09-05 | 北京科技大学 | 一种金属镍纳米线的化学制备方法 |
WO2012014530A1 (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-02 | エム・テクニック株式会社 | 粒子径を制御された微粒子の製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2537898A1 (fr) | 1982-12-21 | 1984-06-22 | Univ Paris | Procede de reduction de composes metalliques par les polyols, et poudres metalliques obtenues par ce procede |
JPH032709A (ja) | 1989-05-30 | 1991-01-09 | Minolta Camera Co Ltd | 切換え式ズームレンズ |
JP3921805B2 (ja) | 1998-04-24 | 2007-05-30 | 株式会社村田製作所 | ニッケル微粉末の製造方法 |
JP4474810B2 (ja) | 2001-07-06 | 2010-06-09 | 株式会社村田製作所 | 金属粉末の製造方法、金属粉末、導電性ペースト、積層セラミック電子部品 |
US7713910B2 (en) * | 2004-10-29 | 2010-05-11 | Umicore Ag & Co Kg | Method for manufacture of noble metal alloy catalysts and catalysts prepared therewith |
TWI399254B (zh) * | 2004-12-10 | 2013-06-21 | Mitsui Mining & Smelting Co | Nickel powder and its manufacturing method and conductive paste |
WO2009008393A1 (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-15 | M.Technique Co., Ltd. | 強制超薄膜回転式処理法を用いたナノ粒子の製造方法 |
WO2009008390A1 (ja) | 2007-07-06 | 2009-01-15 | M.Technique Co., Ltd. | 金属微粒子の製造方法及びその金属微粒子を含む金属コロイド溶液 |
KR101482057B1 (ko) * | 2007-07-06 | 2015-01-13 | 엠. 테크닉 가부시키가이샤 | 유체 처리 장치 및 처리 방법 |
KR101358261B1 (ko) * | 2007-07-06 | 2014-02-05 | 엠. 테크닉 가부시키가이샤 | 세라믹스 나노입자의 제조 방법 |
KR20090010477A (ko) | 2007-07-23 | 2009-01-30 | 삼성전기주식회사 | 니켈 나노입자의 제조방법 |
JPWO2009041274A1 (ja) * | 2007-09-27 | 2011-01-20 | エム・テクニック株式会社 | 磁性体微粒子の製造方法、これにより得られた磁性体微粒子及び磁性流体、磁性体製品の製造方法 |
WO2011031483A2 (en) * | 2009-08-25 | 2011-03-17 | Cambrios Technologies Corporation | Methods for controlling metal nanostructures morphology |
JP5126862B1 (ja) | 2011-03-14 | 2013-01-23 | エム・テクニック株式会社 | 金属微粒子の製造方法 |
JP5261780B1 (ja) * | 2012-09-12 | 2013-08-14 | エム・テクニック株式会社 | 金属微粒子の製造方法 |
-
2012
- 2012-10-02 EP EP12884375.2A patent/EP2896474B1/en active Active
- 2012-10-02 WO PCT/JP2012/075463 patent/WO2014041705A1/ja active Application Filing
- 2012-10-02 US US14/427,596 patent/US9821375B2/en active Active
- 2012-10-02 KR KR1020157009254A patent/KR101988239B1/ko active IP Right Grant
- 2012-10-02 CN CN201280075760.8A patent/CN104640653B/zh active Active
-
2013
- 2013-04-04 JP JP2013078158A patent/JP5831821B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1539581A (zh) * | 2003-04-08 | 2004-10-27 | ���ǵ�����ʽ���� | 金属镍粉,其制备方法,导电膏和多层陶瓷电容器 |
WO2006050251A2 (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-11 | Nanodynamics, Inc. | Polyol-based method for producing ultra-fine metal powders |
CN101028653A (zh) * | 2007-04-10 | 2007-09-05 | 北京科技大学 | 一种金属镍纳米线的化学制备方法 |
WO2012014530A1 (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-02 | エム・テクニック株式会社 | 粒子径を制御された微粒子の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114736540A (zh) * | 2016-06-02 | 2022-07-12 | M技术株式会社 | 覆盖有硅化合物的金属微粒 |
CN115461172A (zh) * | 2020-04-28 | 2022-12-09 | 拓自达电线株式会社 | 银粒子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150054984A (ko) | 2015-05-20 |
JP2014074222A (ja) | 2014-04-24 |
EP2896474B1 (en) | 2019-01-16 |
JP5831821B2 (ja) | 2015-12-09 |
EP2896474A4 (en) | 2016-04-06 |
KR101988239B1 (ko) | 2019-06-12 |
WO2014041705A1 (ja) | 2014-03-20 |
US9821375B2 (en) | 2017-11-21 |
EP2896474A1 (en) | 2015-07-22 |
CN104640653B (zh) | 2016-06-15 |
US20150246395A1 (en) | 2015-09-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104640653B (zh) | 金属微粒的制造方法 | |
CN104411429B (zh) | 金属微粒的制造方法 | |
CN103282145A (zh) | 金属微粒的制造方法 | |
CN103648634A (zh) | 控制了微晶粒径的微粒的制造方法 | |
CN103097286B (zh) | 氧化物·氢氧化物的制造方法 | |
JP2014023997A (ja) | 微粒子の製造方法 | |
CN104411428B (zh) | 镍微粒的制造方法 | |
JP5950476B2 (ja) | 微粒子の製造方法 | |
KR102424543B1 (ko) | 고결정 은 미립자의 제조 방법 | |
JP5376483B1 (ja) | ニッケル微粒子の製造方法 | |
JP5261780B1 (ja) | 金属微粒子の製造方法 | |
JP6442715B2 (ja) | 微粒子の製造方法 | |
CN104136152B (zh) | 微粒的制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
EXSB | Decision made by sipo to initiate substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |