CN104617210B - Qled封装器件 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种QLED封装器件。该QLED封装器件,包括依次层叠的基板、芯片、荧光晶片以及掺杂量子点的封装材料,所述荧光晶片是化学式为(Y0.99‑xCe0.01Gdx)3Al5O12‑Al2O3的共晶合金,其中,x的取值范围为0.1~0.4。通过引入化学式为(Y0.99‑xCe0.01Gdx)3Al5O12‑Al2O3的共晶晶片,使QLED封装器件作为一种发光器件得到较佳的显色性能,使其显色指数达到90以上。
Description
技术领域
本发明涉及密封材料技术领域,特别是涉及一种QLED封装器件。
背景技术
QLED,即量子点发光二极管,量子点是一种肉眼无法看到的非常微小的半导体纳米晶体,由锌、镉、硫、硒原子组成。当量子点受到光电刺激时会发出有色彩的光线,因此QLED具有较佳的发光率。
然而,传统的LED荧光粉封装器件的光谱覆盖面在红色区域有明显缺失,因此显色性能不佳。
发明内容
基于此,有提供一种可补充光谱红色部分的缺失,提高显色性的QLED封装器件。
一种QLED封装器件,包括依次层叠的基板、芯片、荧光晶片以及掺杂量子点的封装材料,所述荧光晶片是化学式为(Y0.99-xCe0.01Gdx)3Al5O12-Al2O3的共晶合金,其中,x的取值范围为0.1~0.4。
在其中一个实施例中,所述荧光晶片的直径为7毫米,长度为25毫米。
在其中一个实施例中,所述x的取值为0.25。
在其中一个实施例中,所述掺杂的量子点由氧化镉、醋酸锌、硒和硫制备而成。
在其中一个实施例中,所述氧化镉、醋酸锌、硒和硫之间的比例为:1:3:0.4:2.3。
在其中一个实施例中,所述封装材料为硅胶。
上述QLED封装器件,包括了依次层叠的基板、芯片、荧光晶片以有掺杂了量子点的封装材料,其荧光晶片是化学式为(Y0.99-xCe0.01Gdx)3Al5O12-Al2O3的共晶合金,x的取值范围为0.1~0.4,通过这一覆盖于芯片上部的红色量子点,将有效避免了光谱中红色部分的缺失,提高了显色性。
附图说明
图1为一实施方式的QLED封装器件中x的取值与显色指数之间的关系图;
图2为一实施方式的QLED封装器件中荧光晶片的制备方法的流程图;
图3为一实施方式的QLED封装器件的示意图;
图4为一实施方式的QLED封装器件的量子点硅胶的图案化示意图;
图5为一实施方式的矩形图案化示意图;
图6为一实施方式的菱形图案化示意图;
图7为一实施方式的圆形图案化示意图;
图8为一实施方式的圆形设置圆柱图案化示意图;
图9为一实施方式的圆形向内凹形成反射槽的图案化示意图。
具体实施方式
下面结合实施方式及附图,对玻璃料组合物及制备方法、基于玻璃料组合物的密封方法作进一步的详细说明。
一实施方式的QLED封装器件,其包括依次层叠的基板、芯片、荧光晶片以及掺杂量子点的封装材料,该荧光晶片是化学式为(Y0.99-xCe0.01Gdx)3Al5O12-Al2O3的共晶合金,其中,x的取值范围为0.1~0.4。
优选的实施例中,x的取值为0.25。
上述QLED封装器件通过引入化学式为(Y0.99-xCe0.01Gdx)3Al5O12-Al2O3的共晶合金,使QLED封装器件作为一种发光器件得到较佳的显色性能,使其显色指数达到90以上,即如图1所示,而在x的取值为0.25时QLED封装器件的显色指数达到最佳。
进一步的,如上所述的荧光晶片的直径为7毫米,长度为25毫米。
进一步的,掺杂的量子点由氧化镉、醋酸锌、硒和硫制备而成,其各对应组分之间的比例为:1:3:0.4:2.3。
进一步的,掺杂量子点的封装材料为硅胶。
请参阅图2,一实施方式的QLED封装器件中荧光晶片的制备方法,包括如下步骤:
S110,根据化学式(Y0.99-xCe0.01Gdx)3Al5O12-Al2O3以及共晶的摩尔比Y2O3:Al2O3=18.5:81.5进行Y2O3、Al2O3、CeO2、Gd2O3的称取。
S130,按照化学式(Y0.99-xCe0.01Gdx)3Al5O12-Al2O3进行掺杂,其中,x的取值范围为0.1~0.4。
本实施例中,x的取值优选为0.25。
S150,将掺杂所得到的物质经球磨机球磨24小时后烘干,并装入橡胶气球内。
S170,对橡胶气球冷等静压成型,并烧结10小时,得到多晶料棒。
本实施例中烧结将在马弗炉中以1200摄氏度进行烧结,以得到直径为8毫米,长度为10厘米的多晶料棒。
S190,将多晶料棒放入光学浮区炉中生长以得到共晶合金。
本实施例中,光学浮区为日本Quantum Design公司的IR01-001-00型光学浮区炉。
一实施方式的QLED封装器件中掺杂的量子点制备方法,包括如下步骤:
1mmo的氧化镉,3mmol的醋酸锌,17.6mmol的十八烯酸和20mL十八碳烯放入100ml的圆形烧杯,将混合物放入100mTorr的真空环境中十五分钟,然后充氮气,并加热到310℃。在这一温度下,0.4mmol的硒粉末和2.3mmol的硫粉末同时融入3ml的TOP(烷基膦),并快速将其注入圆形烧杯中。
注入之后。设置烧杯温度在280℃来促进QDs生长30min,然后冷却至室温并停止QDs的生长。将其加入20ml氯仿和过量的丙酮,然后将其加入甲苯中,以得到掺杂量子点。
上述QLED封装器件,包括了依次层叠的基板、芯片、荧光晶片以有掺杂了量子点的封装材料,其荧光晶片是化学式为(Y0.99-xCe0.01Gdx)3Al5O12-Al2O3的共晶合金,x的取值范围为0.1~0.4,通过这一覆盖于芯片上部的荧光晶片,将有效避免了光谱中红色部分的缺失,提高了显色性。
在一实施例中,结合附图3~9,在量子点硅胶的表面进行图案化处理。因为,LED芯片发出的光通过量子点硅胶层射出外界(空气中),即光从光密介质射向光疏介质,此时光容易在金刚石固封层内表面发生全反射。故在该表面进行图案化处理,以增加出光面,进而提高出光效率。图案化的设置可以是交替排列的矩形、菱形、圆形或正六边形。还可以进一步的设计,例如在圆形的图案化中间设置圆柱,该圆柱作为侧面可以反射光;例如在圆形的图案化的四周向内凹形成反射槽,进一步增加反射的侧面,即增大了光投射到侧壁的概率,提高出光效率。同理,在凹槽的表面进行类似的图案化设计,将进一步的增加出光面,提高出光效率。
可以理解,由于量子点硅胶加热可以为熔融的液态,只需设置设有特定图案的模具即可实现图案化处理。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (5)
1.一种QLED封装器件,其特征在于,包括依次层叠的基板、芯片、荧光晶片以及掺杂量子点的封装材料,所述荧光晶片是化学式为(Y0.99-xCe0.01Gdx)3Al5O12-Al2O3的共晶合金,其中,x的取值范围为0.1~0.4,所述荧光晶片是按其化学式由Y2O3、Al2O3、CeO2、Gd2O3制备而成,所述封装材料为硅胶,在掺杂量子点的硅胶的表面进行图案化处理,图案化的设置是交替排列的矩形、菱形、圆形或正六边形。
2.根据权利要求1所述的QLED封装器件,其特征在于,所述荧光晶片的直径为7毫米,长度为25毫米。
3.根据权利要求1所述的QLED封装器件,其特征在于,所述x的取值为0.25。
4.根据权利要求1所述的QLED封装器件,其特征在于,所述掺杂的量子点由氧化镉、醋酸锌、硒和硫制备而成。
5.根据权利要求4所述的QLED封装器件,其特征在于,所述氧化镉、醋酸锌、硒和硫之间的比例为:1:3:0.4:2.3。
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