CN104541818A - 一种环保型黄瓜种植方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种环保型黄瓜种植方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:(1)选地;(2)种植地的预处理;(3)整地施肥;(4)种子处理;(5)种植;(6)浇水;(7)间苗;(8)除草。播种后用地膜覆盖土壤,起到提高地温,保持土壤水分,大大提高了单位面积的产量,降低劳动强度,省工、省时,生产效率高,成本低。而且得到的产品色泽好,口味佳,可以防止蔬菜烂根,减少病虫害对根系的侵染,使产品具有广泛的适应性和抗病虫害等特点。该种植方法不仅操作简单、成本低廉,而且质量稳定,综合效益也得到了很大提高。
Description
技术领域
本发明涉及种子的种植领域,具体涉及一种环保型黄瓜种植方法。
背景技术
黄瓜,属葫芦科植物。广泛分布于中国各地,并且为主要的温室产品之一。黄瓜的茎上覆有毛,富含汁液,叶片的外观有3-5枚裂片,覆有绒毛。最初为野生,瓜带黑刺,味道非常苦,不能食用,后经长期栽培、改良,才成为脆甜可口的黄瓜。黄瓜食用部分为幼嫩子房。果实颜色呈油绿或翠绿。鲜嫩的黄瓜顶花带刺,诱人入食。果肉脆甜多汁,具有清香口味。中国各地普遍栽培,初春育苗后移栽,或春季、夏季直接播种,也可温室栽培。
目前,在农业种植农作物过程中,由于化肥、农药和生长调节剂等化学品的大量使用,一方面造成土壤盐渍化、板结,地力严重退化,产量降低;另一方面病虫的抗药性越来越强,严重破坏了生态平衡,严重污染了环境,化学品残留和污染问题尤其凸显,破坏生物链,同时随着污染物的迁移和有毒物质在食物中的富集,对人身安全造成严重影响。
农作物地膜种植技术在我国已广泛推广,播种后用地膜覆盖土壤,起到提高地温,保持土壤水分,减少田间杂草和水土流失等作用,可以促进农作物的生长发育过程,大大提高了单位面积的产量。但是,当前农作物地膜种植的出苗,主要靠人工或机械破膜。上述技术在地膜上打孔放苗劳动强度大,费工、费时,生产效率低,作业成本高。
探究如何依靠农作物种子的胚芽和胚根就可以自行破膜出苗,少用化肥农药,减轻环境污染的同时,保证产率有所提高,使产品具有广泛的适应性和抗病虫害等特点具有极其重要的意义。
发明内容
本发明提供了一种环保型黄瓜种植方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
(1)选地:选择土层深厚、结构疏松、含腐殖质多、排水良好的轻沙碱土壤;
(2)种植地的预处理:前茬作物收获后,清除秸秆、杂草等物,然后用麦根、秸杆等物烧苗床地,消除和杀死病菌和虫卵;
(3)整地施肥:秋季翻20-23cm,春季再浅翻细耙,翻地深度为17-19cm,翻耕的同时,施入腐熟的鸡粪肥,翻后及时耙地起垅,打垅后及时震压 ;
(4)种子处理:将将种子用紫外线照射20-30分钟进行灭菌,然后用高锰酸钾550倍溶液浸泡15-20 分钟,放入5-8%的盐水中浸泡3-4h,盐水和种子比例为3:1;用水清洗后贮存于室内的阴凉干燥处;在播种前,将黄瓜种在阳光下晒种2-3天;
(5)种植:选用珍珠岩作为育苗基质,在温度82℃以上蒸制30-40分钟,在每160升育苗基质中加入乳酸杆菌55 毫升、放线菌6斤和骨粉3 斤,混匀后装入穴盘,在已施完肥打好垅的地块播种,播种采取浅开沟,宽播种,先开沟后点种,开沟宽度为14-16cm,沟深度为3-4cm,覆厚度为0. 015-0. 02mm的地膜,地膜上覆土厚2-3 cm,宽3-5 cm;
(6)浇水:在覆土的地膜上浇一次萌芽水,在种子发芽期,按“少浇勤浇”的原则浇水,要防止鸟害;
(7)间苗:当黄瓜苗长至3-4片叶时开始人工用锄头开苗(间苗),全部留单株,株距13-15cm,每平方米保证留苗12-14株,以利于通风透光,及时补栽缺苗;
(8)除草:每亩用威霸60ml兑水60公斤于小草3-4叶期喷施,防除禾本杂草,人工拨除杂草和杂株。
发明的有益效果:
用此种种植方法,播种后用地膜覆盖土壤,起到提高地温,保持土壤水分,减少田间杂草和水土流失等作用,可以促进农作物的生长发育过程,大大提高了单位面积的产量。而是依靠农作物种子的胚芽和胚根就可以自行破膜出苗,可以大幅度的降低劳动强度,省工、省时,生产效率高,成本低。而且得到的产品色泽好,口味佳,可以防止蔬菜烂根,减少病虫害对根系的侵染,使产品具有广泛的适应性和抗病虫害等特点。该种植方法不仅操作简单、成本低廉,而且质量稳定,综合效益也得到了很大提高。
具体实施方式
实施例1
选择土层深厚、结构疏松、含腐殖质多、排水良好的轻沙碱土壤;前茬作物收获后,清除秸秆、杂草等物,然后用麦根、秸杆等物烧苗床地,消除和杀死病菌和虫卵;秋季翻20cm,春季再浅翻细耙,翻地深度为17cm,翻耕的同时,施入腐熟的鸡粪肥,翻后及时耙地起垅,打垅后及时震压 ;将将种子用紫外线照射20分钟进行灭菌,然后用高锰酸钾550倍溶液浸泡15分钟,放入5%的盐水中浸泡3h,盐水和种子比例为3:1;用水清洗后贮存于室内的阴凉干燥处;在播种前,将黄瓜种在阳光下晒种2天;选用珍珠岩作为育苗基质,在温度82℃以上蒸制30分钟,在每160升育苗基质中加入乳酸杆菌55 毫升、放线菌6斤和骨粉3 斤,混匀后装入穴盘,在已施完肥打好垅的地块播种,播种采取浅开沟,宽播种,先开沟后点种,开沟宽度为14cm,沟深度为3cm,覆厚度为0. 015mm的地膜,地膜上覆土厚2 cm,宽3cm;在覆土的地膜上浇一次萌芽水,在种子发芽期,按“少浇勤浇”的原则浇水,要防止鸟害;当黄瓜苗长至3片叶时开始人工用锄头开苗(间苗),全部留单株,株距13cm,每平方米保证留苗12株,以利于通风透光,及时补栽缺苗;每亩用威霸60ml兑水60公斤于小草3-4叶期喷施,防除禾本杂草,人工拨除杂草和杂株。
实施例2
选择土层深厚、结构疏松、含腐殖质多、排水良好的轻沙碱土壤;前茬作物收获后,清除秸秆、杂草等物,然后用麦根、秸杆等物烧苗床地,消除和杀死病菌和虫卵;秋季翻23cm,春季再浅翻细耙,翻地深度为19cm,翻耕的同时,施入腐熟的鸡粪肥,翻后及时耙地起垅,打垅后及时震压 ;将将种子用紫外线照射30分钟进行灭菌,然后用高锰酸钾550倍溶液浸泡20 分钟,放入%的盐水中浸泡3-4h,盐水和种子比例为3:1;用水清洗后贮存于室内的阴凉干燥处;在播种前,将黄瓜种在阳光下晒种3天;选用珍珠岩作为育苗基质,在温度82℃以上蒸制40分钟,在每160升育苗基质中加入乳酸杆菌55 毫升、放线菌6斤和骨粉3 斤,混匀后装入穴盘,在已施完肥打好垅的地块播种,播种采取浅开沟,宽播种,先开沟后点种,开沟宽度为16cm,沟深度为4cm,覆厚度为0. 02mm的地膜,地膜上覆土厚3 cm,宽5 cm;在覆土的地膜上浇一次萌芽水,在种子发芽期,按“少浇勤浇”的原则浇水,要防止鸟害;当黄瓜苗长至3-4片叶时开始人工用锄头开苗(间苗),全部留单株,株距15cm,每平方米保证留苗14株,以利于通风透光,及时补栽缺苗;每亩用威霸60ml兑水60公斤于小草3-4叶期喷施,防除禾本杂草,人工拨除杂草和杂株。
津东黄瓜,每个小区种植350 棵,黄瓜通常存在根结线虫病、枯萎病、螨虫病、炭疽病和白粉病,出现以上病症以后,黄瓜的症状表现:叶片黄化,长势严重衰弱,产量和品质降低,易早衰。对照组的黄瓜用福气多、克线丹治理根结线虫病,用色谱仪检测药物残留情况。
本发明种植方法与常规种植方法种植黄瓜的对比如下表:
种植方法 | 本发明种植方法 | 常规种植方法 |
种植品种 | 津东黄瓜 | 津东黄瓜 |
种植面积(亩) | 1.2 | 1.2 |
平均成本 | 104 | 132 |
抗病性 | 叶色浓绿、厚、有光泽、根深叶茂、次品少 | 叶黄绿、薄、无光泽、次品多、长势严重衰弱 |
平均产量(斤) | 853 | 801 |
药物残留 | 少 | 多 |
从以上数据可以看出,本发明种植方法与常规种植方法种植黄瓜相比,成本平均降低了6%,产量平均提高了15.2%,抗病能力强,药物残留大大减少。
Claims (1)
1.一种环保型黄瓜种植方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
(1)选地:选择土层深厚、结构疏松、含腐殖质多、排水良好的轻沙碱土壤;
(2)种植地的预处理:前茬作物收获后,清除秸秆、杂草等物,然后用麦根、秸杆等物烧苗床地,消除和杀死病菌和虫卵;
(3)整地施肥:秋季翻20-23cm,春季再浅翻细耙,翻地深度为17-19cm,翻耕的同时,施入腐熟的鸡粪肥,翻后及时耙地起垅,打垅后及时震压 ;
(4)种子处理:将将种子用紫外线照射20-30分钟进行灭菌,然后用高锰酸钾550倍溶液浸泡15-20 分钟,放入5-8%的盐水中浸泡3-4h,盐水和种子比例为3:1;用水清洗后贮存于室内的阴凉干燥处;在播种前,将黄瓜种在阳光下晒种2-3天;
(5)种植:选用珍珠岩作为育苗基质,在温度82℃以上蒸制30-40分钟,在每160升育苗基质中加入乳酸杆菌55 毫升、放线菌6斤和骨粉3 斤,混匀后装入穴盘,在已施完肥打好垅的地块播种,播种采取浅开沟,宽播种,先开沟后点种,开沟宽度为14-16cm,沟深度为3-4cm,覆厚度为0. 015-0. 02mm的地膜,地膜上覆土厚2-3 cm,宽3-5 cm;
(6)浇水:在覆土的地膜上浇一次萌芽水,在种子发芽期,按“少浇勤浇”的原则浇水,要防止鸟害;
(7)间苗:当黄瓜苗长至3-4片叶时开始人工用锄头开苗(间苗),全部留单株,株距13-15cm,每平方米保证留苗12-14株,以利于通风透光,及时补栽缺苗;
(8)除草:每亩用威霸60ml兑水60公斤于小草3-4叶期喷施,防除禾本杂草,人工拨除杂草和杂株。
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20150429 |
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |