一种炉排的制造工艺及其用于烧烤的炉排
技术领域
本发明涉及燃烧设备技术领域,尤其涉及一种炉排的制造工艺及其用于烧烤的炉排。
背景技术
炉排主要用于锅炉、烤炉等燃烧装置中,在这燃烧装置中,炉排的作用在于:一、起到支撑燃料的作用;二、在燃料燃烧时从炉排的下方可提供进气而支撑燃烧;三、在燃料燃烧过程中,不断产生的燃料灰可以从炉排中漏出,防止燃料的积聚,由于炉排一般都安装于燃烧装置的高温部分,需要承受相应的高温,现有的炉排一般采用铸铁或球墨铸铁金属制成,这种炉排一般可以达到高温承受的要求;但是,由于这类炉排的主要成份中包含有铁的成份,所以,这种炉排在使用一段时间后,会出现一定程度的氧化,由于烧烤炉通常需要一个炉排安装于燃料的上方用于烤制食物,烧烤炉的使用频率一般较低,当人们把使用后的炉排清洗并放置一段时间后,其被氧化的程度更加明显;显然,这类炉排用于烧烤炉这类产品时其炉排上的金属氧化物就会影响人体的健康;有鉴于此,发明人针对目前炉排存在的问题,发明了一种炉排的制造工艺及其用于烧烤的炉排。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种炉排的制造工艺及其用于烧烤的炉排,本制造工艺具有工艺简单、易于制造和成本低的优点;而采用本制造工艺制造的炉排具有环保、耐高温和结构强度高的优点。
为实现上述目的,本发明的一种炉排的制造工艺,本制造工艺包括如下步骤:
S1.成型:将火山灰压制为块状石料;
S2.切割:将块状石料进行切割形成炉排;
S3.清洗:对炉排进行清洗;
S4.浸提烧结:将清洗后的炉排浸入釉溶液中,然后将浸提后的炉排置于高温中烧结,所述烧结温度为250°C~800°C;
S5.取出烧结完成的炉排。
作为优选,在S4的步骤中,将浸提后的炉排置于高温中烧结,所述烧结温度为350°C~741°C。
作为优选,所述釉溶液为硼砂溶液。
作为优选,在S4的步骤中;所述浸提步骤包括第一次浸提,然后将第一次浸提后的炉排置于高温中进行第一次烧结,所述第一次烧结温度为250°C~430°C;第一次烧结后的炉排进行第二次浸提,然后将第二次浸提后的炉排于高温中进行第二次烧结,所述第二次烧结温度为700°C~800°C。
作为优选,在S4的步骤中;所述浸提步骤包括第一次浸提,然后将第一次浸提后的炉排置于高温中进行第一次烧结,所述第一次烧结温度为250°C~300°C;第一次烧结后的炉排进行第二次浸提,然后将第二次浸提后的炉排于高温中进行第二次烧结,所述第二次烧结温度为300°C~430°C;第二次烧结后的炉排进行第三次浸提,然后将第三次浸提后的炉排于高温中进行第三次烧结,所述第三次烧结温度为700°C~800°C。
作为优选,所述釉溶液中包含有光亮剂。
作为优选,在S3步骤中,所述清洗为超声波清洗。
一种由上述工艺制得用于烘烤的炉排,包括由火山灰压制而成的本体,所述本体设置有若干个通孔,所述本体的表面覆设有釉质层。
作为优选,所述本体的底面为受热面,所述受热面贴附有金属板。
本发明的有益效果:与现有技术相比,本发明的一种炉排的制造工艺,本制造工艺针对火山灰成型的石料,进行加釉烧结,其工艺简单,无须大型的设备即可进行制造,制造容易,而且大幅降低了制造成本;而采用本工艺制得的炉排,由于采用封釉烧结的方法,所述炉排的原料为火山灰,具有环保、耐高温的优点,在釉质层的作用下,还大大提高了结构强度。
附图说明
图1为本发明的制造工艺的流程图。
图2为本发明制造工艺的浸提步骤的流程图。
图3为本发明的用于烧烤的炉排的结构示意图。
图4为本发明的用于烧烤的炉排的剖切结构示意图。
图5为图4的A部放大结构示意图。
附图标记包括:本体--1,通孔--2,釉质层--3,受热面--4,金属板--5。
具体实施方式
下面结合附图1~ 5本发明进行详细的说明。
实施例一。
本发明的一种炉排的制造工艺,本制造工艺包括如下步骤:
S1.成型:将火山灰压制为块状石料;
S2.切割:将块状石料进行切割形成炉排;
S3.清洗:对炉排进行清洗;
S4.浸提烧结:将清洗后的炉排浸入釉溶液中,然后将浸提后的炉排置于高温中烧结,所述烧结温度为250°C~800°C;
S5.取出烧结完成的炉排。
在S1成型步骤中,将废弃的火山灰通过机械压制成块状的石料,然后,在S2步骤中,利用切割机对块状的石料进行切割成相应的形状,从而形成各种样式的炉排;进一步将所述的切割好炉排进行清洗,对炉排表面的杂物或灰尘进行清除,从而使釉溶液更好的与炉排进行吸附,清洗完成后,将炉排浸入事先准备好的盛有釉溶液的容器中,使炉排的表面完全浸没于釉溶液中,所述釉溶液附着于炉排的表面,然后将表面附有釉溶液的炉排置于高温中进行烧结从而使炉排具有光滑的表面,所述高温烧结可以采用高温炉等现有设备进行,由于在火山灰质的混合料中,存在着一定数量的活性二氧化硅、活性氧化铝等活性组分,高温烧结使釉溶液与炉排结合,在冷却后,釉质与炉排成为一个整体;现有的火山灰石块存在强度低、易碎等问题;而本发明采用了釉溶液与炉排成为一体,在釉质层的作用下,提高了炉排的硬度和强度,进一步的,由于火山灰石块被釉质层的封闭,不会被氧化,而且炉排光滑的表面具有容易清洁,导热均匀的优点。
具体地说:在S4的步骤中,将浸提后的炉排置于高温中烧结,所述烧结温度为350°C~741°C;其烧结时间控制在2~3小时之间,其烧结温度从350°C开始升温,按每分钟升温10°C直至741°C保持至2.5-3小时即可,在本技术方案中,所述釉溶液为硼砂溶液;所述硼砂溶液在350~460℃失去全部结晶水成无水硼砂,热至741℃熔化成透明玻璃状釉质物。
同时,为了使炉排表面的光亮度,所述釉溶液中包含有光亮剂;该光亮剂仅增加于最后一次浸提的釉溶液中。这样,在最后烧结完成后,炉排表面的釉质层光洁度更好。
实施例二。
本实施例二与实施例一的不同之处在于:作为另一实施的技术方案,由于釉质层对炉排的保护是至关重要的,如果釉质层太薄其保护炉排的作用较为有限,如果釉质层太厚,其烧结工艺容易使烧结不彻底,其釉质层与炉排不能形成较好的融合,从而也会进一步影响釉质层的强度。在S4的步骤中;所述浸提步骤包括第一次浸提,然后将第一次浸提后的炉排置于高温中进行第一次烧结,所述第一次烧结温度为250°C~430°C;其烧结时间控制在1.3~1.7小时之间,当采用250°C烧结时,烧结时间为1.7小时;当采用300°C烧结时,烧结时间为1.5小时;当采用430°C烧结时,烧结时间为1.3小时;其中,第一次烧结后进行自然冷却至常温状态;第一次烧结后的炉排进行第二次浸提,然后将第二次浸提后的炉排于高温中进行第二次烧结,所述第二次烧结温度为700°C~800°C;其烧结时间控制在1.8~2.2小时之间,当采用700°C烧结时,烧结时间为2.2小时;当采用750°C烧结时,烧结时间为2小时;当采用800°C烧结时,烧结时间为1.8小时;其中,第二次烧结后进行自然冷却至常温状态;在第一次烧结后的釉质层对炉排形成第一层保护强度和硬度,其中,在第二次浸提的釉溶液中,可加入光亮剂,以增加产品的光亮度。在第二次烧结后,可形成表面的保护层,本实施方式避免了直接采用800°C以上的高温直接进行烧结,以免出现过火致釉质层开裂等问题产生;需要强调的是本实施例中所采用的釉溶液为石灰釉或长石釉等。
上述实施例二的其他部分与实施例一相同,在此不在赘述。
实施例三。
参见图2,本实施例二与实施例一的不同之处在于:为了进一步加强所述炉排的强度,在S4的步骤中;所述浸提步骤包括第一次浸提,然后将第一次浸提后的炉排置于高温中进行第一次烧结,所述第一次烧结温度为250°C~300°C;其烧结时间控制在1.4~1.8小时之间,当采用250°C烧结时,烧结时间为1.8小时;当采用280°C烧结时,烧结时间为1.6小时;当采用300°C烧结时,烧结时间为1.4小时;其中,第一次烧结后进行自然冷却至常温状态;第一次烧结后的炉排进行第二次浸提,然后将第二次浸提后的炉排于高温中进行第二次烧结,所述第二次烧结温度为300°C~430°C;其烧结时间控制在1.4~1.8小时之间,当采用300°C烧结时,烧结时间为1.8小时;当采用360°C烧结时,烧结时间为1.6小时;当采用430°C烧结时,烧结时间为1.4小时;其中,第二次烧结后进行自然冷却至常温状态;第二次烧结后的炉排进行第三次浸提,然后将第三次浸提后的炉排于高温中进行第三次烧结,所述第三次烧结温度为700°C ~800°C。其烧结时间控制在1.9~2.1小时之间,当采用700°C烧结时,烧结时间为2.1小时;当采用750°C烧结时,烧结时间为2小时;当采用800°C烧结时,烧结时间为1.9小时;其中,第三次烧结后进行自然冷却至常温状态;本实施例中采用三次浸提及三次烧结的方案,使炉排的表面由三层釉质层进行保护,以提高炉排的强度和炉排的硬度,需要强调的是本实施例中所采用的釉溶液为石灰釉或长石釉等。
上述实施例三的其他部分与实施例一相同,在此不在赘述。
参见图3至图4,一种由上述工艺制得用于烘烤的炉排,包括由火山灰压制而成的本体1,所述本体1设置有若干个通孔2,所述本体1的表面覆设有釉质层3。而采用本工艺制得的炉排,所述炉排的原料为火山灰,具有环保、耐高温的优点,在釉质层3的作用下,还大大提高了结构强度和硬度,其最大可承受800°C的高温,而通常烧烤加热温度为200-300°C,本炉排能完全承受烧烤时的温度。
同时,所述本体1的底面为受热面4,为了防止所述烧烤的火焰直接烧蚀受热面4,所述受热面4贴附有金属板5;所述金属板5设置有与所述通孔2对应的过火孔;该金属板5可为不锈钢等材质,然后与受热面4卡接而成,加热时,其火焰直接对金属板5进行加热,然后金属板5将热传导至炉排的表面;这样设置的目的在于,利用金属等不锈钢材质导热快、热量分布更均匀的特性,使整个炉排的受热均匀,有利于食物的均匀烤制。
以上内容仅为本发明的较佳实施例,对于本领域的普通技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。