CN104478491B - 一种包含保护釉层的抛釉瓷砖及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明一种包含保护釉层的抛釉瓷砖，其包括瓷砖本体，及覆盖于所述瓷砖本体表面的保护釉层，所述保护釉层自下至上包括塑化膜层、过渡层及熟料熔块透明釉层，其中，所述塑化膜层是质量百分比浓度为1%~10%的丹宁酸水溶液；所述过渡层为浆料比重小于1.20g/cm3的生料透明釉浆。本发明另提供一种包含保护釉层的抛釉瓷砖的制造方法，包括如下步骤;A生胚施底釉的步骤；B在瓷砖本体上打印图案的步骤；C用螺旋喷釉机在瓷砖本体表面喷淋浆料以形成保护釉层的步骤；D煅烧后抛光的步骤。该方法操作简单、节省人力、不受产品规格限制、不影响产品花色并且能够保证印花图案清晰。

Description

一种包含保护釉层的抛釉瓷砖及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种抛釉瓷砖及其制造方法，尤指一种包含保护釉层的抛釉瓷砖及其制造方法。
背景技术
图案逼真、釉面光亮的抛釉瓷砖，由于装饰效果奢华，已在市场流行一段时间，但产品的生产工艺始终未完善，其中印花图案模糊及釉表面缺陷一直是陶瓷业界难以彻底攻关解决的课题。
目前，行业生产抛釉瓷砖方法中，普遍是用网版印刷方法或者用淋釉的方法，在图案上面直接上一道具有一定厚度的透明保护釉层，这种工艺方法施釉量难以操控，效果不稳定，特别是对于深色喷墨产品和丝网印花产品，由于透明保护釉面与墨水或花釉的不相容问题，会使图案变模糊，并且容易产生凹釉、缩釉、卷釉等表面缺陷，影响产品成品的合格率。同时以上工艺还受到产品规格影响，如1000*1000mm、800*2000等大规格产品，用印保护釉的方法是很难实现的。而目前已有的喷釉的工艺设备为锥形喷嘴或水刀喷嘴，这些喷釉设备无法实现极小施釉量的均匀性，也容易堵塞。
发明内容
本发明所解决的技术问题是：为了克服深色及大规格产品印花抛釉瓷砖的图案变模糊问题，本发明提供了一种独特的抛釉瓷砖的生产方法，该方法操作简单、节省人力、不受产品规格限制、不影响产品花色并且能够保证印花图案清晰。在此基础上，本发明同时提供了一种包含新型保护釉层的抛釉瓷砖。
为解决上述技术问题，本发明所采用的技术手段如下所述：
一种包含保护釉层的抛釉瓷砖，其包括瓷砖本体，及覆盖于所述瓷砖本体表面的保护釉层，所述保护釉层自下至上包括塑化膜层、过渡层及熟料熔块透明釉层，其中，所述塑化膜层是质量百分比浓度为1%~10%的丹宁酸水溶液；所述过渡层为浆料比重小于1.20g/cm3的生料透明釉浆。
所述塑化膜层是质量百分比浓度为5%的丹宁酸水溶液。
一种权利要求1和2的包含保护釉层的抛釉瓷砖的制造方法，包括如下步骤;A生胚施底釉的步骤；B在瓷砖本体上打印图案的步骤；C用螺旋喷釉机在瓷砖本体表面喷淋浆料以形成保护釉层的步骤；D煅烧后抛光的步骤，所述保护釉层自下至上包括塑化膜层、过渡层及熟料熔块透明釉层，所述浆料包括：质量百分比浓度为1%~10%的丹宁酸水溶液，其形成所述塑化膜层；浆料比重小于1.20g/cm3的生料透明釉浆，其形成所述过渡层；熟料熔块透明釉，其形成所述熟料熔块透明釉层。
所述丹宁酸水溶液的质量百分比浓度为5%。
所述C步骤中螺旋喷釉机的喷嘴为螺旋设计。
所述C步骤中螺旋喷釉机的喷嘴为120度螺旋设计。
所述C步骤中所述螺旋喷釉机具有至少三支120度螺旋设计的喷嘴，所述喷嘴分别喷淋所述三种浆料。
所述D步骤中煅烧时的温度为1200℃。
本发明所产生的有益效果如下所述：
1、本发明提供了一种独特的抛釉瓷砖的生产方法，该方法操作简单、节省人力、不受产品规格限制、不影响产品花色及能保证印花图案清晰的施釉工艺。
2、本发明所记载的生产方法中使用螺旋喷釉机，其喷嘴为120度螺旋形设计，没有内部结构，保护釉中的颗粒可以顺利通过喷嘴而不会产生堵塞，解决了保护釉层喷釉量极小的难题；120度螺旋喷釉机有3至4个喷淋的分层界面，其喷淋的效果是每一个界面都形成一个锥形喷淋面，实现了保护釉层稳定均匀喷淋在砖坯表面。
3、本发明用螺旋喷釉机喷釉表面效果更稳定，对砖面覆盖更均匀，砖坯水分挥发快，利于烧成，不容易产生凹釉、缩釉、卷釉等表面缺陷，而且不受产品规格限制，各种规格的抛釉砖都可使用这种工艺。由于有第一道塑化膜对图案有隔离保护作用，，所以印花图案清晰，而且烧成时不会产生不良的物理化学反应，不影响产品的最终发色，提高产品质量。
4、本发明中生产大规格抛釉砖时，先对生坯施面釉，然后用喷墨机印刷图案，之后在印刷图案上施三道保护釉浆料，其施保护釉浆料的方法是砖坯在印花后，通过喷枪分别喷三道不同的浆料在砖坯表面，起到稳定图案颜色及图案纹理清晰度、保证釉面效果的作用。
5、本发明中提供了一种包含新型保护釉层的抛釉瓷砖，该抛釉瓷砖相较于现有的抛釉瓷砖，其图案印花图案更为清晰、成品率较高。
附图说明
图1为本发明包含保护釉层的抛釉瓷砖的剖视图。
图2为本发明包含保护釉层的抛釉瓷砖的制造方法的流程图。
具体实施方式
请参见图1，即本发明中包含保护釉层的抛釉瓷砖的剖视图。该抛釉瓷砖包括瓷砖本体1，以及覆盖于该瓷砖本体1表面的保护釉层2。其中，该保护釉层2自下至上包括塑化膜层21、过渡层22及熟料熔块透明釉层23。
进一步讲，该塑化膜层21是质量百分比浓度为1%~10%的丹宁酸水溶液；该过渡层22为低比重生料透明釉浆，即浆料比重小于1.20g/cm3的生料透明釉浆。其中，塑化膜层21具有隔离作用，能在图案上形成一层塑化膜，保证印刷的图案清晰度。在实际生产中尤以质量百分比浓度为5%的丹宁酸水溶液所起到的隔离效果最好。
过渡层22为浆料比重小于1.20g/cm3的生料透明釉浆，其是塑化膜层21与熟料熔块透明釉层23的过渡层，具有保护釉面平整度、减少釉面与图案层产生不良反应的作用。而熟料熔块透明釉层23的作用是使图案更透亮并形成釉下彩效果。
本发明所提供的包含新型保护釉层的抛釉瓷砖相较于现有的抛釉瓷砖，其图案印花图案更为清晰、成品率较高，能够有效克服了深色及大规格抛釉瓷砖的图案在施透明釉后变模糊问题。
此外，本发明另提供一种包含保护釉层的抛釉瓷砖的制造方法，该制造方法用于生产上述抛釉瓷砖。请参见图2，该制造方法包括如下步骤：A生胚施底釉的步骤；B在瓷砖本体上打印图案的步骤；C用螺旋喷釉机在瓷砖本体表面喷淋浆料以形成保护釉层的步骤；D煅烧后抛光的步骤。
具体来说，生产大规格抛釉瓷砖时，先对生坯施面釉，然后用喷墨机或网版印刷图案。然后准备好三种不同的浆料，即质量百分比浓度为1%~10%的丹宁酸水溶液、浆料比重小于1.20g/cm3的生料透明釉浆及熟料熔块透明釉。并通过螺旋喷釉机在瓷砖本体表面喷淋上述三种的浆料，并最终形成保护釉层。其中，该保护釉层自下至上包括塑化膜层、过渡层及熟料熔块透明釉层，而质量百分比浓度为1%~10%的丹宁酸水溶液形成塑化膜层；浆料比重小于1.20g/cm3的生料透明釉浆形成所述过渡层；熟料熔块透明釉形成所述熟料熔块透明釉层。
值得一提的是，在实际生产中，最好使用质量百分比浓度为5%的丹宁酸水溶液，由此形成的塑化膜层起到的隔离效果最好。
随后，完成上述步骤后的抛釉瓷砖再进窑炉煅烧，其中煅烧的温度最好为1200℃，在此温度下，煅烧后的抛釉瓷砖品质最佳、成品率最高。最后，再用抛光机进行两次抛光打磨，得到平直透亮、图案清晰的镜面抛釉瓷砖。
其中，在上述C步骤，即用螺旋喷釉机在瓷砖本体表面喷淋浆料以形成保护釉层的步骤中，螺旋喷釉机的喷嘴最好采用为螺旋设计，尤以喷嘴为120度螺旋设计的螺旋喷釉机最佳。其原因在于，120度螺旋喷嘴的喷洒最为均匀，使得浆料能够均匀覆盖在瓷砖本体表面，且喷嘴为120度螺旋设计的螺旋喷釉机有3至4个喷淋的分层界面，其喷淋的效果是每一个界面都形成一个锥形喷淋面，实现了保护釉层稳定均匀喷淋在砖坯表面。此外，螺旋喷釉机最好具有三支（或三支以上）的喷嘴，由此避免了同一喷嘴喷涂不同浆料，并造成浆料间的混杂。

Claims (8)

1.一种包含保护釉层的抛釉瓷砖，其包括瓷砖本体，及覆盖于所述瓷砖本体表面的保护釉层，其特征在于，所述保护釉层自下至上包括塑化膜层、过渡层及熟料熔块透明釉层，
其中，所述塑化膜层是质量百分比浓度为1%~10%的丹宁酸水溶液形成的；
所述过渡层为浆料比重小于1.20g/cm3的生料透明釉浆形成的。
2.如权利要求1所述的抛釉瓷砖，其特征在于，所述塑化膜层是质量百分比浓度为5%的丹宁酸水溶液形成的。
3.一种权利要求1或2的包含保护釉层的抛釉瓷砖的制造方法，包括如下步骤;
A生胚施底釉的步骤；
B在瓷砖本体上打印图案的步骤；
C用螺旋喷釉机在瓷砖本体表面喷淋浆料以形成保护釉层的步骤；
D煅烧后抛光的步骤，
其特征在于，所述保护釉层自下至上包括塑化膜层、过渡层及熟料熔块透明釉层，
所述浆料包括：质量百分比浓度为1%~10%的丹宁酸水溶液，其形成所述塑化膜层；
浆料比重小于1.20g/cm3的生料透明釉浆，其形成所述过渡层；
熟料熔块透明釉，其形成所述熟料熔块透明釉层。
4.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述丹宁酸水溶液的质量百分比浓度为5%。
5.如权利要求3或4所述的制造方法，其特征在于，所述C步骤中螺旋喷釉机的喷嘴为螺旋设计。
6.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述C步骤中螺旋喷釉机的喷嘴为120度螺旋设计。
7.如权利要求6所述的制造方法，其特征在于，所述C步骤中所述螺旋喷釉机具有至少三支120度螺旋设计的喷嘴，所述喷嘴分别喷淋所述丹宁酸水溶液、所述生料透明釉浆、所述熟料熔块透明釉。
8.如权利要求6所述的制造方法，其特征在于，所述D步骤中煅烧时的温度为1200℃。
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