发明内容
针对现有技术中存在的问题,本发明提供一种掩膜厚度更大、均匀性更高,工艺参数窗口更好把握且对工艺受控程度要求较低,去胶方法简单,能与IC工艺兼容,不会损伤芯片金属互连层的制备TSV立体集成RDL电镀掩膜的厚胶工艺。
本发明是通过以下技术方案来实现:
一种制备TSV立体集成RDL电镀掩膜的厚胶工艺,包括如下步骤,首先在TSV盲孔电镀晶圆的绝缘层表面依次溅射Ti粘附层和Cu种子层;接着采用两次涂胶和两次烘焙的方式制备厚胶膜,一次低速涂覆厚层光刻胶,二次高速涂覆薄层光刻胶,两次烘焙的时间和温度依据上下两层胶层的厚度比例而变化,底层胶层累计烘焙时间和表层胶层烘焙时间之比为两者厚度之比;然后进行曝光、显影和坚膜工艺制备RDL电镀掩膜。
优选的,一次低速涂覆厚层光刻胶包括如下三个步骤,
步骤1,转速控制为400rpm-600rpm,时间为4s-8s;
步骤2,控制最低转速为1000rpm,旋涂时间为30s-40s;
步骤3,步骤2旋涂之后,在100℃±5℃的温度下进行一次烘焙,时间3-4min。
进一步,在一次烘焙后1min进行二次高速涂覆薄层光刻胶。
优选的,二次高速涂覆薄层光刻胶包括如下四个步骤,
步骤a,转速控制为200rpm-500rpm,时间为3s-5s;
步骤b,转速为800rpm-1500rpm,时间为3s-5s;
步骤c,转速为3000rpm-4000rpm,旋涂时间为30s-40s;
步骤d,步骤c旋涂之后,在100℃±5℃的温度下进行二次烘焙,时间5-8min。
进一步,光刻胶采用AZ4620正性光刻胶。
优选的,曝光采用低真空模式,时间为70s-80s;显影的时间为140s-165s。
优选的,坚膜温度为80℃-90℃,时间10min-20min。
优选的,在TSV盲孔电镀晶圆的绝缘层表面,采用磁控溅射依次溅射100nm的Ti粘附层和600nm的Cu种子层。
与现有技术相比,本发明具有以下有益的技术效果:
本发明通过调整两次涂胶的参数和烘焙的条件,在确保厚胶层均匀性和光刻分辨率的前提下,再通过强曝光、速显影、低温长时间坚膜,制作出了高精度、侧壁陡直、厚度更大、均匀性更高的掩膜,可用于电镀高于20μm以上且外形规整的RDL互连线,能显著改善超薄晶圆的电互连特性,提高RDL热力可靠性,同时避免去胶困难的问题,从而降低后续UBM层去除难度,规避短路现象,整体提升TSV立体集成器件电互连可靠性。
进一步的,通过控制一次低速涂覆层光刻胶涂胶参数和烘培参数,有效保证了光刻胶的均匀性,步骤1采用的转速和时间参数,主要是为了使光刻胶平展开来,而步骤2控制的最低转速和旋涂时间参数主要是决定光刻胶的底层厚度;同时,对一次烘培温度的控制可以有效确保底层胶内溶剂有效挥发,一次烘培时间参数的控制依据上下两胶层厚度比例变化,以此为依据可以将烘培对二次高速涂覆薄层光刻胶的影响降到最低。
进一步的,采用在一次烘培后1min进行二次高速涂覆薄层光刻胶,能有效保证二次涂胶形成的底层胶膜和一次涂胶形成的表层胶膜之间的融合程度,有效提高光刻胶的表面均匀度和电镀RDL线条外形规整度。
进一步的,通过采用二次高速涂覆薄层光刻胶,控制高的速度可以有效改善粘附性衬底上涂覆的均匀性;而且由于底层胶膜和表层胶膜间的融合作用,胶的流动能力下降,为提高涂覆均匀性将二次高速涂覆薄层光刻胶分为三个步骤,步骤1和2有效的保证了二次光刻胶的厚度和均匀性,步骤3提高了转速和增加了旋涂时间,能有效匹配一次光刻胶和二次光刻胶的厚度与烘培时间;同时对二次烘培的时间和温度参数的有效控制,能进一步挥发底层和表层胶内溶剂,有效保证了底层胶和表层胶的厚度比例。
进一步的,通过采用AZ4620正性光刻胶,其热应很小,显影和电镀以后不会出现溶胀现象,且去胶简易、经济,采用丙酮和异丙醇超声清洗的方法就可彻底去除,满足RDL布线工艺要求。
进一步的,通过采用低真空模式曝光70s-80s和显影140s-165s的强曝光、速显影能有效提高胶侧壁陡直度,同时避免表面线条侵蚀现象。
进一步的,采用温度为80℃-90℃,时间10min-20min的低温长时间坚膜方法,能有效减缓线条溶胀现象,提高光刻胶的均匀性和质量。
进一步的,在TSV盲孔电镀晶圆的绝缘层表面,采用磁控溅射这种高速溅射方式,能在低气压条件下有效保证溅射100nm的Ti粘附层和600nm的Cu种子层的溅射沉积速率和温升。
具体实施方式
下面结合具体的实施例对本发明做进一步的详细说明,所述是对本发明的解释而不是限定。
实例1
本实施例用于在TSV盲孔电镀晶圆绝缘层表面制作高RDL线条电镀掩膜,掩膜平均厚度25.96μm,TTV小于1.5μm。如图2所示,TSV盲孔电镀操作晶圆采用Si衬底1,盲孔和Si衬底1之间设置有SiO2绝缘层2,盲孔孔壁由外向内依次设置有Ti粘附层3和Cu柱4,其电镀掩膜的实施步骤如下,如图1所示:
步骤一、首先依次采用丙酮和异丙醇分别对操作晶圆超声清洗5min,去掉CMP工艺残留的抛光液颗粒和杂质;之后进行烘干,烘干完成后利用磁控溅射方法在该SiO2绝缘层2上依次溅射100nm的Ti粘附层3和600nm的Cu种子层即UBM层,如图3a所示。
步骤二、接着采用本发明提出的厚胶工艺,用两次涂胶和两次烘焙的方式制备厚胶膜,如图3b所示的一次低速涂覆厚层光刻胶,如图3c所示的二次高速涂覆薄层光刻胶,两次烘焙的时间和温度依据上下两层胶层的厚度比例而变化。
步骤三、然后进行曝光、显影工艺,如图3d所示;最后进行坚膜工艺制备RDL电镀掩膜,。
上述厚胶工艺具体步骤及参数如下:
具体工艺步骤如图3所示:
步骤1(Step1),一次涂胶分为两个步骤:Step1转速为600rpm,旋涂时间为5s,加速度为6000rpm/s;Step2转速为1000rpm,旋涂时间为30s,加速度为10000rpm/s。
步骤2(Step2),一次涂胶后烘焙,烘焙温度为100℃,烘焙时间为4min,如图3b所示,一次烘焙和二次涂胶时间间隔为1min。
步骤3(Step3),二次涂胶分为三个步骤:Step1转速为500rpm,时间为4s,加速度为6000rpm/s;Step2转速为1500rpm,时间为4s,加速度为8000rpm/s;Step3转速为4000rpm,旋涂时间为30s,加速度为10000rpm/s。
步骤4(Step4),二次涂胶后烘焙,烘焙温度为100℃,烘焙时间为6min,如图3c所示。
步骤5(Step5),曝光采用低真空模式,光强为9.3mw/cm2,曝光时间为70s,显影液为TMAH(四甲基氢氧化铵):H2O=60ml:480ml,显影时间为2min25s,如图3d所示。
步骤6(Step6),坚膜采取低温长时间方法,坚膜温度为85℃,时间为12min。
以上步骤中,一次低速涂覆厚层光刻胶、一次涂胶后烘培、二次高速涂覆薄层光刻胶和二次涂胶后烘培为涂胶工艺,如图1中A所示;强曝光、速显影和低温长时间坚膜为光刻工艺,如图2中B所示。
实例2
本发明一种制备TSV立体集成RDL电镀掩膜的厚胶工艺,具体工艺步骤如下:
步骤1,一次涂胶分为两个步骤:Step1转速为600rpm,旋涂时间为5s,加速度为6000rpm/s;Step2转速为1000rpm,旋涂时间为30s,加速度为10000rpm/s。
步骤2,一次涂胶后烘焙,烘焙温度为100℃,烘焙时间为3min,如图3b所示,一次烘焙和二次涂胶时间间隔为1min。
步骤3,二次涂胶分为三个步骤:Step1转速为400rpm,时间为4s,加速度为6000rpm/s;Step2转速为1000rpm,时间为4s,加速度为8000rpm/s;Step3转速为3000rpm,旋涂时间为40s,加速度为10000rpm/s。
步骤4,二次涂胶后烘焙,烘焙温度为100℃,烘焙时间为7min,如图3c所示。
步骤5,曝光采用低真空模式,光强为9.3mw/cm2,曝光时间为75s,显影液为TMAH(四甲基氢氧化铵):H2O=60ml:480ml,显影时间为2min30s,如图3d所示。
步骤6,坚膜采取低温长时间方法,坚膜温度为80℃,时间为17min。
实例3
本发明一种制备TSV立体集成RDL电镀掩膜的厚胶工艺,具体工艺步骤如下:
步骤1,一次涂胶分为两个步骤:Step1转速为500rpm,旋涂时间为6s,加速度为6000rpm/s;Step2转速为1000rpm,旋涂时间为35s,加速度为10000rpm/s。
步骤2,一次涂胶后烘焙,烘焙温度为100℃,烘焙时间为3min,如图3b所示,一次烘焙和二次涂胶时间间隔为1min。
步骤3,二次涂胶分为三个步骤:Step1转速为400rpm,时间为3s,加速度为6000rpm/s;Step2转速为1300rpm,时间为5s,加速度为8000rpm/s;Step3转速为4000rpm,旋涂时间为35s,加速度为10000rpm/s。
步骤4,二次涂胶后烘焙,烘焙温度为100℃,烘焙时间为5min,如图3c所示。
步骤5,曝光采用低真空模式,光强为9.3mw/cm2,曝光时间为75s,显影液为TMAH(四甲基氢氧化铵):H2O=60ml:480ml,显影时间为2min25s,如图3d所示。
步骤6,坚膜采取低温长时间方法,坚膜温度为85℃,时间为15min。
实例4
本发明一种制备TSV立体集成RDL电镀掩膜的厚胶工艺,具体工艺步骤如下:
步骤1,一次涂胶分为两个步骤:Step1转速为400rpm,旋涂时间为4s,加速度为6000rpm/s;Step2转速为1000rpm,旋涂时间为40s,加速度为10000rpm/s。
步骤2,一次涂胶后烘焙,烘焙温度为100℃,烘焙时间为4min,如图3b所示,一次烘焙和二次涂胶时间间隔为1min。
步骤3,二次涂胶分为三个步骤:Step1转速为200rpm,时间为5s,加速度为6000rpm/s;Step2转速为800rpm,时间为3s,加速度为8000rpm/s;Step3转速为4000rpm,旋涂时间为40s,加速度为10000rpm/s。
步骤4,二次涂胶后烘焙,烘焙温度为100℃,烘焙时间为6min,如图3c所示。
步骤5,曝光采用低真空模式,光强为9.3mw/cm2,曝光时间为70s,显影液为TMAH(四甲基氢氧化铵):H2O=60ml:480ml,显影时间为2min45s,如图3d所示。
步骤6,坚膜采取低温长时间方法,坚膜温度为90℃,时间为20min。
实例5
本发明一种制备TSV立体集成RDL电镀掩膜的厚胶工艺,具体工艺步骤如下:
步骤1,一次涂胶分为两个步骤:Step1转速为500rpm,旋涂时间为8s,加速度为6000rpm/s;Step2转速为1000rpm,旋涂时间为40s,加速度为10000rpm/s。
步骤2,一次涂胶后烘焙,烘焙温度为100℃,烘焙时间为4min,如图3b所示,一次烘焙和二次涂胶时间间隔为1min。
步骤3,二次涂胶分为三个步骤:Step1转速为300rpm,时间为5s,加速度为6000rpm/s;Step2转速为1000rpm,时间为5s,加速度为8000rpm/s;Step3转速为3000rpm,旋涂时间为30s,加速度为10000rpm/s。
步骤4,二次涂胶后烘焙,烘焙温度为100℃,烘焙时间为8min,如图3c所示。
步骤5,曝光采用低真空模式,光强为9.3mw/cm2,曝光时间为80s,显影液为TMAH(四甲基氢氧化铵):H2O=60ml:480ml,显影时间为2min35s,如图3d所示。
步骤6,坚膜采取低温长时间方法,坚膜温度为90℃,时间为18min。