CN104232368A - 一种二极管用清洗液 - Google Patents
一种二极管用清洗液 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104232368A CN104232368A CN201310251722.XA CN201310251722A CN104232368A CN 104232368 A CN104232368 A CN 104232368A CN 201310251722 A CN201310251722 A CN 201310251722A CN 104232368 A CN104232368 A CN 104232368A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- concentration
- edta
- scavenging solution
- pure water
- cleaning fluid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
本发明是一种二极管用清洗液，清洗液包括浓度为99.5%的EDTA4-6kg，纯水14kg-16kg，浓度为25%-28%的氨水600-800ml。本发明的二极管用清洗液是将所述EDTA放入容器内，然后将纯水倒入，待搅拌均匀后再加入浓度为25%-28%的氨水。本发明清洗液对多种污染物都具有良好的清洁效果，能清洗二极管表面的残留隔离或者是残留氧化物等，并且成本低，稀释使用，费用低，能有效的去除杂质，保证二极管的质量，提高企业的生产利润。
Description
技术领域
本发明涉及一种清洗液，尤其是一种用于二极管清洗的清洗液。
背景技术
二极管是现代微电子工业发展的基础，二极管已经成熟并且大量的应用于电子行业的各个领域，随着现在微电子工业的迅猛发展，二极管已经成为企业利润最多的一部分，为了保证一定的利润，首先要保证二极管的质量，我们都知道二极管的制作工艺中需要对二极管进行清洗，如果开发一种成本低且清洁度高的清洗液是至关重要的。
发明内容
为了解决上述问题，本发明提供了一种能够降低生产升本，且能够提高产品清洁度的二极管用清洗液。
为了达到上述目的，本发明是通过以下技术方案实现的：
本发明是一种二极管用清洗液，清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 4-6kg，纯水14 kg -16 kg，浓度为25%-28%的氨水600-800ml。
本发明的清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 4kg，纯水14 kg，浓度为25%-28%的氨水600ml。
本发明的清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 5kg，纯水15 kg，浓度为25%-28%的氨水700ml。
本发明的清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 6kg，纯水16 kg，浓度为25%-28%的氨水800ml。
本发明的二极管用清洗液是将所述EDTA放入容器内，然后将纯水倒入，待搅拌均匀后再加入浓度为25%-28%的氨水。
本发明的有益效果是：EDTA是一种白色无臭无味的粉末，用途很广，是一种重要的络合剂，在应用中多用于排除大部分过度金属元素离子如铁、镍、锰等的干扰，纯水又称去离子水，是不含有任何添加物无色透明的水，氨水与Ag+、Cu2+、Cr3+、Zn2+等离子能发生络合反应，当氨水少量时，产生不溶性弱碱，放氨水过量时，不溶性物质又转化成络离子而溶解，本发明中清洗液能较好的去除二极管芯片和铜线上的反应生成物或者是一些残留物，去除重金属离子，并且对二极管本身没有影响。
本发明清洗液对多种污染物都具有良好的清洁效果，能清洗二极管表面的残留隔离或者是残留氧化物等，并且成本低，稀释使用，费用低，能有效的去除杂质，保证二极管的质量，提高企业的生产利润。
具体实施方式
为了加深对本发明的理解，下面将结合实施例对本发明做进一步详细描述，该实施例仅用于解释本发明，并不对本发明的保护范围构成限定。
如实施例所示，本发明是一种二极管用清洗液，所述清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 4-6kg，纯水14 kg -16 kg，浓度为25%-28%的氨水600-800ml，将所述EDTA放入容器内，然后将纯水倒入，待搅拌均匀后再加入浓度为25%-28%的氨水。
实施例一：所述清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 4kg，纯水14 kg，浓度为25%-28%的氨水600ml，将所述EDTA放入容器内，然后将纯水倒入，待搅拌均匀后再加入浓度为25%-28%的氨水。
实施例二：所述清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 5kg，纯水15 kg，浓度为25%-28%的氨水700ml，将所述EDTA放入容器内，然后将纯水倒入，待搅拌均匀后再加入浓度为25%-28%的氨水。
实施例三：所述清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 6kg，纯水16 kg，浓度为25%-28%的氨水800ml，将所述EDTA放入容器内，然后将纯水倒入，待搅拌均匀后再加入浓度为25%-28%的氨水。
EDTA是一种白色无臭无味的粉末，用途很广，是一种重要的络合剂，在应用中多用于排除大部分过度金属元素离子如铁、镍、锰等的干扰，纯水又称去离子水，是不含有任何添加物无色透明的水，氨水与Ag+、Cu2+、Cr3+、Zn2+等离子能发生络合反应，当氨水少量时，产生不溶性弱碱，放氨水过量时，不溶性物质又转化成络离子而溶解，本发明中清洗液能较好的去除二极管芯片及铜线上的反应生成物或者是一些残留物，去除重金属离子，并且对二极管本身没有影响。
本发明清洗液对多种污染物都具有良好的清洁效果，能清洗二极管表面的残留隔离或者是残留氧化物等，并且成本低，稀释使用，费用低，能有效的去除杂质，保证二极管的质量，提高企业的生产利润。
Claims (5)
1. 一种二极管用清洗液，所述清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 4-6kg，纯水14 kg -16 kg，浓度为25%-28%的氨水600-800ml。
2. 根据权利要求1所述一种二极管用清洗液，其特征在于：所述清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 4kg，纯水14 kg，浓度为25%-28%的氨水600ml。
3.根据权利要求1所述一种二极管用清洗液，其特征在于：所述清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 5kg，纯水15 kg，浓度为25%-28%的氨水700ml。
4.根据权利要求1所述一种二极管用清洗液，其特征在于：所述清洗液包括浓度为99.5%的EDTA 6kg，纯水16 kg，浓度为25%-28%的氨水800ml。
5.根据权利要求1-4任一项所述一种二极管用清洗液，其特征在于：将所述EDTA放入容器内，然后将纯水倒入，待搅拌均匀后再加入浓度为25%-28%的氨水。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310251722.XA CN104232368A (zh) | 2013-06-24 | 2013-06-24 | 一种二极管用清洗液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310251722.XA CN104232368A (zh) | 2013-06-24 | 2013-06-24 | 一种二极管用清洗液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104232368A true CN104232368A (zh) | 2014-12-24 |
Family
ID=52221279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310251722.XA Pending CN104232368A (zh) | 2013-06-24 | 2013-06-24 | 一种二极管用清洗液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN104232368A (zh) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1247107A (zh) * | 1998-09-07 | 2000-03-15 | 日本电气株式会社 | 基片清洗方法和基片清洗液 |
| US20030224958A1 (en) * | 2002-05-29 | 2003-12-04 | Andreas Michael T. | Solutions for cleaning polished aluminum-containing layers |
| US20040142835A1 (en) * | 2002-11-08 | 2004-07-22 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Washing liquid for semiconductor substrate |
| CN1770404A (zh) * | 2004-11-02 | 2006-05-10 | 海力士半导体有限公司 | 清洗溶液和使用该溶液清洗半导体器件的方法 |
-
2013
- 2013-06-24 CN CN201310251722.XA patent/CN104232368A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1247107A (zh) * | 1998-09-07 | 2000-03-15 | 日本电气株式会社 | 基片清洗方法和基片清洗液 |
| US20030224958A1 (en) * | 2002-05-29 | 2003-12-04 | Andreas Michael T. | Solutions for cleaning polished aluminum-containing layers |
| US20040142835A1 (en) * | 2002-11-08 | 2004-07-22 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Washing liquid for semiconductor substrate |
| CN1770404A (zh) * | 2004-11-02 | 2006-05-10 | 海力士半导体有限公司 | 清洗溶液和使用该溶液清洗半导体器件的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN104372342A (zh) | 一种不锈钢化学抛光液 | |
| CN103469236A (zh) | 一种铜基材清洗剂及其制备方法 | |
| CN103103547A (zh) | 无磷环保金属除油剂、生产方法及使用方法 | |
| CN102766766A (zh) | 一种无皂化稀土萃取分离工艺 | |
| CN105671563B (zh) | 一种除锈剂及其制备方法 | |
| CN106048632A (zh) | 一种中性无磷脱脂剂及其制备方法 | |
| CN106867481A (zh) | 发动机冷却液及其制备工艺 | |
| CN104109530A (zh) | 一种酸化用铁离子稳定剂及其制备方法 | |
| CN105038606B (zh) | 适合氧化镓衬底基片抛光的专用抛光液及其制备方法 | |
| CN101921672A (zh) | 羊毛净洗剂 | |
| CN104195557A (zh) | 一种钕铁硼磁性材料的退镀液 | |
| CN102191494B (zh) | 一种还原铜及铜合金表面氧化膜的处理液及其处理方法 | |
| CN104232368A (zh) | 一种二极管用清洗液 | |
| CN111040893B (zh) | 一种复杂环境用水基清洗剂及清洗方法 | |
| CN103409757A (zh) | 一种环保型铜制品用化学抛光液及其制备方法 | |
| CN113045338A (zh) | 一种含铁杂质石材的环保除锈剂及其制备方法 | |
| CN104498954A (zh) | 一种金属抛光剂 | |
| CN114622213A (zh) | 一种铜材环保型中性酸洗液 | |
| CN106381237A (zh) | 一种水基化工设备用清洗剂 | |
| CN105624701A (zh) | 一种高效除油剂 | |
| CN103740516B (zh) | 一种中性智能手机屏玻璃清洗剂 | |
| CN104330958B (zh) | 正胶显影液制备方法 | |
| CN114875418B (zh) | 一种中性铝材漂白剂及其制备方法 | |
| CN103122282A (zh) | 一种洗涤剂 | |
| CN115522192A (zh) | 一种无磷无渣常温硅烷金属表面处理剂及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20141224 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |