CN104146441A - 一种鞋底粘接前处理方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种鞋底粘接前处理方法，首首先通入臭氧，并利用UVC灯管产生波段为254nm和185nm的紫外光a，照射在大底和中底的粘接面上，以去除大底和中底的粘接面上的有机污物，然后清洗大底和中底，接着用UV灯管产生波段为185nm的紫外光b对大底和中底的粘接面进行蚀刻，使粘接面变粗糙，再用红外线烘干大底和中底，最后在大底和中底的粘接面上涂覆胶水，以完成上胶。采用紫外光a和紫外光b作用大底和中底粘接面，发生光敏氧化反应，不仅可以有效去除大底和中底粘接面上的有机污物，而且还能够提高大底和中底粘接面的浸润性和粘合强度，具有环保、节能和高效的特点，避免了用化学试剂直接腐蚀粘接面而产生对人体有害的VOC，改善鞋子生产环境。

Description

一种鞋底粘接前处理方法

【技术领域】

本发明涉及鞋子生产工艺，尤其是一种鞋底粘接前处理方法。

【背景技术】

鞋底包括大底、中底和内底，目前，制鞋行业中的鞋底所用的材料有橡胶、EVA和人造革、皮革等材料，其表面为惰性材料，在上胶粘接前，都需要将大底和中底用处理剂进行表面处理，才能达到一定的接合强度，通常采用化学腐蚀法和化学接枝法对其进行表面处理。

用橡胶材料作为鞋底的鞋子，现有技术中的粘接方法是：对橡胶鞋底用依次用碱性液体进行清洗，用酸性液体中和清洗，用清水漂洗，接着烘干橡胶鞋底，人工涂刷橡胶处理剂进行化学腐蚀，再烘干，最后进行上胶粘接。该橡胶处理剂主要成分为添加有机溶剂的合成树脂。

用EVA材料作为鞋底的鞋子，现有技术中的粘接方法是：对EVA鞋底依次用碱性液体进行清洗，用酸性液体中和清洗，用清水漂洗，接着烘干EVA鞋底，人工涂刷EVA处理剂，以腐蚀EVA鞋底产生粗糙粘接面。该EVA处理剂主要成分为丁酮、环己酮和碳酸甲基脂的混合物。

采用上述粘接方法有以下缺点：

第一，排放大量的VOC和工业废水；

第二，工序繁杂，需要工人在鞋底表面涂覆试剂，人工成本高；

第三，耗能大、占用厂房空间多，致使生产成本高；

第四，VOC排放高，毒性强，严重影响现场工人的身体健康。

本发明即针对上述问题的不足而研究提出。

【发明内容】

本发明要解决的技术问题是提供一种鞋底粘接前处理方法，首先通入臭氧，并利用UVC灯管产生波段为254nm和185nm的紫外光a，照射在大底和中底的粘接面上，以去除大底和中底的粘接面上的有机污物，然后清洗大底和中底，接着用UV灯管产生波段为185nm的紫外光b对大底和中底的粘接面进行蚀刻，使粘接面变粗糙，再用红外线烘干大底和中底，最后在大底和中底的粘接面上涂覆胶水，以完成上胶。采用紫外光a和紫外光b作用大底和中底粘接面，发生光敏氧化反应，不仅可以有效去除大底和中底粘接面上的有机污物，而且还能够提高大底和中底粘接面的浸润性和粘合强度，具有环保、节能和高效的特点，避免了用化学试剂直接腐蚀粘接面而产生对人体有害的VOC，改善鞋子生产环境。

为解决上述技术问题，本发明一种鞋底粘接前处理方法，所述鞋底包括大底和中底，其特征在于依次包括如下步骤：

A、通入臭氧和用紫外光a对大底和中底的粘接面进行照射，使大底和中底上的有机污物被氧化，以去除大底和中底上的有机污物；

B、清洗由A步骤所得的大底和中底；

C、通入臭氧和用紫外光b照射大底和中底的粘接表面，以蚀刻大底和中底的粘接表面；

D、烘干由C步骤所得的大底和中底；

E、对D步骤所得的大底和中底的粘接面涂覆粘接胶水，以完成上胶。

所述A步骤中紫外光a波段为254nm和185nm，由VUC灯管产生。

所述B步骤通过超声波或者低温等离子进行清洗。

所述C步骤中紫外光b波段为185nm，由UV灯管产生。

所述D步骤中通过红外烤箱进行烘干。

本发明一种鞋底粘接前处理方法，首先通入臭氧，并利用UVC灯管产生波段为254nm和185nm的紫外光a，照射在大底和中底的粘接面上，以去除大底和中底的粘接面上的有机污物，然后清洗大底和中底，接着用UV灯管产生波段为185nm的紫外光b对大底和中底的粘接面进行蚀刻，使粘接面变粗糙，再用红外线烘干大底和中底，最后在大底和中底的粘接面上涂覆胶水，以完成上胶。采用紫外光a和紫外光b作用大底和中底粘接面，发生光敏氧化反应，不仅可以有效去除大底和中底粘接面上的有机污物，而且还能够提高大底和中底粘接面的浸润性和粘合强度，具有环保、节能和高效的特点，避免了用化学试剂直接腐蚀粘接面而产生对人体有害的VOC，改善鞋子生产环境。

【附图说明】

图1为本发明实施的示意图。

【具体实施方式】

下面对本发明的实施方式作详细说明。

本发明一种鞋底粘接前处理方法，所述鞋底包括大底和中底，其特征在于依次包括如下步骤：

A、通入臭氧和用紫外光a对大底和中底的粘接面进行照射，使大底和中底上的有机污物被氧化，以去除大底和中底上的有机污物，紫外光a VUC灯管发出，波段为254nm和185nm，紫外光a可以直接打开或切断有机污物分子中的共价键，使有机污物由大分子结构变为小分子结构，同时波段为185nm的光能量将空气中的O2合成O3，而波段为254nm的光能量又将O3分解为O2和游离态的活性氧O，在这个光敏氧化反应的过程中，有机污物分子中被破坏的共价键与游离态的活性氧O反应，并生成相应的CO2和H2O，从而达到去除大底和中底上的有机污物，使之清洁；波段为185nm紫外光与空气作用可产生有强氧化作用的臭氧，可有效地杀灭细菌，且臭氧能够吸收99％以上的紫外光，波段为254nm的紫外光则具有高效的杀菌能力，可以有效去除有机污物；

B、清洗由A步骤所得的大底和中底，经过A步骤的处理，大底和中底上的有机污物被O₃氧化，此时需要将残留物质进一步清理，可选用超声波或者低温等离子进行清洗，当选用超声波进行清洗时，可加入专用的清洗剂对大底和中底进行清洗；

C、通入臭氧和用紫外光b照射大底和中底的粘接表面，以蚀刻大底和中底的粘接表面，使其粘接面被蚀刻而变粗糙，紫外光b由UV灯管发出，波段为185nm，可对大底和中底的粘接面进行蚀刻，当粘接面因蚀刻而变粗糙，使得大底和中底粘接时具有更好的浸润性和粘合强度；

D、烘干由C步骤所得的大底和中底，即通过红外加热烘干大底和中底上水分；

E、对D步骤所得的大底和中底的粘接面涂覆粘接胶水，以完成上胶。

图1为本发明实施的示意图，包括第一输送轨道1和第二输送轨道2，所述第一输送轨道1和第二输送轨道2之间设有清洗装置3，清洗装置3可以选用超声波清洗或者低温等离子进行清洗，所述第一输送轨道1和第二输送轨道2上方均设有罩壳4，所述罩壳4上设有臭氧进气口5和臭氧出气口6，以及连通臭氧进气口5和臭氧出气口6的臭氧腔室7，所述罩壳4上还设有用于产生紫外光以照射大底和中底的灯管8，位于第一输送轨道1上的灯管8为UVC灯管，位于第二输送轨道2上的灯管8为UV灯管，所述第二输送轨道2末端设有红外干燥装置9，以对完成蚀刻的大底和中底进行烘干。

大底和中底输随第一输送轨道1输送至其上的罩壳4内，罩壳4上的臭氧出气口6喷出臭氧，同时UVC灯管发出波段为254nm和185nm的紫外光a，并照射在大底和中底的粘接表面，紫外光a破坏有机污物的共价键，臭氧则与之反应，生成相应的CO₂和H₂O，从而达到去除大底和中底上的有机污物；接着利用超声波将大底和中底放入清洗池中，对粘接面进行清洗；完成清洗后再由输送轨道2将大底和中底输送至输送轨道2上的罩壳4内，在该罩壳4内，臭氧出气口6喷出臭氧，同时UV灯管发出波段为185nm的紫外光b，照射在大底和中底的粘接面上，使其被蚀刻粗糙、凹凸不平，满足大底和中底粘接时具有更好的浸润性和粘合强度；再者，第二输送轨道2将完成蚀刻的大底和中底输送到红外干燥装置9中，将其表面上的水分进行烘干，避免影响大底和中底上胶后相互粘接的效果。

本发明利用光敏氧化反应，可对包括采用橡胶、EVA、人造皮、皮革等材料为鞋底进行表面清洁处理，再利用短波紫外光能量对大底和中底的粘接面进行蚀刻。与现有技术相比，本发明具有以下优点：

1、成本低，避免使用各种表面处理剂和降低能耗以及减少人工，现有技术中需要的处理剂价格高，且用量大，因此本发明显著降低制鞋成本；

2、环保安全，避免使用由各种有机溶剂为组分的表面处理剂，显著降低了制鞋企业的VOC排放，杜绝了其中的有机溶剂挥发气体对工人健康的伤害，改善了制鞋企业工人的工作环境。

3、效率高，减少了采用大量人工的工序，提高了制鞋企业的自动化水平和劳动效率。

Claims (5)

1.一种鞋底粘接前处理方法，所述鞋底包括大底和中底，其特征在于依次包括如下步骤：

A、通入臭氧和用紫外光a对大底和中底的粘接面进行照射，使大底和中底上的有机污物被氧化，以去除大底和中底上的有机污物；

B、清洗由A步骤所得的大底和中底；

C、通入臭氧和用紫外光b照射大底和中底的粘接表面，以蚀刻大底和中底的粘接表面；

D、烘干由C步骤所得的大底和中底；

E、对D步骤所得的大底和中底的粘接面涂覆粘接胶水，以完成上胶。

2.按权利要求1所述一种鞋底粘接前处理方法，其特征在于所述A步骤中紫外光a波段为254nm和185nm，由VUC灯管产生。

3.按权利要求1所述一种鞋底粘接前处理方法，其特征在于所述B步骤通过超声波或者低温等离子进行清洗。

4.按权利要求1所述一种鞋底粘接前处理方法，其特征在于所述C步骤中紫外光b波段为185nm，由UV灯管产生。

5.按权利要求1所述一种鞋底粘接前处理方法，其特征在于所述D步骤中通过红外烤箱进行烘干。