CN104129916A - 一种光纤预制棒的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光纤预制棒的制造方法,包括:(1)选取基管;(2)以氧气作为载体将待反应的原料载带进基管内部;(3)加热基管;(4)静待基管冷却;(5)在基管的内壁上形成若干沉积层;(6)将基管内部没有反应完全的原料带出基管。通过上述方式,本发明光纤预制棒的制造方法具有方法新颖、厚度均匀、沉积稳定、传输特性优良、制造精密、生产效率提高、品质优化、产品使用寿命长等优点,在光纤预制棒的制造方法的普及上有着广泛的市场前景。
Description
技术领域
本发明涉及电子电器领域,特别是涉及一种光纤预制棒的制造方法。
背景技术
随着现代社会与技术的不断进步,电子电器产品逐渐走上了生活与工业的舞台,电子电器产品的更新换代也日趋加速,主要包括电子电器工具、电子电器零部件和安防电子电器等等,其中各个电子电器之间的连接问题日益突出,传输线本体就应运而生,而影响传输线本体质量的因素主要包括绝缘效果、信号屏蔽效果、传输速率等,其中光纤是数据传输的主要载体之一,而现有的光纤预制棒的制造方法程序冗杂、预制棒的端口的沉积层厚度偏小,从而导致传输特性差、产品品质低、传输品质有待提高。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种光纤预制棒的制造方法,通过使用流程化管理生产的步骤,对每个步骤严格把控,对基管内壁反复沉积形成沉积层,有利于进行风险控制、品质优化,从而提升产品的使用寿命和传输特性,在光纤预制棒的制造方法的普及上有着广泛的市场前景。
为解决上述技术问题,本发明提供一种光纤预制棒的制造方法,包括以下步骤:
(1)选取基管:选取粗细均匀、高纯度、低水分、低杂质的石英管作为基管;
(2)在基管的一端以氧气作为载体将待反应的原料载带进基管内部,原料的质量百分比包括二氧化硅75~85%、二氧化锗4~8%、五氧化二磷4~7%、氟氧化硅4~6%和氧化硼3~4%;
(3)在基管的外侧点燃氢氧焰达到1900℃的温度来加热基管,从而间接加热基管内部的反应原料,使之沉积在基管的内壁上形成第一沉积层;
(4)撤去氢氧焰,静待基管冷却;
(5)待基管冷却后反复重复步骤(2)、步骤(3)和步骤(4),在基管的内壁上形成若干沉积层;
(6)待若干沉积层完成之后,继续使用氧气作为载体将基管内部没有反应完全的原料带出基管,进行收集并洗涤。
在本发明一个较佳实施例中,步骤(1)中的所述石英管的横向直径的范围为2~20mm。
在本发明一个较佳实施例中,步骤(2)中的所述原料的颗粒直径为150~200目。
在本发明一个较佳实施例中,步骤(2)中的所述氧气与所述原料的流量均匀。
在本发明一个较佳实施例中,步骤(4)中的温度要求冷却到80℃以下。
本发明的有益效果是:本发明光纤预制棒的制造方法具有方法新颖、厚度均匀、沉积稳定、传输特性优良、制造精密、生产效率提高、品质优化、产品使用寿命长等优点,在光纤预制棒的制造方法的普及上有着广泛的市场前景。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例包括:
一种光纤预制棒的制造方法,包括以下步骤:
(1)选取基管:选取粗细均匀、高纯度、低水分、低杂质的石英管作为基管,基管的水分低、纯度高、杂质低有利于提高信号的传输速率、传输带宽、传输品质;
(2)在基管的一端以氧气作为载体将待反应的原料载带进基管内部,其中氧气既作为载体又作为反应气体,原料的质量百分比包括二氧化硅75~85%、二氧化锗4~8%、五氧化二磷4~7%、氟氧化硅4~6%和氧化硼3~4%,其中二氧化硅在基管的内沉积星辰高纯度的玻璃,二氧化锗使得二氧化硅玻璃基体折射率变大,是形成光纤预制棒芯层的优选物质;
(3)在基管的外侧点燃氢氧焰达到1900℃的温度来加热基管,从而间接加热基管内部的反应原料,各个原料分别进行反应,使之沉积在基管的内壁上形成第一沉积层;
(4)撤去氢氧焰,静待基管冷却;
(5)待基管冷却后反复重复步骤(2)、步骤(3)和步骤(4),在基管的内壁上形成若干沉积层,以往的光纤预制棒的制作方法容易导致在基管的端口形成偏薄的沉积层,从而影响了沉积层分布的均匀度、影响光纤的传输特性、或者无形增加了工序的复杂度,这里反复加热反复冷却以形成若干层沉积层,从而有利于改善光纤芯层的均匀度;
(6)待若干沉积层完成之后,继续使用氧气作为载体将基管内部没有反应完全的原料带出基管,进行收集并洗涤。
优选地,步骤(1)中的所述石英管的横向直径的范围为2~20mm,符合一般光纤的使用制作标准,选择性广、适用性强。
优选地,步骤(2)中的所述原料的颗粒直径为150~200目,颗粒细小,从而方便载带、提高了反应的充分性和反应速率。
优选地,步骤(2)中的所述氧气与所述原料的流量均匀恒定,流量使用仪器精密控制,从而有利于提升沉积层的均匀度,一般在原料中还添加一定的氯气和氦气,氯气用于干燥气体,可有效降低反应物和沉积物中水分,氦气用于改善气相混合物的热扩散性能。
优选地,步骤(4)中的温度要求冷却到80℃以下,有利于若干沉积层的充分固化,坚固耐用。
本发明光纤预制棒的制造方法的有益效果是:
一、通过采用流程化管理生产的步骤,对每个步骤严格把控,对基管内壁反复沉积形成沉积层,有利于进行风险控制、品质优化,从而提升产品的使用寿命和传输特性;
二、通过在基管的内壁上反复形成沉积层,克服了以往的光纤预制棒的制作方法容易导致在基管的端口形成偏薄的沉积层的缺点,从而有利于改善沉积层分布的均匀度和影响光纤的传输特性;
三、相对于一般的光纤预制棒的制造方法,这里的光纤预制棒的制造方法的原料的质量百分比包括二氧化硅75~85%、二氧化锗4~8%、五氧化二磷4~7%、氟氧化硅4~6%和氧化硼3~4%,经过大量的实验和长期的实践表明,该配方下的原料形成的沉积层质量最好,品质最优。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (5)
1.一种光纤预制棒的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)选取基管:选取粗细均匀、高纯度、低水分、低杂质的石英管作为基管;
(2)在基管的一端以氧气作为载体将待反应的原料载带进基管内部,原料的质量百分比包括二氧化硅75~85%、二氧化锗4~8%、五氧化二磷4~7%、氟氧化硅4~6%和氧化硼3~4%;
(3)在基管的外侧点燃氢氧焰达到1900℃的温度来加热基管,从而间接加热基管内部的反应原料,使之沉积在基管的内壁上形成第一沉积层;
(4)撤去氢氧焰,静待基管冷却;
(5)待基管冷却后反复重复步骤(2)、步骤(3)和步骤(4),在基管的内壁上形成若干沉积层;
(6)待若干沉积层完成之后,继续使用氧气作为载体将基管内部没有反应完全的原料带出基管,进行收集并洗涤。
2.根据权利要求1所述的光纤预制棒的制造方法,其特征在于,步骤(1)中的所述石英管的横向直径的范围为2~20mm。
3.根据权利要求1所述的光纤预制棒的制造方法,其特征在于,步骤(2)中的所述原料的颗粒直径为150~200目。
4.根据权利要求1所述的光纤预制棒的制造方法,其特征在于,步骤(2)中的所述氧气与所述原料的流量均匀。
5.根据权利要求1所述的光纤预制棒的制造方法,其特征在于,步骤(4)中的温度要求冷却到80℃以下。
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CN201410405372.2A CN104129916A (zh) | 2014-08-18 | 2014-08-18 | 一种光纤预制棒的制造方法 |
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US20030167800A1 (en) * | 2002-03-11 | 2003-09-11 | Atkins Robert M. | Soot layer formation for solution doping of glass preforms |
EP1705157A1 (en) * | 2005-03-22 | 2006-09-27 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing microstructured optical fiber |
CN103576235A (zh) * | 2013-10-30 | 2014-02-12 | 中国电子科技集团公司第二十三研究所 | 一种温度稳相光纤及其制备方法 |
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2014
- 2014-08-18 CN CN201410405372.2A patent/CN104129916A/zh active Pending
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CN103576235A (zh) * | 2013-10-30 | 2014-02-12 | 中国电子科技集团公司第二十三研究所 | 一种温度稳相光纤及其制备方法 |
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