CN104096528A - 新型环氧漆反应釜 - Google Patents

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王宁
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Abstract

新型环氧漆反应釜，包括桶体、设置于桶体内的搅拌轴、设置于桶体顶部的进料口、信号处理器和设置于桶体底部的出料口，所述出料口底端设置有过滤网，所述搅拌轴上设有沿绞龙方向布置的搅拌桨，搅拌轴的中部还设置有两根对称布置的连杆，连杆末端设有与桶体内壁相匹配的刮板，搅拌轴末端设有浓度传感器，搅拌轴末端还设有横梁，所述横梁上连接有与桶体底部匹配的侧搅拌装置。本发明搅拌具有涡流的现象，提高了翻料混料的效果，搅拌漆料更加均匀，使产品性能均匀，不会焦化，同时避免了均匀混合的料液中出现较大杂质，增加了物料的混合效果。

Description

新型环氧漆反应釜
技术领域
本发明涉及漆料加工领域，具体为一种新型环氧漆反应釜。
背景技术
一般而言，对组成中含有较多环氧基团的双组分环氧涂料统称为环氧漆。环氧漆的主要品种是双组分或三组分环氧漆，由环氧树脂和固化剂组成。它们以一定的比例混合，再通过热挤塑和粉碎过筛等工艺制备而成。它们在常温下，贮存稳定，经静电喷涂、摩擦喷涂(热固方法)或流化床浸涂(热塑方法)，再加热烘烤熔融固化，使形成平整光亮的永久性涂膜，达到装饰和防腐蚀的目的，其中大量使用的环氧树脂，生产工艺一般采用三釜反应体系(打桨釜、酯化/酯交换釜、缩聚釜)；反应釜的搅拌器是单一的斜桨或锚型桨，各个阶段的搅拌速率固定，此种设计不适于环氧树脂单釜生产的搅拌要求，搅拌方式、转速固定，搅拌效果不是很理想，而且由于缺乏浓度检测装置，随着反应的进行，分子量不断增大，使得物料浓度、粘度不断加大，以至反应釜边缘的物料无法搅起，导致产品性能不均匀，甚至出现焦化的现象。同时现有的反应釜出料口没有过滤装置，不能过滤搅拌均匀的料液中颗粒较大的杂质，影响了物料混合效果。
发明内容
本发明所解决的技术问题在于提供一种新型环氧漆反应釜，以解决上述背景技术中提出的问题。
本发明所解决的技术问题采用以下技术方案来实现：
新型环氧漆反应釜，包括桶体、设置于桶体内的搅拌轴、设置于桶体顶部的进料口、信号处理器和设置于桶体底部的出料口，所述出料口底端设置有过滤网，所述搅拌轴上设有沿绞龙方向布置的搅拌桨，搅拌轴的中部还设置有两根对称布置的连杆，连杆末端设有与桶体内壁相匹配的刮板，搅拌轴末端设有浓度传感器，搅拌轴末端还设有横梁，所述横梁上连接有与桶体底部匹配的侧搅拌装置。
进一步的，所述刮板、侧搅拌装置距桶体的距离为0.5～4.5cm，且刮板、侧搅拌装置上均设有减阻孔。
有益效果
本发明搅拌具有涡流的现象，提高了翻料混料的效果，搅拌漆料更加均匀，使产品性能均匀，不会焦化，同时避免了均匀混合的料液中出现较大杂质，增加了物料的混合效果。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图2为本发明中过滤网的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的实现技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本发明。
如图1所示，新型环氧漆反应釜，包括桶体1、设置于桶体1内的搅拌轴9、设置于桶体1顶部的进料口2、信号处理器11和设置于桶体1底部的出料口3，所述出料口3底端设置有过滤网12，所述搅拌轴9上设有沿绞龙方向布置的搅拌桨4，搅拌轴9的中部还设置有两根对称布置的连杆5，连杆5末端设有与桶体1内壁相匹配的刮板6，搅拌轴9末端设有浓度传感器10，搅拌轴9末端还设有横梁7，所述横梁7上连接有与桶体1底部匹配的侧搅拌装置8。所述刮板6、侧搅拌装置8距桶体的距离为0.5～4.5cm，且刮板6、侧搅拌装置8上均设有减阻孔。本发明搅拌具有涡流的现象，提高了翻料混料的效果，搅拌漆料更加均匀，使产品性能均匀，不会焦化，同时避免了均匀混合的料液中出现较大杂质，增加了物料的混合效果。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明的要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (2)

1.新型环氧漆反应釜，包括桶体、设置于桶体内的搅拌轴、设置于桶体顶部的进料口、信号处理器和设置于桶体底部的出料口，所述出料口底端设置有过滤网，所述搅拌轴上设有沿绞龙方向布置的搅拌桨，搅拌轴的中部还设置有两根对称布置的连杆，连杆末端设有与桶体内壁相匹配的刮板，搅拌轴末端设有浓度传感器，搅拌轴末端还设有横梁，所述横梁上连接有与桶体底部匹配的侧搅拌装置。
2.根据权利要求1所述的新型环氧漆反应釜，其特征是：所述刮板、侧搅拌装置距桶体的距离为0.5～4.5cm，且刮板、侧搅拌装置上均设有减阻孔。
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Date Code Title Description
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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