CN104080385B - 具有空气动力振荡器的清洁装置 - Google Patents

Abstract

用于清洁具有面纱(74)的地毯(70)的清洁装置(1)，所述面纱(74)从大体平面的背衬(72)延伸过若干毫米的距离以限定地毯表面(76)，所述清洁装置(1)包括：振荡器单元(30)，其包括振荡器(32)；振荡空间(34)，所述振荡空间(34)由振荡器的至少部分限定或者容纳振荡器的至少部分，并且可通过射流开口(36)通达，外围流体在振荡器的操作期间经由射流开口(36)被交替地吸入振荡空间中以及从振荡空间排出；喷嘴(10)，其包括限定所述射流开口的地毯表面穿透器(14)；支撑结构(12)，其被构造成抵靠地毯支撑喷嘴，以使得在喷嘴抵靠地毯的支撑状态下，穿透器穿透地毯表面并且射流开口至少部分地布置在地毯表面以下。

Description

具有空气动力振荡器的清洁装置

技术领域

本发明涉及一种清洁装置，该清洁装置包括振荡器单元，所述振荡器单元构造成以气动方式搅动表面，例如地板覆盖物，诸如地毯，并且由此首先逐出并随后移除捕获在其中的污物颗粒，例如灰尘。

背景技术

在本领域中，已经公开了各种真空清除装置，它们的工作原理是基于振动空气波或者空气流以促进污物从地毯的释放。相比于仅使用稳定气流抽吸来从地毯释放并移除污物二者的常规真空清洁器，振动空气波的使用可以提供更好的污物释放能力，并且避免了典型地由采用机械式搅动系统（诸如击打或旋转刷）的真空清洁器所造成的地毯磨损。

基于振动空气波的真空清洁器的示例在美国专利NO.5,400,466(Alderman等人)中公开。该真空清洁器的特征在于用于应用到地毯的空气振动抽吸喷嘴，其中通过支撑且密封在喷嘴壳体中的转换器（诸如扬声器）产生的空气振动使地毯及捕获在其中的污物振动，以便使得污物颗粒从地毯松脱以使它们能够通过抽吸喷嘴被吸入到真空清洁器中。

已知DE880474C提供了一种用于清洁具有面纱的地毯的清洁装置，所述面纱从大体平面的背衬延伸过若干毫米的距离以限定地毯表面，所述清洁装置包括：振荡器单元，其包括振荡器；振荡空间，其至少部分地由振荡器限定或者容纳振荡器的至少部分，并且可通过射流开口通达，外围流体在振荡器的操作期间经由该射流开口被交替地吸入振荡空间中和从振荡空间排出；以及喷嘴，其包括支撑结构，该支撑结构构造成抵靠地毯支撑喷嘴。

发明内容

已知的基于振动空气波或空气流的真空清洁器的缺陷包括：它们经常受到次优的清洁性能的影响，并且完全依赖于额外抽吸系统的存在来提供将从地毯释放的污物运输到某种类型的污物收集容器的空气流。

本发明的目的在于克服或减轻与已知的基于振动空气的真空清洁器有关的一个或多个上述缺陷。

根据本发明的用于清洁具有面纱（该面纱从大体平面的背衬延伸过若干毫米的距离以限定地毯表面）的地毯的清洁装置的特征在于地毯表面穿透器，该地毯表面穿透器限定所述射流开口并且从支撑结构突出，以便在其中支撑结构抵靠地毯支撑的喷嘴的支撑状态下，地毯表面穿透器穿透地毯表面并且射流开口至少部分地布置在支撑结构和地毯表面以下。

振荡器单元可以构造成交替地（例如以数百赫兹的频率）分别实现外围流体进入其振荡空间的入流以及流出其振荡空间的出流。使地毯承受快速变化的外围流体流可以搅动并且逐出捕获在其中的污物，并且导致污物被夹带在流体流中。振荡器单元可以用来在入流时从地毯抽吸夹带在外围流体中的污物并且在出流时射出污物二者。此外，所述单元可以如此设计以便确保外围流体的入流和出流方向是不相同的。相应地，外围空气的入流可以包含来自/通过地毯的流体流，而出流可以包含远离所述地毯的流体流，例如朝向污物收集器具或进入朝向这种器具的辅助污物运输流体流中。

本发明的关键方面在于地毯表面穿透器，该地毯表面穿透器限定振荡器单元的射流开口并且允许射流开口被至少部分地定位在地毯表面以下，即位于地毯的面纱或面绒的内部/以内。如下面将更详细地阐明和讨论的，射流开口相对于地毯表面水平的位置对于振荡器将污物从地毯面纱中逐出的有效性是最为重要的。在喷嘴抵靠地毯的支撑状态下，穿透器穿透地毯表面至这样的程度使得射流开口基本上布置在地毯表面以下。更具体地，在大约九毫米的典型面纱长度的情况下，射流开口可以在操作期间优选地布置在地毯表面以下0.5到2mm之间，其中该距离（只要关系到射流开口的位置）可以从射流开口的接近地毯背衬的圆周边缘部分测量。

为了确保地毯表面穿透器穿透地毯至最佳程度（如刚才所述的），清洁装置的喷嘴装配有支撑结构。该支撑结构构造成抵靠地毯支撑喷嘴，即要么抵靠地毯的背衬要么抵靠地毯的地毯表面支撑。

为了抵靠地毯的背衬支撑喷嘴，喷嘴的支撑结构可以包括一个或者多个轮或者间隔物。

为了抵靠地毯的地毯表面支撑喷嘴，喷嘴的支撑结构可以包括大体平面的、优选地光滑的外部支撑表面。穿透器的至少一部分可以从此外部支撑表面向外突出，以便使得由穿透器限定的射流开口被至少部分地布置在支撑表面以外，并且优选地使得整个射流开口基本上布置在支撑表面以外，特别地与其相距0.5-2mm范围内的距离（只要关系到射流开口的位置，该距离可以从射流开口的远离外部支撑表面的圆周边缘部分测量）。在使用期间，外部支撑表面可以支承在地毯表面上，其由此可以方便地限定用于穿透器的高度基准。支撑表面的光滑表面轮廓可以进一步保证喷嘴跨地毯的容易且不受阻碍的运动。将清楚的是，为了确保这种不受阻碍的运动，突出的穿透器可以优选地还具有光滑轮廓以便避免其咬合(catch)在地毯的面纱上。

在清洁装置的一个实施例中，振荡空间可以限定典型地导管或者管道状的射流通道，射流开口设置在该射流通道的末端处。在射流开口处，射流通道可以在射流方向上向外延伸。

在喷嘴抵靠地毯的支撑状态下，射流方向可以优选地背离地毯的背衬，以确保从地毯抽吸的包含污物的外围流体将不会再次排回到地毯中/喷回到地毯中。在喷嘴抵靠地毯的支撑状态下，射流方向可以优选地背离地毯的背衬，并且包括与其在15-45度的范围内的角度。在该范围内的角度已被发现能够允许外围流体从地毯的合适入流以及外围流体在远离地毯的方向上的合适出流二者。

为了增强在外围流体进入振荡空间的管道状射流通道的入流与外围流体排出该射流通道的出流之间的不对称性，并且更具体地，为了防止外围流体的全向入流，限定射流通道的结构壁可以设有上颚(overshot)。即，在射流开口处，射流通道可以由具有第一部段和第二部段的射流通道壁限定。在喷嘴抵靠地毯的支撑状态下，第一部段可以接近地毯的背衬，而第二部段可以远离地毯的背衬，并且第二部段可以在射流方向上延伸超过第一部段。第二部段相对于第一部段的上颚可以增大外围流体从地毯侧进入射流通道中的入流，同时它可以降低外围流体从与地毯相对的那侧进入射流通道中的入流。相应地，由振荡器提供的抽吸力可以有利地集中在地毯上。在实际的实施例中，第二部段可以优选地延伸超过第一部段0.5-5mm。较小的上颚看起来产生较小的效果，而较大的上颚趋于阻止外围流体从射流开口前方的排泄并且只是占据喷嘴内的空间，由此不需要增大其尺寸。

在一个实施例中，清洁装置可以进一步包括流体抽吸单元，其包括：具有抽吸端的污物排泄管，在喷嘴抵靠地毯的支撑状态下，该抽吸端面向地毯；以及流体流发生器，该流体流发生器可操作地连接到污物排泄管而且被构造成通过在抽吸端处实现负压（相对于外界）而产生通过污物排泄管的流体流。振荡器单元的射流开口可以面向污物排泄管的抽吸端，以便在操作期间通过射流开口从振荡空间排出的流体被有效地注射到在抽吸端处所产生的流体流中且被夹带在其中。

根据以下关于本发明的一些实施例的详细描述并结合附图，将更完全地理解本发明的这些及其他特征和优点，这些实施例和附图旨在图示而非限定本发明。

附图说明

图1是根据本发明的清洁装置的示例性实施例的示意性截面侧视图，其包括具有振荡器的振荡器单元，该振荡器在操作中交替地使外围流体被吸入振荡器单元的振荡空间中以及从该振荡空间排出；

图2是以操作状态示出的图1的清洁装置的示意性截面侧视图，其中振荡器使外围流体被吸入振荡空间中；

图3是以操作状态示出的图1的清洁装置的示意性截面侧视图，其中振荡器使外围流体从振荡空间排出；以及

图4是示意图，其图示了振荡空间的射流开口和地毯表面的竖向距离（在曲线图的水平轴线上示出）与在打开的地毯部段内处于地毯背衬以上若干毫米的部位M处的竖直流体速度（v_M）之间的关系。

具体实施方式

图1是根据本发明的清洁装置1的示例性实施例的示意性截面侧视图，该清洁装置1布置在地毯70之上。在该示例性实施例中，装置1包括喷嘴10，喷嘴10的特征又在于集成的振荡器单元30。应理解，相互集成或不集成的喷嘴10和振荡器单元30可以在本身另外已知的（真空）清除装置中实现和/或与其一起使用。喷嘴10例如一般可以用在这种（真空）清洁装置的喷嘴或者清洁头的位置处，而振荡器单元30可以整体定位在喷嘴10内，或者部分地定位成远离喷嘴10/在喷嘴10外部，但总是使得喷嘴10的特征在于射流开口36，喷嘴10的直接外界经由该射流开口36与振荡器单元30的振荡空间34流体连通。在一个实施例中，例如，清洁装置1可以包括常规的真空清洁器，该常规的真空清洁器包括典型的轮式基部主体（容纳有气泵、集尘袋等等）以及经由柔性真空软管与之相连的喷嘴，其中振荡器32定位在基部主体中，而射流开口36定位在喷嘴中，并且其中振荡器32与射流开口经由振荡空间34流体连通，振荡空间34由例如在真空软管内或与真空软管并联的、从振荡空间34延伸到喷嘴10的管道限定。

根据本发明的清洁装置1具体地构造用于清洁具有面纱或（面）绒74的地毯或地毯状地板覆盖物70，所述面纱或（面）绒74从大体平面的背衬72延伸过若干毫米（典型地大约5-13mm，例如9mm）的距离以限定地毯表面76。图1至4中的每个因此描绘了在这种地毯70之上处于工作位置中的清洁装置1。

如在图1中所示，清洁装置1的喷嘴10可以包括壳体11。喷嘴壳体11在原理上可以由任何合适材料制成，但轻量化且结构上强固的壳体11可以优选地借助于塑料的注射成型来制造。

清洁装置1包括振荡器单元30，在所示的实施例中，振荡器单元30与喷嘴壳体11整合。振荡器单元30包括振荡器32和振荡空间34，该振荡空间34至少部分地由振荡器32限定或容纳振荡器32的至少部分，并且可经由射流开口36通达。

振荡器32可以典型地包括电声转换器，例如（高声）扩音器，其被构造成响应于来自信号源（未示出）的电气输入信号而在存在于振荡空间34中的流体中产生压力振荡。振荡器32可以设置成产生具有数百赫兹量级的频率的振荡，例如在100-300Hz的范围内。每个振荡可以限定抽吸阶段和排出阶段，在其期间外围流体经由射流开口36被分别吸入振荡空间34中以及从振荡空间34排出。振荡器单元30的尺寸可以设计成使得当振荡器频率在100-300Hz的范围内时，射流开口36处的流体速度在近似30-60m/s的范围内。

振荡空间34可以由喷嘴壳体11内的空腔形成，并且至少部分地由振荡器32限定。例如，在振荡器32是动态扬声器的情形中，扬声器的可移动振膜或者椎体可以限定界定空腔的壁的一部分。替代地，振荡空间34可以总体上由喷嘴10的静止（即，不可动）的内壁限定，并且振荡器32可以简单地布置在振荡空间34内。振荡空间34可以限定管道状的射流通道38，射流开口36可以设置在射流通道38的末端处。就原理而论，射流通道38可具有任何合适的截面，并且射流开口36可具有任何合适的形状。

振荡器单元30整体来看可以优选地构造成使得在它的操作期间，振荡的抽吸阶段和排出阶段之间存在不对称性。在抽吸阶段期间，外围流体可以从不同方向经由射流开口36被吸入振荡空间34中，而在排出阶段期间，先前吸入的相同外围流体可以在被引导的、所称的“合成”射流中排出。该不对称性在图2和3中示意性地示出，其中前者图示了抽吸阶段，并且后者图示了排出阶段。在数学上，所期望的不对称性可以依据与振荡器单元30的设计和操作相关联的斯特劳哈尔数(Strouhalnumber)来描述。在该上下文中，斯特劳哈尔数St可以定义为：

其中f是振荡器32的频率[Hz]，d是射流开口36的特征尺寸[m]，以及v是在振荡的排出阶段期间在射流开口36处的平均流体速度[m/s]。作为经验方法，斯特劳哈尔数≤1可以被认为保证了在流体从振荡空间34经由射流开口36排出时最小的不对称操作和射流形成。然而，斯特劳哈尔数不能超出的最大值可以具体地涉及射流开口36的特性。例如，如果射流开口36是轴对称的开口（例如圆形开口），则其直径可以作为它的特征尺寸d，并且斯特劳哈尔数可以优选地是≤0.5。替代地，如果射流开口36具有长度a的短边和长度b的长边的细长矩形形状（其中b＞＞a），则短边的长度a可以作为射流开口36的特征尺寸，并且斯特劳哈尔数可以优选地是≤0.25，并且更优选地是≤0.10。关于合成射流形成和标准的更详细信息因此能够在AIAAJournal（2005）第43(10)卷第2110-2116页由R.Holman,Y.Utturkar,R.Mittal,B.L.Smith和L.Cattafesta发表的“FormationCriterionforSyntheticJets”以及在AIAAPaper2004-00090（2004）中由J.M.Shuster和D.R.Smith发表的“AStudyoftheFormationandScalingofaSyntheticJet”中发现，这两篇文章通过引用并入本文中。

至少在射流开口36处，振荡空间34的射流通道38可以在射流方向J上向外延伸。在操作期间，当喷嘴10抵靠地毯70支撑时，射流方向J可以优选地背离地毯的背衬72，以确保在抽吸阶段期间从地毯70抽吸的包含污物的外围流体将不会在随后的排出阶段期间再次排回到地毯70中。在优选实施例中，射流方向J可以优选地背离地毯的背衬72，并且包括与其在15-45度范围内的角度α（阿尔发）。在该范围内的角度已被发现能够允许外围流体从地毯70的合适入流和外围流体在远离地毯70的方向上的出流二者。

此外，为了增强外围流体进入振荡空间34的管道状射流通道38中的入流与外围流体从该射流通道38排出的出流之间的不对称性，并且更具体地，为了防止外围流体的全向入流，限定射流通道38的结构壁18、20可以设有上颚。即，在射流开口36处，射流通道38可以由具有第一部段18和第二部段20的射流通道壁限定。在喷嘴10抵靠地毯70的支撑状态下，第一部段18可以接近地毯的背衬72，而第二部段20可以远离地毯的背衬72，并且第二部段20可以在射流方向J上延伸超过第一部段18/射流开口36。第二部段20相对于第一部段的上颚可以增大外围流体从地毯70侧进入射流通道38中的入流，同时它可以降低外围流体从与地毯70相对的那侧进入射流通道38中的入流。相应地，由振荡器32提供的抽吸力可以有利地集中在地毯70上。在实际的实施例中，第二部段20可以优选地延伸超过第一部段18/射流开口360.5-5mm。较小的上颚看起来产生较小的效果，而较大的上颚趋于阻止外围流体从射流开口36前方的排泄并且只是占据喷嘴10内的空间，由此不需要增大其尺寸。

喷嘴10进一步包括地毯表面穿透器或者唇部14，所述地毯表面穿透器或者唇部14从喷嘴壳体11突出，并且限定振荡器单元30的射流开口36。地毯表面穿透器14可以用来在喷嘴10跨地毯70的面纱74移动时将面纱74间隔开，并且将射流开口36至少部分地定位在地毯表面76以下，即在面纱74内/中。射流开口36相对于地毯表面水平76的位置对于振荡器单元30从地毯70的面纱74逐出并移除污物的有效性是最为重要的。这可以借助于图4来说明，图4示出示意图，其图示了在抽吸阶段期间，射流开口36和地毯表面76之间的距离Δh（在曲线图的水平轴线上示出）与在展开的地毯部段内处于地毯背衬72以上若干毫米的部位M处的流体速度v_M之间的关系。距离Δh和流体速度v_M均与地毯背衬72垂直地测量，以使得Δh在射流开口36位于地毯70的面纱74以上/外部时是正的，并且v_M在局部外围流体速度远离地毯70指向时是正的。如所指示的，射流开口36的位置从射流开口36的接近地毯背衬72的圆周边缘部分测量。图4的曲线图中的曲线示出了在正好位于地毯表面76以下的位置处v_M的明显最大值。这能够通过以下认识来理解，其中在一方面，Δh的负值是通过将地毯表面穿透器14插入面纱72内实现的。所述插入导致面纱72的压缩和局部密化，其又阻碍了外围流体通过线纱72的流动，且由此阻碍了在抽吸阶段期间外围流体到射流开口36的供应。在另一方面，Δh的正值意味着射流开口36位于地毯表面76以上，这使得外围流体能从地毯表面76上方而非通过地毯绒头74吸入。因此，射流开口36的最佳位置看起来是至少部分地并且优选地基本上完全地位于地毯表面76以下。更具体地，在大约九毫米的典型面纱长度的情况下，射流开口36可以在操作期间布置在地毯表面76以下0.5到2mm之间。

为了确保地毯表面穿透器14穿透地毯绒头74至最佳程度（如刚才描述的），清洁装置1的喷嘴10装配有支撑结构。该支撑结构构造成抵靠地毯70支撑喷嘴壳体11，即要么抵靠地毯70的背衬72要么抵靠地毯70的地毯表面76支撑。

在喷嘴10构造成抵靠地毯的背衬72支撑的情况下，支撑结构可以例如包括布置在喷嘴10的底部或者界面侧的轮或者其它间隔物，以使得喷嘴10能够跨有待被清洁的地毯70滚动或滑动。该措施的一个缺陷在于，跨地毯70的运动可能不是完全光滑的，例如因为轮的旋转不流畅，或者因为间隔物周期性地咬合在面纱74上。另一缺陷在于，支撑结构支承在地毯的背衬72上基本上限定了背衬72的平面作为用于穿透器14的高度基准（而不是毯的表面76）。例如，当喷嘴10设置成将销孔式射流开口36定位在穿透器14中并与使用期间支撑结构将支承在其上的平面相距七毫米时，在地毯的面纱74具有九毫米的长度的情况下，射流开口将位于地毯表面76以下适当的两毫米。然而，在具有长度为大约十三毫米的面纱74的深绒头地毯的情况下，其将被定位在地毯表面76以下次优的六毫米，并且在具有长度为大约四毫米的面纱74的浅绒头地毯70的情况下，其将被定位在地毯表面76以上功能不良的三毫米。被构造成抵靠地毯的背衬72支撑喷嘴10的支撑结构因此可以优选地包括调整机构，以使得使用者能够依据面纱74的长度来调整穿透器相对于相应高度基准的距离。

为了防止这些问题，喷嘴10的支撑结构可以包括大体平面的、优选地光滑的外部支撑表面12以用于抵靠地毯表面76支撑喷嘴10。穿透器14的至少一部分可以从该外部支撑表面12向外突出，以使得由穿透器14限定的射流开口36至少部分地布置在支撑表面12以外，并且优选地使得基本上整个射流开口36布置在支撑表面12以外，特别地与其相距0.5-2mm范围内的距离。

在操作期间，振荡器单元30将周期性地从射流开口36排出包含污物颗粒的外围流体的射流。为了防止夹带在外围流体中的污物颗粒再次落回到地毯70上，射流可以对准其中允许安置污物的污物收集器具，该器具例如为提供在喷嘴壳体11中的污物收集/安置腔室（未示出）的形式。替代地，射流可以用来将夹带的污物颗粒注射到流向污物收集器具的辅助流体流中。为此目的，清洁装置1可以包括流体抽吸单元50、52，如在图中示出的。流体抽吸单元可以包括：污物排泄管50，其具有抽吸端51，在喷嘴10抵靠地毯70的支撑状态中，抽吸端51面向地毯70；以及流体流发生器52，其可操作地连接到污物排泄管50而且被构造成通过在抽吸端51处实现负压（相对于外界）而产生通过污物排泄管50的流体流。污物排泄管50可以典型地通往污物收集器具，诸如集尘袋或者旋风分离器（未示出）。在图中，流体流发生器52被示意性地显示为布置在污物排泄管50内的风扇。然而应理解，流体流发生器52可以具有任何合适的类型，并且例如包括（电动的）真空泵或者气泵，如在真空清洁器中常用的。振荡器单元30的射流开口36可以面向污物排泄管50的抽吸端51，以便在操作期间，通过射流开口36从振荡空间34排出的流体被有效地注射到在抽吸端51处所产生的流体流中并且夹带在其中，以被排泄到污物收集器具。

虽然在上文中，振荡器单元30已经被暗含地描述为具有一个射流开口36，但是应理解其可以实际上包括由一个或者多个表面穿透器限定的多个射流开口36。总体上，该多个射流开口36可以以任何合适的构造布置。例如在一个实施例中，多个射流开口36可以跨喷嘴壳体11的宽度或长度对准。在另一实施例中，可以提供两组多个射流开口36，其彼此相对地对称布置在例如流体抽吸单元的污物排泄管50的抽吸端51的相对侧上。

虽然上面已经部分地参考附图描述了本发明的图示性实施例，但是应理解，本发明不局限于这些实施例。根据对附图、公开以及所附权利要求的研究，本领域技术人员在实践要求保护的本发明时能够理解并实现所公开实施例的变型。在整个本说明书中，引用“一个实施例”或者“实施例”是指结合该实施例描述的特定特征、结构、或者特性被包含在本发明的至少一个实施例中。由此，在本说明书中不同位置处出现的短语“在一个实施例中”或者“在实施例中”未必都是引用同一实施例。此外，应指出，一个或多个实施例的特定特征、构造、或者特性可以以任何合适方式组合以形成新的未明确描述的实施例。

元件列表

1清洁装置

10喷嘴

11喷嘴壳体

12外部支撑表面

14穿透器

16射流通道壁*

18射流通道壁的第一或者底部部段

20射流通道壁的第二或者顶部部段

30振荡器单元

32振荡器

34振荡空间

36射流开口

38射流通道

50污物排泄管

51污物排泄管的抽吸端

52流体流发生器

70地毯

72背衬

74面纱

76地毯表面

J射流方向

α射流通道相对于地毯表面的角度

d射流开口的特征尺寸

f振荡器频率

Δh射流开口和地毯表面之间的竖直距离

v在流体从振荡空间排出时射流开口处的平均流体速度

v_M在展开的地毯部段内处于地毯背衬以上若干毫米的部位M处的竖直流体速度

Claims (7)

1.一种用于清洁具有面纱(74)的地毯(70)的清洁装置(1)，所述面纱(74)从大体平面的背衬(72)延伸过若干毫米的距离以限定地毯表面(76)，所述清洁装置(1)包括：

振荡器单元(30)，其包括：

振荡器(32)；

振荡空间(34)，其至少部分地由所述振荡器限定或者容纳所述振荡器的至少部分，并且可通过射流开口(36)通达，外围流体在所述振荡器的操作期间经由所述射流开口(36)被交替地吸入所述振荡空间中以及从所述振荡空间排出；

喷嘴(10)，其包括

被构造成抵靠地毯支撑所述喷嘴的支撑结构(12)，以及地毯表面穿透器(14)，所述地毯表面穿透器(14)限定所述射流开口并且从所述支撑结构(12)突出，以使得在其中所述支撑结构(12)抵靠地毯支撑的所述喷嘴的支撑状态下，所述地毯表面穿透器(14)穿透所述地毯表面，其中所述射流开口布置在所述支撑结构(12)和所述地毯表面以下，且其中所述射流开口背离所述地毯的背衬（72）。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其中，在所述喷嘴(10)抵靠地毯(70)的支撑状态下，所述射流开口布置在所述地毯表面以下0.5到2mm之间。

3.根据权利要求1至2中任一项所述的清洁装置，其中所述振荡空间(34)限定射流通道(38)，所述射流开口(36)设置在所述射流通道(38)的末端处，并且

其中所述射流通道(38)在所述射流开口(36)处由具有第一部段(18)和第二部段(20)的射流通道壁限定并且所述第二部段(20)在射流方向(J)上延伸超过所述第一部段(18)，其中在所述喷嘴(10)抵靠地毯的支撑状态下，所述射流方向(J)与所述地毯的背衬(72)成15-45度范围内的角度。

4.根据权利要求3所述的清洁装置，其中，在所述喷嘴(10)抵靠地毯(70)的支撑状态下，所述第一部段(18)接近所述地毯的背衬(72)，而所述第二部段(20)远离所述地毯的背衬。

5.根据权利要求4所述的清洁装置，其中所述第二部段(20)延伸超过所述第一部段(18)0.5-5mm。

6.根据权利要求1至2中任一项所述的清洁装置，其被构造成使得在操作期间可实现以下标准：

，

其中f是所述振荡器(32)的频率，d是所述射流开口(36)的特征尺寸，以及v是在流体从所述振荡空间(34)排出时所述射流开口处的平均流体速度。

7.根据权利要求1至2中任一项所述的清洁装置，进一步包括：

流体抽吸单元，其包括：

具有抽吸端(51)的污物排泄管(50)，所述抽吸端(51)在所述喷嘴(10)抵靠地毯(70)的支撑状态下面向所述地毯；

流体流发生器(52)，其可操作地连接到所述污物排泄管(50)，并且被构造成通过在所述抽吸端(51)处实现负压而产生通过所述污物排泄管的流体流；

其中所述振荡器单元(30)的射流开口(36)面向所述污物排泄管(50)的抽吸端(51)，以使得在操作期间，通过所述射流开口(36)从所述振荡空间(34)排出的流体被有效地注射到在所述抽吸端(51)处所产生的流体流中并且被夹带在所述流体流中。