发明内容
基于此,有必要提供一种成本较低的不锈钢镜面研磨方法。
一种不锈钢镜面研磨方法,用于在不锈钢工件的两个端面上均形成镜面效果,包括以下步骤:
粗磨,采用粗磨工具对不锈钢工件的两个端面同时进行研磨;
清洗,对所述不锈钢工件的两个端面进行清洗,以将所述不锈钢工件端面上残留的颗粒洗去;
精磨,采用聚氨酯抛光垫对所述不锈钢工件的两个端面进行研磨,并同时添加精磨液及切削油;及
后处理,对所述不锈钢工件的端面进行清洗并干燥。
在其中一个实施例中,所述粗磨工具为多气孔耐水聚乙烯醇研磨石;在粗磨时,采用所述多气孔耐水聚乙烯醇研磨石对不锈钢工件的两个端面同时进行粗磨,并对所述多气孔耐水聚乙烯醇研磨石上的通水孔进行通水。
在其中一个实施例中,所述多气孔耐水聚乙烯醇研磨石的型号为320#、800#、1600#或3200#。
在其中一个实施例中,所述多气孔耐水聚乙烯醇研磨石对所述不锈钢工件的端面的压力为588~882N,研磨转速为50~80转/分钟,研磨时间为500~700秒。
在其中一个实施例中,所述粗磨工具为铸铁盘;在粗磨时,采用所述铸铁盘对不锈钢工件的两个端面同时进行粗磨,并添加氧化铝研磨液。
在其中一个实施例中,在粗磨时,所述不锈钢工件安装于游星轮上,且所述不锈钢工件在所述游星轮上可转动,所述不锈钢工件的两个端面部分与所述粗磨工具抵持。
在其中一个实施例中,所述聚氨酯抛光垫对所述不锈钢工件的端面的压力为392~784N,研磨转速为70转/分钟,研磨时间为300~1200秒。
在其中一个实施例中,所述精磨液由氧化铝研磨液、E321合成液及纯净水配制而成。
在其中一个实施例中,所述氧化铝研磨液中,氧化铝颗粒的粒径为20~150nm。
在其中一个实施例中,在精磨的过程中,对所述精磨液进行实时过滤和回收。
上述不锈钢镜面研磨方法,与传统的不锈钢镜面研磨方法相比,至少具备以下优点:
上述不锈钢镜面研磨方法中,在进行粗磨和精磨工艺时,对不锈钢工件的两个端面同时进行研磨,简化了工艺流程,降低工艺难度,提高成品率,减少生产人员,降低了生产成本,满足了大批量生产的需求。
同时,上述不锈钢镜面研磨方法中,在进行精磨时,对精磨液进行实时过滤和回收,提高研磨液的利用率,进一步降低了生产成本。
此外,不锈钢工件安装于游星轮上,且在游星轮上可转动。不锈钢工件的两个端面部分与相应的研磨器材相抵持。研磨时,不锈钢工件自身会转动,以有利于在旋转研磨过程中,脱落的研磨砂状颗粒随着水流排出,减少砂状颗粒的堆积,进而解决因砂状颗粒堆积而造成的研磨效率下降或因颗粒堆积造成的产品研磨运动轨迹受阻、相应的研磨器材受损严重的问题。
具体实施方式
为了便于理解本发明,下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施方式。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施方式。相反地,提供这些实施方式的目的是使对本发明的公开内容理解的更加透彻全面。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
请参阅图1,本发明较佳实施例中的不锈钢镜面研磨方法,用于在不锈钢工件的两个端面上均形成镜面效果,包括以下步骤:
步骤S110,粗磨,采用粗磨工具对不锈钢工件的两个端面同时进行研磨。
请一并参阅图2,将不锈钢工件210进行固定,并利用粗磨工具220压紧不锈钢工件210的两个较为不平整的端面,以对不锈钢工件210的两个端面同时进行研磨。以使不锈钢工件210的两个端面的平面度达到较高的水平,以有利于之后镜面精磨的后续工艺。
请一并参阅图3,具体在本实施例中,粗磨工具220为多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221。多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221一般为圆盘状,中部开设有轴孔221a。多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221设置于研磨托盘230上,并随着研磨托盘230一起转动。多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221上开设有通水孔(图未示)。
在粗磨时,采用多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221对不锈钢工件210的两个端面同时进行粗磨,并对多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221上的通水孔进行通水。不锈钢工件210可以水平固定,多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221根据磨削去除量的要求,在不锈钢工件210上下表面施以一定的压力,并转动而进行研磨。在研磨过程中,对多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221上的通水孔进行通水,以使在研磨过程中脱落的磨料可以随着水流排除,保证不锈钢工件210表面达到平整度要求。
多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221的型号可以选为320#、800#、1600#或3200#。多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221的型号越大,表示研磨石的颗粒越精细,越能达到较佳的表面粗糙度和平面度,并且在一定的压力下,产品厚度的去除量随着型号数值的加大而减小。
具体在本实施例中,在粗磨时,不锈钢工件210安装于游星轮(图未示)上,且不锈钢工件210在游星轮上可转动。不锈钢工件210的两个端面部分与粗磨工具220抵持。研磨时,不锈钢工件210自身会转动,以有利于在旋转研磨过程中,脱落的研磨砂状颗粒随着水流排出,减少砂状颗粒的堆积,进而解决因砂状颗粒堆积而造成的研磨效率下降或因颗粒堆积造成的产品研磨运动轨迹受阻、多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221受损严重的问题。
具体在粗磨的过程中,多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221对不锈钢工件210的端面的压力为588~882N,研磨转速为50~80转/分钟,研磨时间为500~700秒。可以理解,多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221对不锈钢工件210的端面的压力、研磨转速及研磨时间等还可以根据实际需求的改变而变化。
需要指出的是,粗磨工具220还可为铸铁盘(图未示)。在粗磨时,采用铸铁盘对不锈钢工件210的两个端面同时进行粗磨,并添加氧化铝研磨液。氧化铝研磨液中的氧化铝颗粒的颗粒较大,以达到与多气孔耐水聚乙烯醇研磨石221同样的平整度效果。
步骤S130,清洗,对不锈钢工件的两个端面进行清洗,以将不锈钢工件端面上残留的颗粒洗去。
对粗磨后的不锈钢工件210,使用清水对其进行清洗,以去除残留在不锈钢工件210表面的研磨石的细微磨料颗粒,避免在后续的精磨工序中,残留的颗粒刮伤不锈钢工件210表面,破坏镜面效果。
步骤S150,精磨,采用聚氨酯抛光垫对不锈钢工件的两个端面进行研磨,并同时添加精磨液及切削油。
请一并参阅图4,将不锈钢工件210进行固定,并利用聚氨酯抛光垫240压紧不锈钢工件210的两个端面,以对不锈钢工件210的两个端面同时进行研磨,并在精磨的同时添加精磨液及切削油,进而使不锈钢工件210的两个端面达到镜面效果。精磨液及切削油装载于不锈钢容器中,并在整个精磨的过程中不间断地浇灌于不锈钢工件210上。
聚氨酯抛光垫240是一种特殊硬质聚乙烯树脂制造的发泡体,具有迅速抛光的功能及卓越的耐磨性。
精磨液由氧化铝研磨液、E321合成液及纯净水配制而成。氧化铝研磨液中,其氧化铝颗粒的粒径较小,以使得整个精磨过程的摩擦系数较大,效率较高,能够取得较高的抛光效果和镜面效果。具体在本实施例中,氧化铝颗粒的粒径为20~150nm。
E321合成液为具有高清净性和防锈性的合成液,其不含硫、氯、磷添加剂。E321合成液有利于降低工件与聚氨酯氧化铈抛光垫之间由于重压产生的摩擦,减小工件对聚氨酯抛光垫240的损伤,促进细微研磨颗粒能与不锈钢工件210的端面充分接触。
具体在精磨的过程中,聚氨酯抛光垫240对不锈钢工件210的端面的压力为392~784N,研磨转速为70转/分钟,研磨时间为300~1200秒。可以理解,在精磨的过程中,聚氨酯抛光垫240对不锈钢工件210的端面的压力、研磨转速及研磨时间等还可以根据实际需求的改变而变化。如氧化铝研磨液、E321合成液及纯净水之间的配比发生了改变,则压力大小、研磨转速及研磨时间均要相应的改变。
并且,在精磨过程中,对研磨液进行实时过滤和回收,以实现循环利用,提高研磨液的利用率并降低生产成本。研磨液的重复利用根据实际精磨的效果进行更换,约3个研磨周期更换一次。
步骤S170,后处理,对不锈钢工件的端面进行清洗并干燥。
对研磨后的不锈钢工件210进行喷洒清洗,以清洗残留的研磨液,防止残留的研磨液附在产品表面干燥,污染产品的整体镜面效果。
上述不锈钢镜面研磨方法,与传统的不锈钢镜面研磨方法相比,至少具备以下优点:
上述不锈钢镜面研磨方法中,在进行粗磨和精磨工艺时,对不锈钢工件210的两个端面同时进行研磨,简化了工艺流程,降低工艺难度,提高成品率,减少生产人员,降低了生产成本,满足了大批量生产的需求。
同时,上述不锈钢镜面研磨方法中,在进行精磨时,对精磨液进行实时过滤和回收,提高研磨液的利用率,进一步降低了生产成本。
此外,不锈钢工件210安装于游星轮上,且在游星轮上可转动。不锈钢工件210的两个端面部分与相应的研磨器材相抵持。研磨时,不锈钢工件210自身会转动,以有利于在旋转研磨过程中,脱落的研磨砂状颗粒随着水流排出,减少砂状颗粒的堆积,进而解决因砂状颗粒堆积而造成的研磨效率下降或因颗粒堆积造成的产品研磨运动轨迹受阻、相应的研磨器材受损严重的问题。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。