CN103962335A - 一种清洁设备和转印系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种清洁设备和转印系统。该清洁设备用于对转印版进行清洁，包括清洁机构，还包括支撑结构，支撑结构设置于清洁机构内，支撑结构设置有凸弧面，转印版附着于凸弧面上，转印版具有与凸弧面形状相同的弧面形状。该清洁设备通过设置具有凸弧面的支撑结构，并将转印版附着于凸弧面上，使转印版具有与凸弧面形状相同的弧面形状，这能够使转印版在被清洁时呈弯曲状态，从而增大了转印版与清洁剂的接触面积，进而能够有效的去除残留于转印版上的转印材料，提高转印版的清洁度，同时还节约了成本并提高了显示面板的显示品质。
Description
技术领域
本发明涉及平板显示领域的涂布技术，具体地，涉及一种清洁设备和转印系统。
背景技术
在液晶显示面板（LCD）的生产过程中，为了使液晶分子能够正确的取向，需要在阵列基板（Array）和彩膜基板（CF）的表面涂覆一层聚酰亚胺（PI）膜，然后在PI膜上进行摩擦处理，以实现液晶分子的取向。
在阵列基板和彩膜基板上涂覆PI膜一般采用高效的转印版（APR版）转印技术。转印版转印的设备基本结构如图1所示，主要包括：设备框架1、转印版2、辊轮3、辊轴4和工作台5。其中，辊轴4固定在设备框架1的侧壁上，辊轴4的转动带动与其连接的辊轮3转动，图1中矩形的转印版2包裹在辊轮3的侧表面上，工作台5上用于放置玻璃基板9（如阵列基板或彩膜基板），当玻璃基板9放置在工作台5上后，包裹在辊轮3上的转印版2与玻璃基板9接触；借助工作台5的传动功能，玻璃基板9在工作台5的流水线上传动，辊轮3也同时转动，从而将转印版2上用于形成PI膜的PI液涂覆在玻璃基板9上，形成PI膜。
通常，如图2所示，根据工艺设计需要，转印版表面设计为网状排布的凸峰21，相邻的凸峰21之间间隔形成凹谷22。凸峰21和凹谷22的作用主要是吸附PI液，然后在转印版的转印过程中将PI液涂覆在玻璃基板上。转印版在转印完毕后，在凸峰21上和凹谷22内通常会残留一定量的PI液，这使转印版不能直接用于再次转印，需要将其从辊轮上拆卸下来并送往清洗设备进行清洗。将转印版送往清洗设备的过程中需要大量的时间，残留在凸峰21上和凹谷22内的PI液通常都已固化为PI颗粒物，PI颗粒物比较难以去除。
现有的对转印版2的清洗通常是将转印版2垂直（如图3所示）或水平放置于清洗槽6内，然后通过清洗溶剂对其进行清洗。由于从转印到清洗的过程中，转印版2由包裹在辊轮上的弯曲状态（如图4所示）转换为垂直或水平放置的直面状态（如图2所示），相邻的凸峰21会对夹在中间的凹谷22产生压力，该压力会将凹谷22内残留的已固化的PI颗粒物夹紧，并减少了PI颗粒物与清洗溶剂的接触面积，因此，凹谷22内的PI颗粒物会严重残留，而残留在凸峰21顶面的PI颗粒物由于在清洗槽6内暴露面积足够而很容易被清洗掉。
当转印版2再次使用时，会再次经历由垂直或水平放置的直面状态（如图2所示）转换为包裹在辊轮上的弯曲状态（如图4所示），此时，夹在凹谷22内的残留PI颗粒物会因受到两侧凸峰21的拉力而松动，且增加了与即将涂覆的PI液的浸润面积，由于PI液与PI颗粒物的极性相似，根据极性相似相吸性原理，夹在凹谷22内的残留的PI颗粒物会在转印的过程中大量转移出来，造成涂覆在玻璃基板上的PI膜在固化前出现固体和液体的两相不容；在PI膜的后续固化过程中，由于已经产生了两相不容的体系，所以最终会在固化后的PI膜层上出现一个分相的异物区域或者点，导致LCD在点亮之后会出现异常点，严重影响显示质量。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种清洁设备和转印系统。该清洁设备通过设置具有凸弧面的支撑结构，并将转印版附着于凸弧面上，使转印版具有与凸弧面形状相同的弧面形状，能够使转印版在被清洁时呈弯曲状态，从而增大了转印版与清洁剂的接触面积，进而能够有效的去除残留于转印版上的转印材料，提高转印版的清洁度，同时还节约了成本并提高了显示面板的显示品质。
本发明提供一种清洁设备，用于对转印版进行清洁，包括清洁机构，还包括支撑结构，所述支撑结构设置于所述清洁机构内，所述支撑结构设置有凸弧面，所述转印版附着于所述凸弧面上，所述转印版具有与所述凸弧面形状相同的弧面形状。
优选地，所述转印版具有转印面以及与所述转印面相背的附着面，所述转印面用于对转印材料进行转印，所述转印面上均匀分布有网点状凸峰，相邻的所述凸峰之间间隔形成凹谷；所述附着面能附着在所述凸弧面上。
优选地，所述转印版在转印时能形成弧面，所述凸弧面的弧面半径小于等于所述转印版在转印时所形成的弧面半径。
优选地，所述支撑结构还包括连接件，所述连接件活动设置于所述清洁机构内，所述连接件能带动所述凸弧面在所述清洁机构内运动。
优选地，所述支撑结构为圆柱体辊子，所述凸弧面为所述圆柱体辊子的辊面、所述连接件为所述圆柱体辊子的辊轴；所述支撑结构为圆柱形筒或不闭合的圆柱形筒，所述凸弧面为所述圆柱形筒或所述不闭合的圆柱形筒的外筒面、所述连接件为所述圆柱形筒或所述不闭合的圆柱形筒的筒轴。
优选地，所述圆柱体辊子的辊面、所述圆柱形筒或所述不闭合的圆柱形筒的外筒面形成的所述凸弧面的弧长大于等于所述转印版的长度/宽度；沿所述圆柱体辊子的辊轴、所述圆柱形筒或所述不闭合的圆柱形筒的筒轴的延伸方向，所述凸弧面的宽度大于等于所述转印版的宽度/长度。
优选地，所述清洁机构包括浸泡槽，所述浸泡槽内设置有浸泡溶剂，所述浸泡溶剂用于对残留在所述转印版上的转印材料进行溶解。
优选地，所述清洁机构还包括擦拭槽和擦拭部件，所述擦拭部件对应设置于所述擦拭槽的槽顶，所述擦拭部件包括毛刷，所述毛刷能与所述转印版的所述转印面接触，并对残留在所述转印面上的转印材料进行擦拭。
优选地，所述毛刷的硬度低于所述转印版的版材的硬度。
优选地，所述清洁机构还包括喷淋槽和喷淋部件，所述喷淋部件对应设置于所述喷淋槽的槽顶，所述喷淋部件包括多个均匀分布的喷淋孔，所述喷淋孔能够向所述转印版的所述转印面上喷淋清洗溶剂，以对残留在所述转印面上的转印材料进行清洗。
优选地，所述清洁机构还包括干燥槽，所述干燥槽内设置有烘干部件，所述烘干部件能向所述转印版吹风，以去除所述转印版上残留的水份。
本发明还提供一种转印系统，包括上述清洁设备。
本发明的有益效果：本发明提供清洁设备，通过设置具有凸弧面的支撑结构，并将转印版附着于凸弧面上，使转印版具有与凸弧面形状相同的弧面形状，这能够使转印版的转印面在被清洁时呈弯曲状态，从而增大了转印版的凹谷与清洁剂的接触面积，也即增大了残留于凹谷内的转印材料（如已固化的PI颗粒物）与清洁剂的接触面积，进而能够有效的去除残留于转印版凹谷内的PI颗粒物，提高转印版的清洁度，降低由于转印版上残留PI颗粒物而引起的取向膜异常，同时还节约了成本并提高了显示面板的显示品质。
本发明所提供的转印系统，通过上述清洁设备，不仅能使该转印系统运作起来更加高效，而且能使该转印系统转印出的产品品质更好。
附图说明
图1为现有技术中转印版在转印时的设备结构示意图；
图2为转印版表面（转印面）的结构示意图；
图3为现有技术中转印版在清洁时的设备结构示意图；
图4为现有技术中转印版在转印时包裹在辊轮上的状态示意图；
图5为本发明实施例1中清洁设备的结构示意图；
图6为实施例1中清洁机构的组成结构示意图。
其中的附图标记说明：
1.设备框架；2.转印版；21.凸峰；22.凹谷；3.辊轮；4辊轴；5.工作台；6.清洗槽；7.清洁机构；71.浸泡槽；72.擦拭槽；73.擦拭部件；74.喷淋槽；75.喷淋部件；76.干燥槽；8.支撑结构；81.凸弧面；82.连接件；9.玻璃基板。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明所提供的一种清洁设备和转印系统作进一步详细描述。
实施例1：
本实施例提供一种清洁设备，用于对转印版进行清洁，如图5所示，包括清洁机构7，还包括支撑结构8，支撑结构8设置于清洁机构7内，支撑结构8设置有凸弧面81，转印版2附着于凸弧面81上，转印版2具有与凸弧面81形状相同的弧面形状。
其中，如图2所示，转印版2具有转印面以及与转印面相背的附着面，转印面用于对转印材料（如聚酰亚胺，形成取向膜的液体材料，即PI液）进行转印，转印面上均匀分布有网点状凸峰21，相邻的凸峰21之间间隔形成凹谷22。凸峰21的分布密度大约为400线/英寸，凹谷22的深度大约为15μm，且凹谷22侧面的倾斜角度约为45°，凸峰21和凹谷22的设置能够使转印材料在转印版2上涂布的更加均匀。附着面能附着在凸弧面81上。如此设置，能够使转印版2的转印面在被清洁时呈弯曲状态，从而增大了转印版2的凹谷22与清洁剂的接触面积，也即增大了残留于凹谷22内的转印材料（如已固化的PI颗粒物）与清洁剂的接触面积，进而能够有效的去除残留于转印版2凹谷22内的PI颗粒物，提高转印版2的清洁度，降低了由于转印版2上残留PI颗粒物而引起的取向膜异常，同时还节约了成本并提高了显示面板的显示品质。
本实施例中，转印版2在转印时能形成弧面，凸弧面81的弧面半径小于转印版2在转印时所形成的弧面半径。这使得清洁时转印版2凹谷22的敞开面积大于转印版2在转印时凹谷22的敞开面积，由此使得清洁时固化并残留于转印版2凹谷22内的PI颗粒物与清洁剂的接触面积增大，从而能够有效的去除残留于转印版2凹谷22内的PI颗粒物，提高转印版2的清洁度。
另外，在转印版2由转印时的弧面形状转换为清洁时的半径更小的弧面形状时，夹在凹谷22内的残留PI颗粒物会因受到两侧凸峰21的拉力而松动，松动的PI颗粒物会在清洁的过程中大量转移出来，这又进一步增加了PI颗粒物与清洁剂的接触面积，有利于残留的PI颗粒物被彻底的清洁干净。
本实施例中，如图5所示，支撑结构8还包括连接件82，连接件82活动设置于清洁机构7内，连接件82能带动凸弧面81在清洁机构7内运动。连接件82的设置能使附着在凸弧面81上的转印版2在凸弧面81的带动下运动，从而使转印版2的各个位置都能被清洁干净。
本实施例中，支撑结构8为圆柱体辊子，凸弧面81为圆柱体辊子的辊面、连接件82为圆柱体辊子的辊轴，辊轴的两端部与清洁机构7的内壁活动连接，辊轴能转动并带动凸弧面81在清洁机构7内转动。
需要说明的是，支撑结构8也可以为圆柱形筒或不闭合的圆柱形筒，凸弧面81为圆柱形筒或不闭合的圆柱形筒的外筒面、连接件82为圆柱形筒或不闭合的圆柱形筒的筒轴。
其中，圆柱体辊子的辊面、圆柱形筒或不闭合的圆柱形筒的外筒面形成的凸弧面81的弧长大于等于转印版2的长度/宽度；沿圆柱体辊子的辊轴、圆柱形筒或不闭合的圆柱形筒的筒轴的延伸方向，凸弧面81的宽度大于等于转印版2的宽度/长度。凸弧面81的弧长指沿垂直于辊轴或筒轴的剖切面剖切凸弧面，在剖切面上显示为一条弧线，该弧线的长度即为凸弧面81的弧长。如此设置，使转印版2能完全展开并整体全部附着于凸弧面81上，不会出现转印版2在凸弧面81上局部或部分重叠的现象，从而有利于转印版2的彻底清洁。
本实施例中，如图6所示，清洁机构包括浸泡槽71，浸泡槽71内设置有浸泡溶剂（图6中未示出），浸泡溶剂用于对残留在转印版2上的转印材料进行溶解。浸泡溶剂如可以溶解PI颗粒物的极性溶剂，如NMP等。浸泡时间可以随意设定，能使PI颗粒物由固体转变为液体即可，如可以设一个小时的浸泡时间。
清洁机构还包括擦拭槽72和擦拭部件73，擦拭部件73对应设置于擦拭槽72的槽顶，擦拭部件73包括毛刷，毛刷能与转印版2的转印面接触，并对残留在转印面上的转印材料进行擦拭。其中，毛刷的硬度低于转印版2的版材的硬度，如此使得毛刷在擦拭过程中不会对转印版2造成划痕等损坏。
清洁机构还包括喷淋槽74和喷淋部件75，喷淋部件75对应设置于喷淋槽74的槽顶，喷淋部件75包括多个均匀分布的喷淋孔，喷淋孔能够向转印版2的转印面上喷淋清洗溶剂，以对残留在转印面上的转印材料进行清洗。清洗溶剂为如NMP或去离子水等，喷淋时间可随意设定，如设为半小时。清洗溶剂可以通过循环和过滤装置进行循环处理利用。通过喷淋，最终达到溶解和去除残留于转印版2上的PI颗粒物的目的。
需要说明的是，本实施例中，转印版2经过浸泡之后，先通过NMP进行喷淋，然后在擦拭槽72内进行擦拭，接着再通过去离子水进行喷淋。如此能使转印版2能够被彻底清洁干净。
本实施例中，清洁机构还包括干燥槽76，干燥槽76内设置有烘干部件，烘干部件能向转印版2吹风，以去除转印版2上残留的水份。最后将转印版2从支撑结构上拆下来，置于恒温恒湿的环境中静止至少半个小时，以便转印版2再次投入转印。
实施例2：
本实施例提供一种清洁设备，与实施例1不同的是，凸弧面的弧面半径等于转印版在转印时所形成的弧面半径。
清洁设备的其他结构与实施例1中相同，此处不再赘述。
相对于实施例1中凸弧面的弧面半径大于转印版在转印时所形成的弧面半径，当凸弧面的弧面半径等于转印版在转印时所形成的弧面半径时，转印版凹谷的敞开面积等于转印版在转印时凹谷的敞开面积，也能够有效的去除残留于转印版凹谷内的PI颗粒物，提高转印版的清洁度，但相比于实施例1中的情况，清洁效果略差。
实施例1-2的有益效果：实施例1-2所提供的清洁设备，通过设置具有凸弧面的支撑结构，并将转印版附着于凸弧面上，使转印版具有与凸弧面形状相同的弧面形状，这能够使转印版的转印面在被清洁时呈弯曲状态，从而增大了转印版的凹谷与清洁剂的接触面积，也即增大了残留于凹谷内的转印材料（如已固化的PI颗粒物）与清洁剂的接触面积，进而能够有效的去除残留于转印版凹谷内的PI颗粒物，提高转印版的清洁度，降低由于转印版上残留PI颗粒物而引起的取向膜异常，同时还节约了成本并提高了显示面板的显示品质。
实施例3：
本实施例提供一种转印系统，包括实施例1-2任一中的清洁设备。
通过实施例1-2任一中的清洁设备，不仅能使该转印系统运作起来更加高效，而且能使该转印系统转印出的产品品质更好。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (12)
1.一种清洁设备，用于对转印版进行清洁，包括清洁机构，其特征在于，还包括支撑结构，所述支撑结构设置于所述清洁机构内，所述支撑结构设置有凸弧面，所述转印版附着于所述凸弧面上，所述转印版具有与所述凸弧面形状相同的弧面形状。
2.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于，所述转印版具有转印面以及与所述转印面相背的附着面，所述转印面用于对转印材料进行转印，所述转印面上均匀分布有网点状凸峰，相邻的所述凸峰之间间隔形成凹谷；所述附着面能附着在所述凸弧面上。
3.根据权利要求2所述的清洁设备，其特征在于，所述转印版在转印时能形成弧面，所述凸弧面的弧面半径小于等于所述转印版在转印时所形成的弧面半径。
4.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于，所述支撑结构还包括连接件，所述连接件活动设置于所述清洁机构内，所述连接件能带动所述凸弧面在所述清洁机构内运动。
5.根据权利要求4所述的清洁设备，其特征在于，所述支撑结构为圆柱体辊子，所述凸弧面为所述圆柱体辊子的辊面、所述连接件为所述圆柱体辊子的辊轴；所述支撑结构为圆柱形筒或不闭合的圆柱形筒，所述凸弧面为所述圆柱形筒或所述不闭合的圆柱形筒的外筒面、所述连接件为所述圆柱形筒或所述不闭合的圆柱形筒的筒轴。
6.根据权利要求5所述的清洁设备，其特征在于，所述圆柱体辊子的辊面、所述圆柱形筒或所述不闭合的圆柱形筒的外筒面形成的所述凸弧面的弧长大于等于所述转印版的长度/宽度；沿所述圆柱体辊子的辊轴、所述圆柱形筒或所述不闭合的圆柱形筒的筒轴的延伸方向，所述凸弧面的宽度大于等于所述转印版的宽度/长度。
7.根据权利要求6所述的清洁设备，其特征在于，所述清洁机构包括浸泡槽，所述浸泡槽内设置有浸泡溶剂，所述浸泡溶剂用于对残留在所述转印版上的转印材料进行溶解。
8.根据权利要求7所述的清洁设备，其特征在于，所述清洁机构还包括擦拭槽和擦拭部件，所述擦拭部件对应设置于所述擦拭槽的槽顶，所述擦拭部件包括毛刷，所述毛刷能与所述转印版的所述转印面接触，并对残留在所述转印面上的转印材料进行擦拭。
9.根据权利要求8所述的清洁设备，其特征在于，所述毛刷的硬度低于所述转印版的版材的硬度。
10.根据权利要求8所述的清洁设备，其特征在于，所述清洁机构还包括喷淋槽和喷淋部件，所述喷淋部件对应设置于所述喷淋槽的槽顶，所述喷淋部件包括多个均匀分布的喷淋孔，所述喷淋孔能够向所述转印版的所述转印面上喷淋清洗溶剂，以对残留在所述转印面上的转印材料进行清洗。
11.根据权利要求10所述的清洁设备，其特征在于，所述清洁机构还包括干燥槽，所述干燥槽内设置有烘干部件，所述烘干部件能向所述转印版吹风，以去除所述转印版上残留的水份。
12.一种转印系统，其特征在于，包括权利要求1-11任意一项所述的清洁设备。
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