CN103956495A - 一种低含硫量球化石墨的制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种低含硫量球化石墨的制备方法,石墨粉经过球化、提纯、洗涤和干燥后得到,所述干燥时,干燥温度为400-500℃,干燥时间为20-30min,以使硫的含量在1ppm以下,且比表面积的变化与未干燥前变化幅度在1%以内。本发明先将球化石墨洗涤后干燥,通过控制干燥时的温度和时间,使得球化石墨中的含硫量降低到1PPM以下,而且其比表面积的变化幅度在1%以内,完全符合各种锂离子电池对球化石墨的要求,而且该方法简单易行,除硫效果好。
Description
技术领域
本发明涉及到锂电池负极材料石墨,具体的说一种低含硫量球化石墨的制备方法。
背景技术
石墨材料作为锂离子电池负极材料具有良好的导电性、优良的充放电电压平台、较高的比容量和低廉的价格等优点,所以一直是负极材料的研究热点,已在商品化锂离子电池中广泛使用。许多研究表明,石墨颗粒的形状、晶体结构、表面结构、杂质含量等都与石墨材料的嵌锂性能有密切关系。石墨的来源和加工过程不同,其上述的物理化学性能也不相同。
石墨中往往含有杂质硫,对一些特殊的电池,如在零下40度使用的锂离子动力电池来说,其中的硫含量就是一个需要严格控制的指标。由于硫易挥发,在生产石墨电极的时候,如果原材料含硫过高的话,会造成石墨电极体积密度下降,电极内也会出现空隙,而且含硫量高的石墨电极,用在冶炼上也会造成挥发份,杂质过高。
发明内容
为解决现有技术中石墨含硫量高的问题,本发明提供了一种低含硫量球化石墨的制备方法,采用本发明制备的球化石墨,其含硫量可低于1ppm以下,而且比表面积的变化也较小,很好的满足了特殊锂离子动力电池的需求。
本发明为解决上述技术问题采用的技术方案为:一种低含硫量球化石墨的制备方法,石墨粉经过球化、提纯、洗涤和干燥后得到,所述干燥时,干燥温度为400-500℃,干燥时间为20-30min,以使硫的含量在1ppm以下,且比表面积的变化与未干燥前变化幅度在1%以内。
所述石墨在球化之前先进行研磨细化,具体操作为:在石墨中加入体积密度为天然石墨体积密度3倍以上的研磨介质,然后送入气流涡旋粉体细化机内进行研磨细化。
所述研磨介质的粒径不超过0.1MM。
经验证,干燥温度与球化石墨的含硫量有关系,干燥温度越高,含硫量越低,但是,干燥温度高,球化石墨的比表面积将发生变化,比表面积将变大;通过研究发现,将干燥温度控制在400-500℃,干燥时间控制在30分钟以内,硫的含量在1ppm以下,比表面积的变化与未干燥前变化幅度在1%以内,而且球化石墨仅表面氧化,不影响其电化学性能;当干燥温度低于400℃,硫含量无法降到30PPM以下,达不到低温情况下电动汽车所用电池的要求,而当干燥温度超过500℃,球化石墨将被大部分氧化,影响其作为负极材料的电化学性能。
有益效果:本发明先将球化石墨洗涤后干燥,通过控制干燥时的温度和时间,使得球化石墨中的含硫量降低到1PPM以下,而且其比表面积的变化幅度在1%以内,完全符合各种锂离子电池对球化石墨的要求,而且该方法简单易行,除硫效果好。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明做进一步的阐述。
实施例1
一种低含硫量球化石墨的制备方法,石墨粉经过球化、提纯、洗涤和干燥后得到,所述干燥时,干燥温度为400℃,干燥时间为30min,以使硫的含量在1ppm以下,且比表面积的变化与未干燥前变化幅度在1%以内。
实施例2
一种低含硫量球化石墨的制备方法,石墨粉经过球化、提纯、洗涤和干燥后得到,所述干燥时,干燥温度为500℃,干燥时间为20min,以使硫的含量在1ppm以下,且比表面积的变化与未干燥前变化幅度在1%以内。
实施例3
一种低含硫量球化石墨的制备方法,石墨粉经过球化、提纯、洗涤和干燥后得到,所述干燥时,干燥温度为450℃,干燥时间为25min,以使硫的含量在1ppm以下,且比表面积的变化与未干燥前变化幅度在1%以内。
实施例4
以上各实施例中,为了确保制备的低含硫量球化石墨的均一性,在石墨在球化之前先进行研磨细化,具体操作为:在石墨中加入体积密度为天然石墨体积密度3倍以上的研磨介质,然后送入气流涡旋粉体细化机内进行研磨细化,所述研磨介质的粒径不超过0.1MM。
Claims (3)
1.一种低含硫量球化石墨的制备方法,石墨粉经过球化、提纯、洗涤和干燥后得到,其特征在于:所述干燥时,干燥温度为400-500℃,干燥时间为20-30min,以使硫的含量在1ppm以下,且比表面积的变化与未干燥前变化幅度在1%以内。
2.根据权利要求1所述的一种低含硫量球化石墨的制备方法,其特征在于:所述石墨在球化之前先进行研磨细化,具体操作为:在石墨中加入体积密度为天然石墨体积密度3倍以上的研磨介质,然后送入气流涡旋粉体细化机内进行研磨细化。
3.根据权利要求2所述的一种低含硫量球化石墨的制备方法,其特征在于:所述研磨介质的粒径不超过0.1MM。
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