CN103952665A - 磁性装置和oled蒸镀装置 - Google Patents

磁性装置和oled蒸镀装置 Download PDF

Info

Publication number
CN103952665A
CN103952665A CN201410159125.9A CN201410159125A CN103952665A CN 103952665 A CN103952665 A CN 103952665A CN 201410159125 A CN201410159125 A CN 201410159125A CN 103952665 A CN103952665 A CN 103952665A
Authority
CN
China
Prior art keywords
module
magnet
control signal
electro
magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201410159125.9A
Other languages
English (en)
Inventor
赵德江
高浩然
于建伟
殷杰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201410159125.9A priority Critical patent/CN103952665A/zh
Publication of CN103952665A publication Critical patent/CN103952665A/zh
Priority to US14/435,119 priority patent/US9650709B2/en
Priority to PCT/CN2014/085426 priority patent/WO2015158093A1/zh
Priority to EP14861135.3A priority patent/EP3133183B1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12Organic material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供了一种磁性装置和OLED蒸镀装置。所述磁性装置,用于在OLED蒸镀装置中吸附金属掩膜,包括:金属板;包括多个电磁铁的电磁铁阵列,每一所述电磁铁插置于所述金属板上;每一所述电磁铁的两磁极分别位于所述金属板的两侧;用于提供电流的供电模块;控制模块,用于在进行OLED蒸镀过程中吸附金属掩膜时,通过向所述供电模块发送第一控制信号,以控制所述供电模块向所述多个电磁铁中的全部或部分加入直流电流,并控制该直流电流的方向和大小。本发明可以在OLED蒸镀时改变用于吸附金属掩膜的磁场强度和磁极排布。

Description

磁性装置和OLED蒸镀装置
技术领域
本发明涉及OLED蒸镀技术领域,尤其涉及一种磁性装置和OLED蒸镀装置。
背景技术
在OLED(有机发光二极管)显示产品制作领域,采用蒸镀的方法制作OLED产品是相对比较成熟的一种方法。使用蒸镀方法制作OLED器件时,要使用金属掩膜,同时,为了防止面积较大时金属掩膜在重力作用下发生弯曲,还要在OLED蒸镀装置中增加磁性装置,对金属掩膜进行吸附。
如图1所示,现有的OLED蒸镀装置中的磁性装置是采用在金属板11上设置多行单磁极永磁铁,相邻行的单磁极永磁铁的磁极不同,图1中标示有N的电磁铁表示其仅具有N极,标示有S的电磁铁表示其仅具有S极。现有的OLED蒸镀装置中的磁性装置产生的磁场强度和磁极排列不能改变,因此当金属掩膜的重量发生变化时只有通过改变磁性装置和金属掩膜之间的距离来确保吸附。并且尤其是需吸附不同的高精度掩膜,需选用不同的磁极排布,现有的磁性装置不能方便的更改磁极,需更换磁性装置才能够更换磁极。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种磁性装置和OLED蒸镀装置,可以在OLED蒸镀时改变用于吸附金属掩膜的磁场强度和磁极排布。
为了达到上述目的,本发明提供了一种磁性装置,用于在OLED蒸镀装置中吸附金属掩膜,包括:
金属板;
包括多个电磁铁的电磁铁阵列,每一所述电磁铁插置于所述金属板上;每一所述电磁铁的两磁极分别位于所述金属板的两侧;
用于提供电流的供电模块;
控制模块,用于在进行OLED蒸镀过程中吸附金属掩膜时,通过向所述供电模块发送第一控制信号,以控制所述供电模块向所述多个电磁铁中的全部或部分加入直流电流,并控制该直流电流的方向和大小。
实施时,所述控制模块,还用于在OLED蒸镀结束后,通过向所述供电模块发送第二控制信号,以控制所述供电模块向所述多个电磁铁中的全部或部分反复加入交流电流,直至消除所述多个电磁铁的磁性。
实施时,所述电磁铁为条形磁铁,每一所述条形磁铁垂直插置于所述金属板上。
实施时,所述电磁铁为U型电磁铁。
实施时本发明所述的磁性装置还包括控制信号传递模块,其中,
所述控制信号传递模块,用于向所述控制模块发送所述第一控制信号或第二控制信号。
实施时,在进行OLED蒸镀之前,所述控制信号传递模块与所述控制模块连接,向所述控制模块发送所述第一控制信号;
当进行OLED蒸镀时,所述控制信号传递模块与所述控制模块断开连接。
实施时,在OLED蒸镀结束后,所述控制信号传递模块与所述控制模块连接,向所述控制模块发送第二控制信号;
在所述多个电磁铁的磁性被消除后,所述控制信号传递模块与所述控制模块断开连接。
本发明还提供了一种OLED蒸镀装置,用于向衬底基板上蒸镀OLED器件,包括金属掩膜和蒸镀设备,该金属掩膜上设置有开口,所述OLED蒸镀装置还包括上述的磁性装置;
所述磁性装置用于吸附所述金属掩膜;
所述蒸镀设备通过所述金属掩膜上的开口向衬底基板上蒸镀OLED器件。
与现有技术相比,本发明所述的磁性装置通过控制模块控制所述供电模块向所述多个电磁铁中的全部或部分加入直流电流,并控制该直流电流的方向和大小,可以改变用于吸附金属掩膜的磁场强度和磁极排布。
附图说明
图1是现有的用于OLED蒸镀装置的磁性装置的结构示意图;
图2是本发明实施例所述的磁性装置的结构框图;
图3是本发明所述的磁性装置的电磁铁阵列包括的多个条形电磁铁插置于金属板上的侧视图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图2所示,本发明实施例所述的磁性装置,用于在OLED蒸镀装置中吸附金属掩膜,包括:
金属板(图2中未示);
包括多个电磁铁的电磁铁阵列21;
每一所述电磁铁插置于所述金属板上;每一所述电磁铁的两磁极分别位于所述金属板的两侧(图2中未示);
用于提供电流的供电模块22;
控制模块23,用于在进行OLED蒸镀过程中吸附金属掩膜时,通过向所述供电模块22发送第一控制信号,以控制所述供电模块22向所述多个电磁铁中的全部或部分加入直流电流,并控制该直流电流的方向和大小。
本发明实施例所述的磁性装置通过控制模块控制所述供电模块向所述多个电磁铁中的全部或部分加入直流电流,并控制该直流电流的方向和大小,可以改变磁场强度和磁极排布。
在现有技术中,在使用电磁极时一般情况下都需要有引线接电磁铁的两极,而在蒸镀装置中,在蒸镀过程中电磁铁是要随着玻璃基板一起转动的,这样就会出现绕线的问题,因此,尽管电磁铁的使用有很多优点,但是大部分蒸镀设备由于无法克服绕线的问题。而本发明实施例所述的磁性装置采用供电模块向电磁铁加入电流,从而使得电磁铁产生磁性,可以避免绕线。
现有的磁性装置在OLED蒸镀完成后,该磁性装置的磁性无法由于磁滞问题,金属掩膜上的磁性无法消除,在移动时对金属掩膜会造成损坏,基于此在本发明实施例所述的磁性装置中,所述控制模块23,还用于在OLED蒸镀结束后,通过向所述供电模块22发送第二控制信号,以控制所述供电模块向所述多个电磁铁中的全部或部分反复加入交流电流,直至消除所述多个电磁铁的磁性,这样既可以杜绝磁滞现象。
所述电磁铁阵列包括的多个电磁铁可以为任何形式的电磁铁,可以为条形电磁铁,也可以为U型电磁铁,只需要保证电磁铁的第一磁极和第二磁极分别位于所述金属板的两侧,以保证吸附金属掩膜的磁场强度的方向即可。
在具体实施时,如图3所示,所述电磁铁阵列包括的多个电磁铁可以为条形电磁铁,每一所述条形磁铁垂直插置于金属板31上;
多个条形电磁铁在所述金属板31上呈阵列排布。
在实际操作时,所述条形电磁铁是通过金属板上的孔插置于金属板上的。
在实际操作时,将设置于金属板上的电磁铁的磁极密度做到足够大,当磁性装置用于吸附不同规格的金属掩膜时,可以由控制模块控制选择性对电磁铁阵列中的电磁铁加入不同大小和方向直流电,达到所需的工艺要求。
在具体实施时,本发明实施例所述的磁性装置还包括控制信号传递模块,其中,
所述控制信号传递模块,用于向所述控制模块发送所述第一控制信号或第二控制信号。
在进行OLED蒸镀之前,所述控制信号传递模块与所述控制模块连接,向所述控制模块发送所述第一控制信号;
当进行OLED蒸镀时,所述控制信号传递模块与所述控制模块断开连接。
在OLED蒸镀结束后,所述控制信号传递模块与所述控制模块连接,向所述控制模块发送第二控制信号;
在所述多个电磁铁的磁性被消除后,所述控制信号传递模块与所述控制模块断开连接。
在实际操作时,所述控制模块和所述供电模块可以插置于所述金属板侧面,而控制信号传递模块是可升降的,当OLED蒸镀装置采用本发明实施例所述的磁性装置蒸镀OLED器件时,具体操作如下:
将衬底基板载入,进行预对位,控制信号传递模块降下,控制信号传递模块向控制模块发送第一控制信号后,通过第一控制信号选择磁场强度和磁极排布,,使得金属掩膜和衬底基板吸附在一起,防止金属掩膜弯曲;
对位完成并磁场强度稳定后,控制信号传递模块升起,控制信号传递模块和控制模块分离,衬底基板和金属掩膜在稳定的磁场下开始转动,完成蒸镀后停止到初始位置;
蒸镀作业完成后,控制信号传递模块下移,给出第二控制信号,进行退磁操作,退磁完成后,控制信号传递模块上移,衬底基板和金属掩膜分离,这样就不会因为有磁滞的存在而造成金属掩膜的损伤。
其中,衬底基板可以为玻璃、石英、塑料等透明基板,采用金属掩膜并通过蒸镀设备在其上形成图案化的材料膜层进而制作OLED器件。
本发明还提供了一种OLED蒸镀装置,用于向衬底基板上蒸镀OLED器件,包括金属掩膜和蒸镀设备,该金属掩膜上设置有开口,所述OLED蒸镀装置还包括上述的磁性装置;
载入的衬底基板位于所述磁性装置和所述金属掩膜之间;
所述磁性装置用于吸附所述金属掩膜;
所述蒸镀设备通过所述金属掩膜上的开口向所述衬底基板上蒸镀OLED器件。
以上说明对本发明而言只是说明性的,而非限制性的,本领域普通技术人员理解,在不脱离所附权利要求所限定的精神和范围的情况下,可做出许多修改、变化或等效,但都将落入本发明的保护范围内。

Claims (8)

1.一种磁性装置,用于在OLED蒸镀装置中吸附金属掩膜,其特征在于,包括:
金属板;
包括多个电磁铁的电磁铁阵列,每一所述电磁铁插置于所述金属板上;每一所述电磁铁的两磁极分别位于所述金属板的两侧;
用于提供电流的供电模块;
控制模块,用于在进行OLED蒸镀过程中吸附金属掩膜时,通过向所述供电模块发送第一控制信号,以控制所述供电模块向所述多个电磁铁中的全部或部分加入直流电流,并控制该直流电流的方向和大小。
2.如权利要求1所述的磁性装置,其特征在于,所述控制模块,还用于在OLED蒸镀结束后,通过向所述供电模块发送第二控制信号,以控制所述供电模块向所述多个电磁铁中的全部或部分反复加入交流电流,直至消除所述多个电磁铁的磁性。
3.如权利要求1或2所述的磁性装置,其特征在于,所述电磁铁为条形电磁铁,每一所述条形电磁铁垂直插置于所述金属板上。
4.如权利要求1或2所述的磁性装置,其特征在于,所述电磁铁为U型电磁铁。
5.如权利要求1或2所述的磁性装置,其特征在于,还包括控制信号传递模块,其中,
所述控制信号传递模块,用于向所述控制模块发送所述第一控制信号或第二控制信号。
6.如权利要求5所述的磁性装置,其特征在于,
在进行OLED蒸镀之前,所述控制信号传递模块与所述控制模块连接,向所述控制模块发送所述第一控制信号;
当进行OLED蒸镀时,所述控制信号传递模块与所述控制模块断开连接。
7.如权利要求5所述的磁性装置,其特征在于,
在OLED蒸镀结束后,所述控制信号传递模块与所述控制模块连接,向所述控制模块发送第二控制信号;
在所述多个电磁铁的磁性被消除后,所述控制信号传递模块与所述控制模块断开连接。
8.一种OLED蒸镀装置,用于向衬底基板上蒸镀OLED器件,包括金属掩膜和蒸镀设备,该金属掩膜上设置有开口,其特征在于,所述OLED蒸镀装置还包括如权利要求1至7中任一权利要求所述的磁性装置;
所述磁性装置用于吸附所述金属掩膜;
所述蒸镀设备通过所述金属掩膜上的开口向衬底基板上蒸镀OLED器件。
CN201410159125.9A 2014-04-18 2014-04-18 磁性装置和oled蒸镀装置 Pending CN103952665A (zh)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410159125.9A CN103952665A (zh) 2014-04-18 2014-04-18 磁性装置和oled蒸镀装置
US14/435,119 US9650709B2 (en) 2014-04-18 2014-08-28 Magnetic device, vapor deposition device and vapor deposition method
PCT/CN2014/085426 WO2015158093A1 (zh) 2014-04-18 2014-08-28 磁性装置、蒸镀装置和蒸镀方法
EP14861135.3A EP3133183B1 (en) 2014-04-18 2014-08-28 Magnetic device, evaporation device and evaporation method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410159125.9A CN103952665A (zh) 2014-04-18 2014-04-18 磁性装置和oled蒸镀装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103952665A true CN103952665A (zh) 2014-07-30

Family

ID=51330009

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410159125.9A Pending CN103952665A (zh) 2014-04-18 2014-04-18 磁性装置和oled蒸镀装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9650709B2 (zh)
EP (1) EP3133183B1 (zh)
CN (1) CN103952665A (zh)
WO (1) WO2015158093A1 (zh)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015158093A1 (zh) * 2014-04-18 2015-10-22 京东方科技集团股份有限公司 磁性装置、蒸镀装置和蒸镀方法
CN106978585A (zh) * 2017-04-25 2017-07-25 昆山国显光电有限公司 固定装置以及蒸镀装置
CN107293651A (zh) * 2017-06-19 2017-10-24 京东方科技集团股份有限公司 蒸镀设备
US9818940B2 (en) 2016-01-25 2017-11-14 Boe Technology Group Co., Ltd. Large-sized AMOLED display substrate and manufacturing method thereof
CN107858650A (zh) * 2017-11-22 2018-03-30 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀设备和蒸镀方法
CN108165927A (zh) * 2018-01-03 2018-06-15 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版的吸附装置及吸附方法、蒸镀设备及蒸镀方法
CN109428012A (zh) * 2017-09-04 2019-03-05 三星显示有限公司 用于制造显示装置的设备
CN110494585A (zh) * 2017-04-12 2019-11-22 堺显示器制品株式会社 蒸镀装置、蒸镀方法以及有机el显示装置的制造方法
US10669623B2 (en) 2015-09-06 2020-06-02 Boe Technology Group Co., Ltd. Fixing apparatus and evaporation method
US11205762B2 (en) 2018-03-19 2021-12-21 Boe Technology Group Co., Ltd. Display substrate with microprism structure and manufacturing method therefor
CN115863126A (zh) * 2022-12-06 2023-03-28 安徽其芒光电科技有限公司 真空蒸镀成膜装置的电源机构及消磁方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101106052A (zh) * 2006-06-22 2008-01-16 Lg.菲利浦Lcd株式会社 用于使荫罩消磁的装置和方法
US20120204794A1 (en) * 2011-02-14 2012-08-16 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Mask Holding Device Capable of Changing Magnetic Means and Deposition Equipment Using the Same
CN203144509U (zh) * 2013-01-28 2013-08-21 京东方科技集团股份有限公司 一种磁控溅射用磁场源装置
CN103376813A (zh) * 2012-04-24 2013-10-30 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 电子设备
CN203807546U (zh) * 2014-04-18 2014-09-03 京东方科技集团股份有限公司 磁性装置和oled蒸镀装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004183044A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Seiko Epson Corp マスク蒸着方法及び装置、マスク及びマスクの製造方法、表示パネル製造装置、表示パネル並びに電子機器
US20060086321A1 (en) * 2004-10-22 2006-04-27 Advantech Global, Ltd Substrate-to-mask alignment and securing system with temperature control for use in an automated shadow mask vacuum deposition process
ATE392490T1 (de) * 2005-04-20 2008-05-15 Applied Materials Gmbh & Co Kg Magnetische maskenhalterung
JP4428285B2 (ja) * 2005-05-16 2010-03-10 セイコーエプソン株式会社 マスク保持構造、成膜方法、及び電気光学装置の製造方法
JP2007095324A (ja) 2005-09-27 2007-04-12 Hitachi Displays Ltd 有機el表示パネルの製造方法、及びこの製造方法により製造した有機el表示パネル
WO2008047458A1 (fr) * 2006-10-17 2008-04-24 Optnics Precision Co., Ltd. Appareil d'alignement d'une tranche utilisant un masque de métal
KR101326018B1 (ko) * 2006-12-22 2013-11-07 엘아이지에이디피 주식회사 기판척킹장치 이를 이용한 기판척킹방법과 기판디척킹방법,기판처리장치와 기판처리방법
KR20090127288A (ko) * 2007-11-30 2009-12-10 캐논 아네르바 가부시키가이샤 기판처리장치 및 기판처리방법
JP2010106360A (ja) * 2008-09-30 2010-05-13 Canon Anelva Corp 基板保持装置、キャリヤ、基板処理装置、および画像表示装置の製造方法
JP2011195907A (ja) * 2010-03-19 2011-10-06 Tokyo Electron Ltd マスク保持装置及び薄膜形成装置
CN102566336B (zh) * 2010-12-30 2015-08-26 上海微电子装备有限公司 掩模版的固定装置及其固定方法
CN103952665A (zh) 2014-04-18 2014-07-30 京东方科技集团股份有限公司 磁性装置和oled蒸镀装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101106052A (zh) * 2006-06-22 2008-01-16 Lg.菲利浦Lcd株式会社 用于使荫罩消磁的装置和方法
US20120204794A1 (en) * 2011-02-14 2012-08-16 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Mask Holding Device Capable of Changing Magnetic Means and Deposition Equipment Using the Same
CN103376813A (zh) * 2012-04-24 2013-10-30 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 电子设备
CN203144509U (zh) * 2013-01-28 2013-08-21 京东方科技集团股份有限公司 一种磁控溅射用磁场源装置
CN203807546U (zh) * 2014-04-18 2014-09-03 京东方科技集团股份有限公司 磁性装置和oled蒸镀装置

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015158093A1 (zh) * 2014-04-18 2015-10-22 京东方科技集团股份有限公司 磁性装置、蒸镀装置和蒸镀方法
US9650709B2 (en) 2014-04-18 2017-05-16 Boe Technology Group Co., Ltd. Magnetic device, vapor deposition device and vapor deposition method
US11280000B2 (en) 2015-09-06 2022-03-22 Boe Technology Group Co., Ltd. Fixing apparatus and evaporation method
US10669623B2 (en) 2015-09-06 2020-06-02 Boe Technology Group Co., Ltd. Fixing apparatus and evaporation method
US9818940B2 (en) 2016-01-25 2017-11-14 Boe Technology Group Co., Ltd. Large-sized AMOLED display substrate and manufacturing method thereof
CN110494585A (zh) * 2017-04-12 2019-11-22 堺显示器制品株式会社 蒸镀装置、蒸镀方法以及有机el显示装置的制造方法
CN110494585B (zh) * 2017-04-12 2021-11-16 堺显示器制品株式会社 蒸镀装置、蒸镀方法以及有机el显示装置的制造方法
CN106978585A (zh) * 2017-04-25 2017-07-25 昆山国显光电有限公司 固定装置以及蒸镀装置
CN107293651A (zh) * 2017-06-19 2017-10-24 京东方科技集团股份有限公司 蒸镀设备
CN109428012A (zh) * 2017-09-04 2019-03-05 三星显示有限公司 用于制造显示装置的设备
CN109428012B (zh) * 2017-09-04 2023-07-18 三星显示有限公司 用于制造显示装置的设备
CN107858650A (zh) * 2017-11-22 2018-03-30 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀设备和蒸镀方法
CN108165927A (zh) * 2018-01-03 2018-06-15 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版的吸附装置及吸附方法、蒸镀设备及蒸镀方法
CN108165927B (zh) * 2018-01-03 2020-03-31 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版的吸附装置及吸附方法、蒸镀设备及蒸镀方法
US11136662B2 (en) 2018-01-03 2021-10-05 Boe Technology Group Co., Ltd. Apparatus and method for adsorbing a mask, evaporation device, and evaporation method
US11205762B2 (en) 2018-03-19 2021-12-21 Boe Technology Group Co., Ltd. Display substrate with microprism structure and manufacturing method therefor
CN115863126A (zh) * 2022-12-06 2023-03-28 安徽其芒光电科技有限公司 真空蒸镀成膜装置的电源机构及消磁方法
CN115863126B (zh) * 2022-12-06 2023-09-12 安徽其芒光电科技有限公司 真空蒸镀成膜装置的电源机构及消磁方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015158093A1 (zh) 2015-10-22
US20160251747A1 (en) 2016-09-01
EP3133183A4 (en) 2017-12-06
EP3133183A1 (en) 2017-02-22
US9650709B2 (en) 2017-05-16
EP3133183B1 (en) 2020-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103952665A (zh) 磁性装置和oled蒸镀装置
PE20170644A1 (es) Aparato, sistema y metodo para detonacion a partir de una senal de comunicacion electromagnetica
WO2015048104A3 (en) Contactless data communication using in-plane magnetic fields, and related systems and methods
WO2014204153A3 (ko) 수신 안테나 및 이를 포함하는 무선 전력 수신 장치
GB201320055D0 (en) Mobile power system
PH12014501393A1 (en) Electroluminescent devices and their manufacture
JP2017505093A5 (zh)
WO2013039897A3 (en) Phosphors for use with leds and other optoelectronic devices
WO2012109113A3 (en) Method for encapsulating an organic light emitting diode
WO2013164647A3 (en) Organic light emitting device and method
US20180354250A1 (en) Film and device for tearing film
EP4040521A3 (en) White organic light emitting device
CN203807546U (zh) 磁性装置和oled蒸镀装置
CN103500710A (zh) 一种薄膜晶体管制作方法、薄膜晶体管及显示设备
WO2015006660A3 (en) Low ohmic loss radial superlattice conductors
CN103353673A (zh) 一种显示面板及其制作方法、显示装置
CN202631751U (zh) 瞬变电磁发射及接收装置
CN104131252A (zh) 提高封装成膜均匀性的方法及装置
CN102312207A (zh) 成膜装置
CN103966567B (zh) 一种平面靶材的磁场结构及其使用方法
CN204216046U (zh) 走线结构、有机发光显示面板和有机发光显示器
PH12019500186A1 (en) Electroluminescent system and process
WO2017191968A3 (ko) 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 전자부품패키지
CN105070736A (zh) 一种软性显示器组件与其制作方法
CN103474198A (zh) 一种外磁式双磁扬声器主、副磁的充磁方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20140730