CN103938863A - 一种模板拉杆的处理方法 - Google Patents

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黎人亮
王殿永
李超
于海力
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Abstract

本发明公开了一种模板拉杆的处理方法,其主要步骤是:在混凝土表面外露的拉杆位置处加工一个倒锥形钻孔;用电焊机从所述倒锥形钻孔的根部焊割掉外露的拉杆,再用与所述混凝土表面同标号的水泥对所述的倒锥形钻孔进行封堵并养护。本发明的优点是:解决了直接采用电焊机焊割拉杆在混凝土表面留下焊痕的问题,从而保证混凝土表面的外观质量;杜绝了拉杆作为锈蚀路径影响主塔钢筋的不利因素,使桥梁整体的耐久性得以保证;操作简单,成本低廉,适合大范围推广使用。

Description

一种模板拉杆的处理方法
技术领域
本发明涉及一种模板拉杆的处理方法。
背景技术
在桥梁建设过程中,模板的施工是必不可少的一个环节,而模板拉杆的设置对于混凝土钢筋砼空心结构的外观质量以及结构尺寸的控制等等,均有着极其重要的作用。由于模板拉杆外露于混凝土表面的部分影响美观,故需要在拆除模板后将其去除。
目前,对于这些外露模板拉杆的处理方法,大多是采用电焊机直接进行割除处理,但这种方法的实施存在以下缺陷:
(1)将外露的模板拉杆割除后,会在混凝土表面留下焊痕,需要用水泥砂浆对割除部分的混凝土表面进行抹面处理,耗时费力,且提高了施工成本;
(2)割除后的拉杆断面不仅影响了混凝土表面的外观质量,而且还会使拉杆成为锈蚀路径造成对主塔钢筋的不良影响,破坏了桥梁整体的耐久性。
发明内容
本发明的目的,就是克服现有技术的缺陷,并为此提供一种操作简单、成本低廉的模板拉杆的处理方法。
本发明的技术方案是:
一种模板拉杆的处理方法,其主要步骤是:
(1)在混凝土表面外露的拉杆位置处加工一个倒锥形钻孔;
(2)用电焊机从所述倒锥形钻孔的根部焊割掉外露的拉杆,再用与所述混凝土表面同标号的水泥对所述的倒锥形钻孔进行封堵并养护。
所述倒锥形钻孔的孔壁上均匀分布凹凸点。
所述倒锥形钻孔的外端面直径为3-7cm,最佳选择为5cm。
所述倒锥形钻孔的深度为2-6cm,最佳选择为4cm。
本发明与现有技术相比,其有益效果是:
(1)解决了直接采用电焊机焊割拉杆在混凝土表面留下焊痕的问题,从而保证混凝土表面的外观质量;
(2)杜绝了拉杆作为锈蚀路径影响主塔钢筋的不利因素,使桥梁整体的耐久性得以保证;
(3)操作简单,成本低廉,适合大范围推广使用。
具体实施方式
为使本发明更容易被清楚理解,以下对其技术方案进行详细说明。
本发明模板拉杆的处理方法,包括以下步骤:
(1)在浇筑的混凝土达到初凝之后,拆除模板,并立即用水钻在混凝土表面外露的拉杆位置处加工一个以拉杆为中心的倒锥形钻孔;
(2)采用电焊机从所述倒锥形钻孔的根部焊割掉外露的拉杆并取出;
(3)敲掉拉杆切割面上多余的焊渣并清除所述倒锥形钻孔内的杂物,再用水清理所述的倒锥形钻孔使其润湿;
(4)采用与浇筑的混凝土同标号的混凝土砂浆封堵所述的倒锥形钻孔并以工具振捣、拍打紧实,进行养护。
在以上方法中:
为了利于封堵倒锥形钻孔的新混凝土与先前浇筑的旧混凝土在两者的接缝处具有很好的咬合效果,加工所述倒锥形钻孔时,要求其孔壁上均匀分布凹凸点,从而保证良好的接缝质量。
为了保证良好的焊割效果并且方便焊割操作,要求所述倒锥形钻孔的外端面直径为3-7cm,一般以5cm为宜;同时要求所述倒锥形钻孔的深度为2-6cm,一般以4cm为宜(该深度应大于等于最小保护层的厚度)。
以上通过具体实施方式对本发明的技术方案进行了示意性描述,该描述没有限制性。本领域的普通技术人员应能理解,本发明方法中各个步骤的细节在实际应用中均可能发生某些改变,而其他人员在其启示下也可能做出相似设计。特别需要指出的是,只要不脱离本发明的设计宗旨,所有显而易见的改变及其相似设计,均包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种模板拉杆的处理方法,其特征是,实施该方法的主要步骤包括:
(1)在混凝土表面外露的拉杆位置处加工一个倒锥形钻孔;
(2)用电焊机从所述倒锥形钻孔的根部焊割掉外露的拉杆,再用与所述混凝土表面同标号的水泥对所述的倒锥形钻孔进行封堵并养护。
2.根据权利要求1所述模板拉杆的处理方法,其特征是,所述倒锥形钻孔的孔壁上均匀分布凹凸点。
3.根据权利要求1所述模板拉杆的处理方法,其特征是,所述倒锥形钻孔的外端面直径为3-7cm。
4.根据权利要求3所述模板拉杆的处理方法,其特征是,所述倒锥形钻孔的外端面直径为5cm。
5.根据权利要求1所述模板拉杆的处理方法,其特征是,所述倒锥形钻孔的深度为2-6cm。
6.根据权利要求5所述模板拉杆的处理方法,其特征是,所述倒锥形钻孔的深度为4cm。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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