CN103914183A - 一种触摸屏、其制作方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种触摸屏、其制作方法及显示装置，由于触控结构和周边走线位于衬底基板的一侧，而屏蔽层位于衬底基板的另一侧，即屏蔽层和触控结构分别位于衬底基板的两侧，因此当该触摸屏在采用溅射的方式在衬底基板的一侧制作触控结构和周边走线时，溅镀腔中的等离子体不会对位于衬底基板另一侧的屏蔽层产生轰击，从而避免屏蔽层污染腔室。并且，由于屏蔽层位于衬底基板的另一侧，因此与现有技术中触控结构和周边走线是形成在屏蔽层的膜层上时相比，不会发生由于屏蔽层的不平坦而造成触控结构不平坦的问题，从而保证触摸屏的质量。

Description

一种触摸屏、其制作方法及显示装置

技术领域

本发明涉及触控技术领域，尤其涉及一种触摸屏、其制作方法及显示装置。

背景技术

随着显示技术的飞速发展，触摸屏（Touch Screen Panel）已经逐渐遍及人们的生活中。目前，触摸屏按照工作原理可以分为：电阻式、电容式、红外线式以及表面声波式、电磁式、振波感应式以及受抑全内反射光学感应式等。其中，电容式触摸屏以其独特的触控原理，凭借高灵敏度、长寿命、高透光率等优点，被业内追捧为新宠。

目前应用比较广泛的单片式（OGS，One Glass Solution）触控模组，是在基板上直接形成单层的触控导电膜及传感器，如图1a和图1b所示，OGS触控模组的具体结构包括：在衬底基板01上依次层叠设置的屏蔽层（Blackmatrix，简称BM）02、桥接层（Bridge）03、绝缘层（Overcoat，简称OC）04、触控电极层05、周边走线06以及钝化层07；其中，触控电极层05具体包括交叉而置且相互绝缘的触控感应电极051和触控驱动电极052，触控感应电极051和触控驱动电极052为菱形图案，相邻的且相互断开的触控驱动电极052通过桥接层03桥接，触控感应电极051和触控驱动电极052在触控模组的非触控区域与对应的周边走线06相连，周边走线06会将触控电极层05上的信号传输到对应的IC芯片进行分析处理。

上述结构的OGS触控模组在制备时，需要先在衬底基板01上形成屏蔽层02，然后形成有屏蔽层02的衬底基板01需要多次进入到溅镀腔中以形成后续的其他膜层，例如形成桥接层03、触控电极层05以及周边走线06。由于屏蔽层02的材料中含有树脂材料，因此，当形成有屏蔽层02的衬底基板01在溅镀腔中被等离子体（plasma）轰击时，会释放出其他物质，从而污染腔室。另外，等离子体对屏蔽层02的表面进行轰击时，也会导致屏蔽层02的表面有凸起和凹陷等不平坦的缺陷，从而影响后续膜层的平坦度，造成工艺不良等问题。

发明内容

本发明实施例提供的一种触摸屏、其制作方法及显示装置，用以避免在溅镀腔中等离子体对屏蔽层的轰击，从而避免屏蔽层污染腔室，以及减少由于等离子体对屏蔽层表面轰击造成的表面不平坦问题。

本发明实施例提供的一种触摸屏，包括衬底基板，位于所述触摸屏的触控区域的触控结构，以及位于所述触摸屏的非触控区域的且与所述触控结构电性连接的周边走线和用于遮挡所述周边走线的屏蔽层；

所述触控结构和所述周边走线位于所述衬底基板的一侧，所述屏蔽层位于所述衬底基板的另一侧。

本发明实施例提供的上述触摸屏，由于触控结构和周边走线位于衬底基板的一侧，而屏蔽层位于衬底基板的另一侧，即屏蔽层和触控结构分别位于衬底基板的两侧，因此当该触摸屏在采用溅射的方式在衬底基板的一侧制作触控结构和周边走线时，溅镀腔中的等离子体不会对位于衬底基板另一侧的屏蔽层产生轰击，从而避免屏蔽层污染腔室。并且，由于屏蔽层位于衬底基板的另一侧，因此与现有技术中触控结构和周边走线是形成在屏蔽层的膜层上时相比，不会发生由于屏蔽层的不平坦而造成触控结构不平坦的问题，从而保证触摸屏的质量。

较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，所述触控结构具体包括：交叉而置且相互绝缘的触控感应电极和触控驱动电极，所述触控感应电极和触控驱动电极分别与对应的周边走线电性连接。

较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，所述触控感应电极和触控驱动电极同层设置，所述触控结构还包括：

桥接相邻的所述触控驱动电极或相邻的所述触控感应电极的桥接层，以及

位于所述桥接层与同层设置的所述触控感应电极和所述触控驱动电极之间的绝缘层。

较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，还包括：位于所述衬底基板与所述触控结构之间的抗反射层。

较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，还包括：覆盖所述触控结构和所述周边走线的钝化层。

较佳地，为了便于实施，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，所述屏蔽层的材料为黑色感光性树脂材料。

本发明实施例提供的一种本发明实施例提供的上述任一种触摸屏的制作方法，包括：

在衬底基板的一侧形成包括电性连接的周边走线与触控结构的图形，在衬底基板的另一侧形成包括屏蔽层的图形；其中，

所述屏蔽层用于遮挡所述周边走线，所述屏蔽层和所述周边走线位于所述触摸屏的非触控区域，所述触控结构位于所述触摸屏的触控区域。

较佳地，为了便于实施，本发明实施例提供的上述制作方法：

在所述衬底基板的一侧形成包括屏蔽层的图形，翻转所述衬底基板，在所述衬底基板的另一侧形成包括电性连接的周边走线与触控结构的图形；或，

在所述衬底基板的一侧形成包括电性连接的周边走线与触控结构的图形，翻转所述衬底基板，在所述衬底基板的另一侧形成包括屏蔽层的图形。

本发明实施例提供的一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述任一种触摸屏。

附图说明

图1a为现有技术中的OGS触控模组的俯视示意图；

图1b为图1a沿A-A向的截面示意图；

图2为本发明实施例提供的触摸屏的结构示意图之一；

图3为本发明实施例提供的触摸屏的结构示意图之二；

图4为本发明实例一提供的触摸屏的制作方法的流程图；

图5为本发明实例二提供的触摸屏的制作方法的流程图。

具体实施方式

下面结合附图，对本发明实施例提供的一种触摸屏、其制作方法及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。

附图中各层薄膜厚度和区域大小形状不反映触摸屏的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

本发明实施例提供的一种触摸屏，如图2和图3所示，包括衬底基板100，位于触摸屏的触控区域的触控结构200，以及位于触摸屏的非触控区域的且与触控结构200电性连接的周边走线300和用于遮挡周边走线300的屏蔽层400；

触控结构200和周边走线300位于衬底基板100的一侧，屏蔽层400位于衬底基板100的另一侧。

本发明实施例提供的上述触摸屏，由于触控结构和周边走线位于衬底基板的一侧，而屏蔽层位于衬底基板的另一侧，即屏蔽层和触控结构分别位于衬底基板的两侧，因此当该触摸屏在采用溅射的方式在衬底基板的一侧制作触控结构和周边走线时，溅镀腔中的等离子体不会对位于衬底基板另一侧的屏蔽层产生轰击，从而避免屏蔽层污染腔室。并且，由于屏蔽层位于衬底基板的另一侧，因此与现有技术中触控结构和周边走线是形成在屏蔽层的膜层上时相比，不会发生由于屏蔽层的不平坦而造成触控结构不平坦的问题，从而保证触摸屏的质量。

具体地，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，屏蔽层400的材料可以为黑色感光性树脂材料，这样同时可以将黑色感光性树脂作为掩膜工艺中的光刻胶使用，省去了单独涂覆光刻胶的工艺，减少了对光刻胶的使用量，节约了生产成本。

较佳地，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，周边走线可以是金属走线，金属的电阻比较小，导电效果更好，有利于提高触摸屏的触控灵敏度。具体地，周边走线可以为钼（Mo）或铝（Al）。

较佳地，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，如图2和图3所示，触控结构200具体包括：交叉而置且相互绝缘的触控感应电极210和触控驱动电极220，触控感应电极210和触控驱动电极220分别与对应的周边走线300电性连接。

较佳地，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，如图2和图3所示，触控感应电极210和触控驱动电极220同层设置，触控结构200还包括：

桥接相邻的触控感应电极210或相邻的触控驱动电极220的桥接层230；以及

位于桥接层230与同层设置的触控感应电极210和触控驱动电极220之间的绝缘层240；在图2中以桥接层230桥接相邻的触控感应电极210为例进行说明。

具体地，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，触控感应电极210和触控驱动电极220的材料可以采用透明导电材料，例如，可以是氧化铟锡（ITO）或氧化铟锌（IZO）材料，还可以是碳纳米管、石墨烯等透明导电材料。

进一步地，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，桥接层230的材料可以采用透明导电材料，例如，可以是氧化铟锡（ITO）、氧化铟锌（IZO）材料、碳纳米管或者石墨烯；桥接层也可以采用金属。采用ITO作为桥接层230的好处在于提高触摸屏的透过率，并且ITO与金属相比对光的反射率较小，降低了反射光对人的视觉影响。当然，桥接层230的材料也可以采用金属制备，金属的电阻比ITO小，有利于减小触控电极层的电阻，提高触控灵敏度，但是金属一般是不透光的，会影响触摸屏的透过率，在此不做限定。

较佳地，为了防止照射到触摸屏的外界光发生反射而影响视觉效果，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，如图3所示，还可以包括：位于衬底基板100与触控结构200之间的抗反射层600。这是因为当外界环境的光线穿过触摸屏时，会经过一些金属膜层（例如桥接层等），从而发生发射，使人眼可以看到触摸屏上的图案，降低视觉效果。并且，由于穿过触摸屏不同位置的光线所经过的膜层是不同的，因此反射出来的光线的光谱也就不同，从而造成反射光线差异较大，同样降低视觉效果。因此，设置抗反射层600可以尽可能的降低反射率和减少反射光线，从而提高视觉效果。

较佳地，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，如图2和图3所示，还可以包括：覆盖触控结构200和周边走线300的钝化层500。

较佳地，在本发明实施例提供的上述触摸屏中，基于同一发明构思，本发明实施例还提供了上述任一种触摸屏的制作方法，具体可以包括以下步骤：

在衬底基板的一侧形成包括电性连接的周边走线与触控结构的图形，在衬底基板的另一侧形成包括屏蔽层的图形；其中，

屏蔽层用于遮挡所述周边走线，屏蔽层和周边走线位于触摸屏的非触控区域，触控结构位于触摸屏的触控区域。

较佳地，本发明实施例提供的上述制作方法，可以先在在衬底基板的一侧形成包括屏蔽层的图形，然后翻转衬底基板，再在衬底基板的另一侧形成包括电性连接的周边走线与触控结构的图形；或，

也可以先在衬底基板的一侧形成包括电性连接的周边走线与触控结构的图形，然后翻转衬底基板，再在衬底基板的另一侧形成包括屏蔽层的图形。

下面以图3所示的结构为例来说明本发明实施例提供的上述触摸屏的制备方法。

实例一：

具体地，在制作如图3所示的触摸屏时，先在在衬底基板100的一侧形成包括屏蔽层400的图形，然后翻转衬底基板100，再在衬底基板100的另一侧形成包括电性连接的周边走线300与触控结构200的图形，其中，触控结构200包括同层设置、交叉而置且相互绝缘的触控感应电极210和触控驱动电极220，桥接相邻的触控感应电极210的桥接层230；以及位于桥接层230与同层设置的触控感应电极210和触控驱动电极220之间的绝缘层240；触摸屏制作过程，如图4所示，具体可以包括以下步骤：

S401、在衬底基板100的一侧形成包括屏蔽层400的图形；

具体地，在具体实施时，采用旋涂法在衬底基板上涂覆黑色感光性树脂光刻胶，然后经过曝光、显影和后烘处理后，形成屏蔽层的图形。

S402、翻转衬底基板100；

S403、在衬底基板100的另一侧形成包括抗反射层600的图形；

S404、在抗反射层600上形成包括桥接层230的图形；

具体地，在具体实施时，通过溅射的方式在抗反射层600上沉积ITO材料，然后再在ITO上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理之后，剥离光刻胶，形成桥接层的图形。

S405、在桥接层230上形成包括绝缘层240的图形；

具体地，在具体实施时，在桥接层上涂覆绝缘材料的光刻胶，然后通过曝光和显影处理后，形成绝缘层的图形。

S406、在绝缘层240上形成包括同层设置、且交叉而置的触控感应电极210和触控驱动电极220的图形；

具体地，在具体实施时，通过溅射的方式在绝缘层上沉积ITO材料，然后再在ITO上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理之后，剥离光刻胶，形成触控感应电极和触控驱动电极的图形。

S407、衬底基板100上形成包括周边走线300的图形；

具体地，在具体实施时，通过溅射的方式在衬底基板上沉积金属材料的膜层，然后再在金属材料的膜层上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理之后，剥离光刻胶，形成周边走线的图形。进一步地，金属材料具体可以为Mo或Al。

S408、形成覆盖触控结构200和周边走线300的钝化层500。

具体地，经过上述步骤S401至S408之后，得到本发明实施例所提供的如图3所示的触摸屏。

实例二：

在制作如图3所示的触摸屏时，先在衬底基板100的一侧形成包括电性连接的周边走线300与触控结构200的图形，然后翻转衬底基板100，再在衬底基板100的另一侧形成包括屏蔽层400的图形，其中，触控结构200包括同层设置、交叉而置且相互绝缘的触控感应电极210和触控驱动电极220，桥接相邻的触控感应电极210的桥接层230；以及位于桥接层230与同层设置的触控感应电极210和触控驱动电极220之间的绝缘层240；触摸屏制作过程，如图5所示，具体可以包括以下步骤：

S501、在衬底基板100的一侧形成包括抗反射层600的图形；

S502、在抗反射层600上形成桥接层230的图形；

具体地，在具体实施时，通过溅射的方式在抗反射层600上沉积ITO材料，然后再在ITO上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理之后，剥离光刻胶，形成桥接层的图形。

S503、在桥接层230上形成包括绝缘层240的图形；

具体地，在具体实施时，在桥接层上涂覆绝缘材料的光刻胶，然后通过曝光和显影处理后，形成绝缘层的图形。

S504、在绝缘层240上形成包括同层设置、且交叉而置的触控感应电极210和触控驱动电极220的图形；

具体地，在具体实施时，通过溅射的方式在绝缘层上沉积ITO材料，然后再在ITO上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理之后，剥离光刻胶，形成触控感应电极和触控驱动电极的图形。

S505、衬底基板100上形成包括周边走线300的图形；

具体地，在具体实施时，通过溅射的方式在衬底基板上沉积金属材料的膜层，然后再在金属材料的膜层上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理之后，剥离光刻胶，形成周边走线的图形。进一步地，金属材料具体可以为Mo或Al。

S506、形成覆盖触控结构200和周边走线300的钝化层500；

S507、翻转衬底基板100；

S508、在衬底基板100的另一侧形成包括屏蔽层400的图形。

具体地，在具体实施时，采用旋涂法在衬底基板上涂覆黑色感光性树脂光刻胶，然后经过曝光、显影和后烘处理后，形成屏蔽层的图形。

具体地，经过上述步骤S501至S508之后，得到本发明实施例所提供的如图3所示的触摸屏。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述触摸屏，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述触摸屏的实施例，重复之处不再赘述。

本发明实施例提供的一种触摸屏、其制作方法及显示装置，由于触控结构和周边走线位于衬底基板的一侧，而屏蔽层位于衬底基板的另一侧，即屏蔽层和触控结构分别位于衬底基板的两侧，因此当该触摸屏在采用溅射的方式在衬底基板的一侧制作触控结构和周边走线时，溅镀腔中的等离子体不会对位于衬底基板另一侧的屏蔽层产生轰击，从而避免屏蔽层污染腔室。并且，由于屏蔽层位于衬底基板的另一侧，因此与现有技术中触控结构和周边走线是形成在屏蔽层的膜层上时相比，不会发生由于屏蔽层的不平坦而造成触控结构不平坦的问题，从而保证触摸屏的质量。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (9)

1.一种触摸屏，包括衬底基板，位于所述触摸屏的触控区域的触控结构，以及位于所述触摸屏的非触控区域的且与所述触控结构电性连接的周边走线和用于遮挡所述周边走线的屏蔽层，其特征在于：

所述触控结构和所述周边走线位于所述衬底基板的一侧，所述屏蔽层位于所述衬底基板的另一侧。

2.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述触控结构具体包括：交叉而置且相互绝缘的触控感应电极和触控驱动电极，所述触控感应电极和触控驱动电极分别与对应的周边走线电性连接。

3.如权利要求2所述的触摸屏，其特征在于，所述触控感应电极和触控驱动电极同层设置，所述触控结构还包括：

桥接相邻的所述触控驱动电极或相邻的所述触控感应电极的桥接层，以及

位于所述桥接层与同层设置的所述触控感应电极和所述触控驱动电极之间的绝缘层。

4.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，还包括：位于所述衬底基板与所述触控结构之间的抗反射层。

5.如权利要求1-4任一项所述的触摸屏，其特征在于，还包括：覆盖所述触控结构和所述周边走线的钝化层。

6.如权利要求1-4任一项所述的触摸屏，其特征在于，所述屏蔽层的材料为黑色感光性树脂材料。

7.一种如权利要求1-6任一项所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板的一侧形成包括电性连接的周边走线与触控结构的图形，在衬底基板的另一侧形成包括屏蔽层的图形；其中，

所述屏蔽层用于遮挡所述周边走线，所述屏蔽层和所述周边走线位于所述触摸屏的非触控区域，所述触控结构位于所述触摸屏的触控区域。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于：

在所述衬底基板的一侧形成包括屏蔽层的图形，翻转所述衬底基板，在所述衬底基板的另一侧形成包括电性连接的周边走线与触控结构的图形；或，

在所述衬底基板的一侧形成包括电性连接的周边走线与触控结构的图形，翻转所述衬底基板，在所述衬底基板的另一侧形成包括屏蔽层的图形。

9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的触摸屏。