CN103881024B - 天麻素分子印迹聚合物及其制备方法与应用 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种天麻素分子印迹聚合物及其制备方法与应用，以天麻素为模板，将模板、功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂按质量比为1～4:2～7:15～35:0.05～0.15:20～60在反应釜中混合，超声脱气，然后充氮除氧，密封后于40～60℃恒温水浴聚合18～24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物；将得到的分子印记聚合物研磨、洗脱、烘干，得到除去模板的天麻素分子印迹聚合物。将得到的除去模板的天麻素分子印迹聚合物做柱层析填料装柱，应用于从天麻中提取天麻素，具有选择性强、吸附量大、获得的天麻素纯度高等优点。
Description
技术领域
本发明涉及一类有机高分子化合物，具体涉及一种天麻素分子印迹聚合物，还涉及该聚合物的制备方法与应用，属于新材料领域。
背景技术
天麻素(4-羟甲基苯基-beta-D-吡喃葡萄糖甙，gastrodin)，为兰科植物天麻的干燥根块提取，原料产地为云南。天麻素具有较好的镇静和安眠作用，对神经衰弱、失眠、头痛症状有缓解作用。中药天麻可治疗痛眩晕、肢体麻木、惊痛抽搐。临床应用：治疗椎一基底动脉供血不足；治疗前庭神经元炎；治疗眩晕症。天麻素易溶于水、甲醇、乙醇，不溶于氯仿和醚。用苦杏仁酶水解，可得对羟甲基苯醇苷元。
目前从天麻中提取天麻素的方法主要有水体醇沉法、絮凝技术、膜分离、双水相萃取、分子蒸馏等，分离方法主要为硅胶层析柱分离。传统工艺存在技术相对陈旧、生产周期长，过程繁琐，有机溶剂消耗大、非环境友好等问题。
分子印迹技术(Molecularimprintingtechnology,MIT)是为获得在空间结构和结合点位上与某一分子(通常称为模板分子)完全匹配的聚合物的实验制备技术，属于高分子化学、材料科学、生物化学、分析化学等之间的一个交叉学科领域。分子印迹聚合物(Molecularimprintingpolymer,MIPs)是指以目标分子为模板分子，将具有结构互补的功能化聚合物单体通过共价或非共价的方式与模板分子结合，加入交联剂进行聚合反应，反应完成后将模板分子提取出来后形成的一类有固定空穴大小和形状及有确定排列功能团的交联高聚物。由于MIPs具有抗恶劣环境的能力，表现出稳定性强和使用寿命长等优点，因此对其合成及应用研究十分活跃，涉及的范围很广，如手性物质分离、生物传感器、模拟抗体与受体、模拟酶催化、氨基酸及多肽等生物大分子、金属离子、药物分子、天然产物等的分离与纯化。
目前天麻素分子印迹聚合物仅由贺敏强等人于2011年采用常规功能单体制(CN101864021A和JournalofAppliedPolymerScience,2011，121,2354)，但上述制备方法采用的均是常规功能单体，未应用于天麻素的提取，并且常规功能单体制备得到的天麻素分子印迹聚合物只能对天麻素有机溶液进行识别和吸附，但天麻素易溶于水，因此常规功能单体制备的天麻素分子印迹聚合物不适合应用于天麻素水提液的分离纯化。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种天麻素分子印迹聚合物的制备方法，以天麻素为模板，将模板、功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂按照本体聚合的方法制得分子印迹聚合物。
本发明的另一目的在于提供一种分子印迹聚合物，该聚合物具有模板分子天麻素的印记位点，对天麻素具有高度亲和性和显著选择性。
本发明的再一目的在于提供该分子印迹聚合物在天麻素的提取分离中的应用。
为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：
一种天麻素分子印迹聚合物的制备方法，包括以下步骤：
(1)以天麻素为模板，将模板、新型功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂按质量比为1～4:2～7:15～35:0.05～0.15:20～60加入反应釜中混合，超声脱气10-15分钟，然后充氮除氧15分钟，密封后于40～60℃恒温水浴聚合18～24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物；
(2)将步骤(1)得到的聚合物研磨过150～200目筛，得均匀带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，用体积分数为10％～20％的乙酸甲醇溶液洗脱，脱去模板分子天麻素，得到留有分子印迹孔穴的聚合物颗粒，真空下50～65℃烘干，即得到用于提取、分离、富集、检测天麻素的分子印迹聚合物。
其中步骤(1)所述的功能单体为烯丙基四乙酰基葡萄糖(TAGL)、烯丙基四三氟乙酰基葡萄糖(TFAGL)或五氟苯乙烯(PFVB)；优选烯丙基四乙酰基葡萄糖(TAGL)；所述的交联剂为N,N-亚甲基二丙烯酰胺、二甲基丙烯酸乙二醇酯或二乙烯基苯，优选二甲基丙烯酸乙二醇酯；所述制孔剂为二甲基亚砜、乙腈，优选二甲基亚砜；所述引发剂为偶氮二异丁腈、偶氮二异戊腈，优选偶氮二异丁腈。
上述方法制备得到的天麻素分子印迹聚合物，该聚合物具有与天麻素分子体积、结构、极性相匹配的的印记位点，对天麻素具有高度亲和性和显著选择性。
将上述方法制备得到的天麻素分子印迹聚合物应用于天麻素的分离提取，应用方法为：将得到的天麻素分子印迹聚合物做柱层析填料装柱，然后用天麻素水提取液上柱，再用体积分数5％～15％丙酮水溶液淋洗，最后层析柱用质量分数5％～20％的乙酸水溶液洗脱，回收洗脱液得到天麻素。
本发明在分子印迹聚合物合成过程中用天麻素作为模板，选用新型功能单体，利用分子印迹技术为天麻素量身定做识别材料，洗脱出天麻素模板，在材料上留有与天麻素分子体积、结构、极性相匹配的孔穴(或称为印迹)，这种分子印迹聚合物用于提纯天麻素时，只有天麻素分子能够进入印迹当中，而其它的杂质分子不能进入印迹，使得该分子印迹聚合物主要吸附天麻素，其它的杂质吸附的很少，使得天麻素的纯度大大提高，可达到90％以上。
本发明在制备天麻素分子印迹聚合物过程中首次采用三种新型功能单体TAGL、PFVB、TAFGL，上述三种功能单体均为首次应用于分子印迹聚合物的制备领域。对选用的新型功能单体，采用本发明的制备方法，均能得到识别性较好的分子印迹聚合物。与常规功能单体相比，采用新型功能单体制备的分子印迹聚合物可以对天麻素水溶液进行选择性识别吸附，而常规功能单体分子印迹聚合物只能对天麻素有机溶液进行识别吸附。天麻素易溶于水，水中溶解度大于300mg/mL，对天麻素大多采用水提法，本发明制备得到的天麻素分子印迹聚合物可直接进行分离富集天麻水提取液，而传统功能单体分子印迹聚合物没有此有益效果。
本发明相对于现有技术具有如下的优点及有益效果：
(1)本发明的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物选择性强，应用该材料提纯天麻素所获得的天麻素纯度高。
(2)本发明的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物生产成本低，洗脱液用量少。
(3)本发明采用新型功能单体制备的天麻素分子印迹聚合物可以从天麻水提液中提取分离天麻素。
(4)本发明的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物在应用于从天麻水提液中提纯天麻素后可再生，且其再生方法简单。
附图说明
图1是本发明的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物的制备和应用的流程图；
图2a是本发明所使用的模板天麻素分子结构式；
图2b是本发明所使用的功能单体烯丙基四乙酰基葡萄糖(TAGL)分子结构式；
图2c是本发明所使用的功能单体烯丙基四三氟乙酰基葡萄糖(TFAGL)分子结构式；
图2d是本发明所使用的功能单体五氟苯乙烯(PFVB)分子结构式；
图3是实施例1制得的天麻素分子印迹聚合物电镜图；
图4是实施例2制得的天麻素分子印迹聚合物电镜图；
图5是应用本发明实施例1所提取的天麻素核磁共振氢谱。
具体实施方式
结合实施例对本发明作进一步的说明，应该说明的是，下述说明仅是为了解释本发明，并不对其内容进行限定。
实施例1
(1)备料
本实施例各组分按如下用量配比配料：模板分子(天麻素)0.97g，功能单体(TAGL)1.63g，交联剂(二甲基丙烯酸乙二醇酯)19.00g，引发剂(偶氮二异丁腈)0.10g，制孔剂(二甲基亚砜)42.00g。
(2)制备带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物
将步骤(1)中备好的模板分子天麻素、TAGL、二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二异丁腈、二甲基亚砜的混合溶剂加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒。
(3)提纯除去模板分子天麻素的分子印迹聚合物
用乙酸体积分数为10％甲醇溶液洗脱由步骤(2)所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到所述的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物18.4g。
(4)取15克步骤(3)所制得的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物装柱。称取100g天麻粉碎，加入500mL水加热回流提取2h后，过滤，滤液上柱。待上柱溶液流尽后，用丙酮体积分数为5％的水溶液300mL进行淋洗，层析柱用乙酸体积分数为10％水溶液洗脱，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为95.4％，1HNMR(DMSO-d6,600MHz):δ7.22(d,2H,J＝8.4Hz),6.97(d,2H,J＝9.0Hz),5.29(d,1H,J＝5.4Hz),5.07(d,2H,J＝5.4Hz),5.00(d,1H,J＝5.4Hz),4.82(d,1H,J＝7.8Hz),4.54(t,1H,J＝5.4Hz),4.42(d,2H,J＝5.4Hz),3.66-3.69(m,1H),3.44-3.47(m,1H),3.13-3.33(m,4H)。
(5)分子印迹聚合物的再生
将上述洗去天麻素的分子印迹聚合物，用95％乙醇洗脱，即可再生用于下一次提取用。
实施例2
(1)备料
本实施例各组分按如下用量配比配料：模板分子(天麻素)0.97g，功能单体(PFVB)1.83g，交联剂(N,N-亚甲基二丙烯酰胺)21.00g，引发剂(偶氮二异丁腈)0.16g，溶剂(二甲基亚砜)45.00g。
(2)制备带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物
将步骤(1)中备好的模板分子天麻素、PFVB、N,N-亚甲基二丙烯酰胺、偶氮二异丁腈和二甲基亚砜的混合溶剂加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒。
(3)提纯除去模板分子天麻素的分子印迹聚合物
用乙酸体积分数为8％甲醇溶液洗脱由步骤(2)所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到所述的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物22.1g。
(4)取18克步骤(3)所制得的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物装柱。称取100g天麻粉碎，加入500mL水加热回流提取2h后，过滤，滤液上柱。待上柱溶液流尽后，用丙酮体积分数为8％的水溶液300毫升进行淋洗，层析柱用乙酸体积分数为8％水溶液洗脱，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为96.7％。
(5)分子印迹聚合物的再生
将上述洗去天麻素的分子印迹聚合物，用95％乙醇洗脱，即可再生用于下一次提取用。
实施例3
(1)备料
本实施例各组分按如下用量配比配料：模板分子(天麻素)0.99g，功能单体(TAFGL)1.66g，交联剂(二甲基丙烯酸乙二醇酯)21.10g，引发剂(偶氮二异戊腈)0.15g，溶剂(乙腈)43.00g。
(2)制备带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物
将步骤(1)中备好的模板分子天麻素、TAFGL、二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二异戊腈、乙腈加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒。
(3)提纯除去模板分子天麻素的分子印迹聚合物
用乙酸体积分数为12％甲醇溶液洗脱由步骤(2)所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到所述的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物17.8g。
(4)取15克步骤(3)所制得的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物装柱。称取100g天麻粉碎，加入500mL水加热回流提取2h后，过滤，滤液上柱。待上柱溶液流尽后，用丙酮体积分数为12％的水溶液300毫升进行淋洗，层析柱用乙酸体积分数为10％水溶液洗脱，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为98.7％。
(5)分子印迹聚合物的再生
将上述洗去天麻素的分子印迹聚合物，用95％乙醇洗脱，即可再生用于下一次提取用。
实施例4
本实施例所使用的功能单体为TAGL，交联剂为二乙烯基苯，溶剂为二甲亚砜引发剂为偶氮二异丁腈，其它均与实施例1相同，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为97.6％。
实施例5
本实施例所使用的功能单体为PFVB，交联剂为二乙烯基苯，溶剂为二甲基亚砜，引发剂为偶氮二异丁腈，其它均与实施例1相同，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为97.9％。
实施例6
本实施例所使用的功能单体为TAFGL，交联剂为二乙烯基苯，溶剂为二甲亚砜，引发剂为偶氮二异丁腈，其它均与实施例1相同，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为98.7％。
实施例7
(1)备料
本实施例各组分按如下用量配比配料：模板分子(天麻素)1.97g，功能单体(TAGL)3.63g，交联剂(二甲基丙烯酸乙二醇酯)29.00g，引发剂(偶氮二异丁腈)0.10g，制孔剂(二甲基亚砜)52.00g。
(2)制备带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物
将步骤(1)中备好的模板分子天麻素、TAGL、二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二异丁腈、二甲基亚砜的混合溶剂加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒。
(3)提纯除去模板分子天麻素的分子印迹聚合物
用乙酸体积分数为10％甲醇溶液洗脱由步骤(2)所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到所述的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物27.4g。
(4)取15克步骤(3)所制得的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物装柱。称取100g天麻粉碎，加入500mL水加热回流提取2h后，过滤，滤液上柱。待上柱溶液流尽后，用丙酮体积分数为5％的水溶液300mL进行淋洗，层析柱用乙酸体积分数为10％水溶液洗脱，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为97.4％。
实施例8
(1)备料
本实施例各组分按如下用量配比配料：模板分子(天麻素)2.37g，功能单体(TAFGL)3.83g，交联剂(二甲基丙烯酸乙二醇酯)30.00g，引发剂(偶氮二异丁腈)0.15g，制孔剂(二甲基亚砜)57.00g。
(2)制备带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物
将步骤(1)中备好的模板分子天麻素、TAGL、二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二异丁腈、二甲基亚砜的混合溶剂加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒。
(3)提纯除去模板分子天麻素的分子印迹聚合物
用乙酸体积分数为10％甲醇溶液洗脱由步骤(2)所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到所述的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物29.4g。
(4)取15克步骤(3)所制得的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物装柱。称取100g天麻粉碎，加入500mL水加热回流提取2h后，过滤，滤液上柱。待上柱溶液流尽后，用丙酮体积分数为5％的水溶液300mL进行淋洗，层析柱用乙酸体积分数为10％水溶液洗脱，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为98.4％。
实施例9
(1)备料
本实施例各组分按如下用量配比配料：模板分子(天麻素)2.37g，功能单体(PFVB)3.73g，交联剂(二甲基丙烯酸乙二醇酯)35.00g，引发剂(偶氮二异丁腈)0.13g，制孔剂(二甲基亚砜)47.00g。(2)制备带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物
将步骤(1)中备好的模板分子天麻素、TAGL、二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二异丁腈、二甲基亚砜的混合溶剂加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒。
(3)提纯除去模板分子天麻素的分子印迹聚合物
用乙酸体积分数为10％甲醇溶液洗脱由步骤(2)所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到所述的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物23.4g。
(4)取15克步骤(3)所制得的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物装柱。称取100g天麻粉碎，加入500mL水加热回流提取2h后，过滤，滤液上柱。待上柱溶液流尽后，用丙酮体积分数为5％的水溶液300mL进行淋洗，层析柱用乙酸体积分数为10％水溶液洗脱，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为98.5％。
实施例10
(1)备料
本实施例各组分按如下用量配比配料：模板分子(天麻素)3.37g，功能单体(PFVB)5.73g，交联剂(二甲基丙烯酸乙二醇酯)34.00g，引发剂(偶氮二异丁腈)0.10g，制孔剂(二甲基亚砜)60.00g。
(2)制备带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物
将步骤(1)中备好的模板分子天麻素、TAGL、二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二异丁腈、二甲基亚砜的混合溶剂加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒。
(3)提纯除去模板分子天麻素的分子印迹聚合物
用乙酸体积分数为10％甲醇溶液洗脱由步骤(2)所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到所述的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物26.4g。
(4)取15克步骤(3)所制得的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物装柱。称取100g天麻粉碎，加入500mL水加热回流提取2h后，过滤，滤液上柱。待上柱溶液流尽后，用丙酮体积分数为5％的水溶液300mL进行淋洗，层析柱用乙酸体积分数为10％水溶液洗脱，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为97.5％。
实施例11
(1)备料
本实施例各组分按如下用量配比配料：模板分子(天麻素)3.37g，功能单体(TAFGL)5.73g，交联剂(二甲基丙烯酸乙二醇酯)34.00g，引发剂(偶氮二异丁腈)0.10g，制孔剂(二甲基亚砜)60.00g。
(2)制备带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物
将步骤(1)中备好的模板分子天麻素、TAGL、二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二异丁腈、二甲基亚砜的混合溶剂加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒。
(3)提纯除去模板分子天麻素的分子印迹聚合物
用乙酸体积分数为10％甲醇溶液洗脱由步骤(2)所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到所述的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物27.4g。
(4)取15克步骤(3)所制得的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物装柱。称取100g天麻粉碎，加入500mL水加热回流提取2h后，过滤，滤液上柱。待上柱溶液流尽后，用丙酮体积分数为5％的水溶液300mL进行淋洗，层析柱用乙酸体积分数为10％水溶液洗脱，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为97.6％。
实施例12
(1)备料
本实施例各组分按如下用量配比配料：模板分子(天麻素)3.47g，功能单体(TAGL)6.73g，交联剂(二甲基丙烯酸乙二醇酯)34.00g，引发剂(偶氮二异丁腈)0.10g，制孔剂(二甲基亚砜)55.00g。
(2)制备带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物
将步骤(1)中备好的模板分子天麻素、TAGL、二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二异丁腈、二甲基亚砜的混合溶剂加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒。
(3)提纯除去模板分子天麻素的分子印迹聚合物
用乙酸体积分数为10％甲醇溶液洗脱由步骤(2)所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到所述的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物28.4g。
(4)取15克步骤(3)所制得的用于提纯天麻素的分子印迹聚合物装柱。称取100g天麻粉碎，加入500mL水加热回流提取2h后，过滤，滤液上柱。待上柱溶液流尽后，用丙酮体积分数为5％的水溶液300mL进行淋洗，层析柱用乙酸体积分数为10％水溶液洗脱，收集洗脱液，蒸干后即得高纯度天麻素，纯度为96.6％。
上述实施例为本发明较佳的实施方式，但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制，其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本发明的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种天麻素分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)以天麻素为模板，将模板、功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂按质量比为1～4:2～7:15～35:0.05～0.15:20～60加入反应釜中混合，超声脱气，然后充氮除氧，密封后于40～60℃恒温水浴聚合18～24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物；
(2)将步骤(1)得到的聚合物研磨过筛，得均匀带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，用体积分数为10％～20％的乙酸甲醇溶液洗脱，得到留有分子印迹孔穴的聚合物颗粒，真空下50～65℃烘干，即得到除去模板的天麻素分子印迹聚合物；
其中步骤(1)所述的功能单体为烯丙基四乙酰基葡萄糖或烯丙基四三氟乙酰基葡萄糖；所述的交联剂为N,N-亚甲基二丙烯酰胺、二甲基丙烯酸乙二醇酯或二乙烯基苯；所述制孔剂为二甲基亚砜、乙腈；所述引发剂为偶氮二异丁腈、偶氮二异戊腈；
步骤(1)中，所述超声脱气时间为10-15分钟，充氮除氧15分钟；
步骤(2)中，将步骤(1)得到的聚合物研磨，过200目筛。
2.如权利要求1所述的一种天麻素分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将天麻素模板分子0.97g，烯丙基四乙酰基葡萄糖1.63g，二甲基丙烯酸乙二醇酯19.00g，偶氮二异丁腈0.10g，二甲基亚砜42.00g，加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒；
(2)用体积分数为10％乙酸甲醇溶液洗脱由步骤(1)中所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到除去模板的天麻素分子印迹聚合物。
3.权利要求1所述的制备方法制备得到的除去模板的天麻素分子印迹聚合物，其特征在于，所述除去模板的天麻素分子印迹聚合物具有与天麻素分子体积、结构、极性相匹配的印记位点。
4.权利要求3所述的除去模板的天麻素分子印迹聚合物在天麻素提取、分离、富集中的应用，其特征在于，将得到的天麻素分子印迹聚合物做柱层析填料装柱，然后用天麻素水提取液上柱，再用体积分数5％～15％丙酮水溶液淋洗，最后层析柱用质量浓度5％～20％的乙酸水溶液洗脱，回收洗脱液得到天麻素。
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