CN103807441A - 一种机械密封圈 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种机械密封圈，所述密封圈主体上设置有空心圆柱体，所述密封圈主体呈圆环形，所述密封圈主体包括内圈和外圈，所述外圈上设置有凹凸相间的矩形齿。该机械密封圈采用铝合金制成，具有抗高压腐蚀、耐高温的优点。通过设置了空心圆柱体和矩形齿，使之能更好的与其他机械结构相固定。
Description
技术领域
本发明涉及一种机械密封圈。
背景技术
现今许多机械密封所使用的补偿环密封圈一般采用橡胶圈，但在高压及强腐蚀等工况中，普通橡胶圈会出现挤出、溶胀等现象，影响补偿环的浮动效果，显然无法满足机械密封长寿命使用要求。
发明内容
本发明要解决的技术问题就是提供一种结构简单、抗高压腐蚀高温的金属机械密封圈。
为解决上述问题，本发明采用如下技术方案：一种机械密封圈，包括密封圈主体，所述密封圈主体上设置有空心圆柱体，所述密封圈主体呈圆环形，所述密封圈主体包括内圈和外圈，所述外圈上设置有凹凸相间的矩形齿。
作为优选，所述空心圆柱体均匀的分布在密封圈主体上。
作为优选，所述空心圆柱体的外壁上设置有条形通孔。
作为优选，密封圈主体、空心圆柱体采用铝合金制成。
本发明的有益效果是：该机械密封圈采用铝合金制成，具有抗高压腐蚀、耐高温的优点。通过设置了空心圆柱体和矩形齿，使之能更好的与其他机械结构相固定。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一种机械密封圈的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的优选实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
参阅图1所示，一种机械密封圈，包括密封圈主体1，所述密封圈主体1上设置有空心圆柱体2，所述密封圈主体1呈圆环形，所述密封圈主体1包括内圈3和外圈4，所述外圈4上设置有凹凸相间的矩形齿5。
所述空心圆柱体2均匀的分布在密封圈主体1上。所述空心圆柱体2的外壁上设置有条形通孔6。密封圈主体1、空心圆柱体2采用铝合金制成。
本发明的有益效果是：该机械密封圈采用铝合金制成，具有抗高压腐蚀、耐高温的优点。通过设置了空心圆柱体和矩形齿，使之能更好的与其他机械结构相固定。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
Claims (4)
1.一种机械密封圈，其特征在于：包括密封圈主体，所述密封圈主体上设置有空心圆柱体，所述密封圈主体呈圆环形，所述密封圈主体包括内圈和外圈，所述外圈上设置有凹凸相间的矩形齿。
2.根据权利要求1所述的机械密封圈，其特征在于：所述空心圆柱体均匀的分布在密封圈主体上。
3.根据权利要求1所述的机械密封圈，其特征在于：所述空心圆柱体的外壁上设置有条形通孔。
4.根据权利要求1所述的机械密封圈，其特征在于：密封圈主体、空心圆柱体采用铝合金制成。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201410093807.4A CN103807441A (zh) | 2014-03-14 | 2014-03-14 | 一种机械密封圈 |
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| CN201410093807.4A CN103807441A (zh) | 2014-03-14 | 2014-03-14 | 一种机械密封圈 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN103807441A true CN103807441A (zh) | 2014-05-21 |
Family
ID=50704629
Family Applications (1)
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| CN201410093807.4A Pending CN103807441A (zh) | 2014-03-14 | 2014-03-14 | 一种机械密封圈 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103807441A (zh) |
Citations (5)
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-
2014
- 2014-03-14 CN CN201410093807.4A patent/CN103807441A/zh active Pending
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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