CN103805803A - 一种具有去除水垢功能的合金材料制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种具有去除水垢功能的合金材料制备方法,包括:将合金材料加入到已烧至暗红色的坩埚中;待熔化后,搅拌混匀,形成均匀熔体后,加入氯化锰,送风搅拌,停风搅拌;当熔体温度为1050~1150℃时,将坩埚出炉精炼;将精炼剂氯化锰、铈稀土元素压入熔体内,充分搅拌成为均匀熔体;除渣浇铸成型。与现有技术相比,本发明功能合金材料具有较好地去除或防止水垢,并兼有除菌、净化等其他多项功能,且性能稳定、成本低廉、无能耗、寿命长、免维护、无污染。

Description

一种具有去除水垢功能的合金材料制备方法
技术领域
本发明属于金属材料领域,具体是指一种具有去除水垢功能的合金材料制备方法。
背景技术
锅炉及热交换器的输水管道在长期使用,又无特别的防护措施的情况下,就会沉积出很多水垢和水锈。这些沉积的水垢会使水的色度增加,甚至无法饮用;也会使管道的内径变小,传热效率降低,造成能源浪费,使用成本增加。同时,随着水垢厚度的增加,对设备的锈蚀也会加剧,不仅会使热传导效率大幅降低,也会由于局部水垢的破裂,造成瞬间气化,引起泄漏甚至爆炸等严重安全事故。因此,结垢已成为热交换工艺中困扰设备正常运行的主要问题之一,也即必须对通过管道进入锅炉的水进行特殊处理,以减轻结垢和锈蚀,避免水中杂质和异物沉积对锅炉及管道产生的危害。
目前去除结垢、预防结垢和防止或减少腐蚀的方法大体可分为两大类:化学除垢法和物理除垢法。化学除垢法主要包括:离子交换法、化学药剂软化法和阶段性酸洗等方法。物理除垢法一般不会产生污染,没有电能的消耗,维护简单,仅进行定期的反冲洗就可达到清除水垢和附着的污染物。
发明内容
本发明的目的是提供一种具有去除水垢功能的合金材料,具有性能稳定、节能高效、寿命长、免维护、无污染等优点。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种具有去除水垢功能的合金材料制备方法,包括:
其合金材料的组成按重量百分比为,32.5%的锌、7.5%的锡、3.4%的镍、4.2%的铁、0.1%的锰、0.12%的铈、0.3%的钨及余量的铜;
将上述的合金材料按所述组成要求将含有铜、锌、锡、镍、铁成分的铜锌合金、铜锡合金、铜镍铁合金或锌铜硅合金加入到已烧至暗红色的坩埚中;
待熔化后,搅拌混匀,形成均匀熔体后,加入熔体重量百分比为0.01%的氯化锰,送风搅拌,停风搅拌;
当熔体温度为1050~1150℃时,将坩埚出炉精炼;
将精炼剂氯化锰、铈稀土元素压入熔体内,充分搅拌成为均匀熔体;
3-5℃/分钟的匀速降温到至950~1000℃时,除渣浇铸成型;
在成型冷却时匀速降温至550-600℃保温3小时后在马弗炉内自然冷却到室温。
本发明的有益效果是:
与现有技术相比,本发明功能合金材料具有较好地去除或防止水垢,并兼有除菌、净化等其他多项功能,且性能稳定、成本低廉、无能耗、寿命长、免维护、无污染。
具体实施方式
一种具有去除水垢功能的合金材料,其组成按重量百分比为,32.5%的锌、7.5%的锡、3.4%的镍、4.2%的铁、0.1%的锰、0.12%的铈、0.3%的钨及余量的铜。
其制备方法为,包括:
将上述的合金材料按所述组成要求将含有铜、锌、锡、镍、铁成分的铜锌合金、铜锡合金、铜镍铁合金或锌铜硅合金加入到已烧至暗红色的坩埚中;
待熔化后,搅拌混匀,形成均匀熔体后,加入熔体重量百分比为
0.01%的氯化锰,送风搅拌,停风搅拌;
当熔体温度为1050~1150℃时,将坩埚出炉精炼;
将精炼剂氯化锰、铈稀土元素压入熔体内,充分搅拌成为均匀熔体;
3-5℃/分钟的匀速降温到至950~1000℃时,除渣浇铸成型;
在成型冷却时匀速降温至550-600℃保温3小时后在马弗炉内自然冷却到室温。

Claims (1)

1.一种具有去除水垢功能的合金材料制备方法,其特征在于:包括:
其合金材料的组成按重量百分比为,32.5%的锌、7.5%的锡、3.4%的镍、4.2%的铁、0.1%的锰、0.12%的铈、0.3%的钨及余量的铜;
将上述的合金材料按所述组成要求将含有铜、锌、锡、镍、铁成分的铜锌合金、铜锡合金、铜镍铁合金或锌铜硅合金加入到已烧至暗红色的坩埚中;
待熔化后,搅拌混匀,形成均匀熔体后,加入熔体重量百分比为0.01%的氯化锰,送风搅拌,停风搅拌;
当熔体温度为1050~1150℃时,将坩埚出炉精炼;
将精炼剂氯化锰、铈稀土元素压入熔体内,充分搅拌成为均匀熔体;
3-5℃/分钟的匀速降温到至950~1000℃时,除渣浇铸成型;
在成型冷却时匀速降温至550-600℃保温3小时后在马弗炉内自然冷却到室温。
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PB01 Publication
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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