CN103785662A - 原子灰落地清理机构及方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及车辆生产工艺,公开了一种原子灰落地清理机构及方法,所述清理机构包括:设置在刮原子灰作业区域滚床系统两外侧的主水槽,以及位于每个主水槽外侧的副水槽,主水槽与副水槽上端均开口且两者相连通,连接主水槽与副水槽上端开口的作业台面为斜坡,斜坡由副水槽朝向主水槽倾斜。本发明利用原子灰的主要成分不饱和聚酯树脂浸水后,与通用材料均无附着力的原理,在刮原子灰作业区域设置水膜,解决原子灰滴落不易清理的问题,既省力省时,又能给作业人员创建一个良好的工作环境。
Description
技术领域
本发明涉及车辆生产工艺,特别是涉及一种原子灰落地清理机构及方法。
背景技术
在车辆生产工艺中,由于客车白铁件钣金凹坑、变形、对焊或搭焊印痕,前后围玻璃钢与车身骨架粘接印痕,均达不到客车涂装面漆质量要求,所以在客车涂装工艺中,均采用刮涂油性原子灰来消除以上各类缺陷,使客车面漆质量达到平整光滑的外观要求。但是在刮涂原子灰时,原子灰容易滴落在地面上,原子灰与地面的附着力极强,且硬度极高,极难清理,直接影响刮原子灰工位的清洁度,恶化员工作业环境。
目前大多数客车厂均采用铺纸皮、回收的地板革作为刮原子灰工位地面的防护物,防护物粘满原子灰后,一次性集中更换,耗力、费时,且工作效率不高。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是如何实现原子灰落地的有效、简单处理,保证刮原子灰工位的整洁度。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种原子灰落地清理机构,其包括:设置在刮原子灰作业区域滚床系统两外侧的主水槽,以及位于每个所述主水槽外侧的副水槽,所述主水槽与所述副水槽上端均开口且两者相连通,连接所述主水槽与副水槽上端开口的作业台面为斜坡,所述斜坡由所述副水槽朝向所述主水槽倾斜。
其中,所述主水槽与副水槽相互平行设置,且两者的长度方向平行于所述滚床系统的行走方向。
其中,所述主水槽的出水口设置有水泵,所述副水槽内沿其长度方向设置有出水管;所述出水管的一端与所述水泵相连,另一端封闭;所述出水管上均匀开设有出水孔。
其中,所述主水槽、副水槽和出水管的长度均与所述滚床系统的长度相等。
其中,所述主水槽的开口上铺设有格栅。
其中,所述斜坡的倾斜角度为5°~8°。
其中,所述主水槽的宽度大于所述副水槽的宽度。
其中,所述副水槽的两面侧壁中,靠近所述主水槽的内侧壁的高度低于远离所述主水槽的外侧壁的高度。
其中,所述内侧壁的上端面为水平面。
本发明还提供了一种原子灰落地清理方法,所述清理方法基于上述的清理机构来实施,具体地,使副水槽的上端开口与主水槽的上端开口之间形成水流,在刮原子灰作业台面上形成水膜,原子灰掉落后落在所述水膜上,直接将所述原子灰打扫清理即可。
(三)有益效果
上述技术方案所提供的原子灰落地清理机构和方法,利用原子灰的主要成分不饱和聚酯树脂浸水后,与通用材料均无附着力的原理,在刮原子灰作业区域设置水膜,解决原子灰滴落不易清理的问题;具体在刮原子灰作业区域设置相连通的水槽,通过水槽的溢流实现作业区域地面上水膜的持续存在;上述方法和结构容易实施,既省力省时,又能给作业人员创建一个良好的工作环境。
附图说明
图1是本发明实施例2的原子灰落地清理机构的俯视图;
图2是图1中原子灰落地清理机构的A-A向视图。
其中,1:副水槽;2:灯架;3:斜坡;4:主水槽;5:滚床系统;6:外置水槽;7:隔板;8:格栅;9:出水管。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
实施例1
图1示出了本实施例原子灰落地清理机构的俯视图,图2是图1中的A-A向视图,参照图示,本实施例的清理机构包括设置在刮原子灰作业区域滚床系统5两外侧的主水槽4,以及位于每个所述主水槽4外侧的副水槽1,所述主水槽4与所述副水槽1上端均开口且两者相连通,连接所述主水槽4与副水槽1上端开口的作业台面为斜坡3,所述斜坡3由所述副水槽1朝向所述主水槽4倾斜。滚床系统5上用于传送需要进行刮原子灰处理的车身,工作人员主要在滚床系统5的两外侧进行刮原子灰操作,主水槽4设置在滚床系统5的两外侧,工作人员刮原子灰操作时产生的落地原子灰能够直接落在主水槽4里,不会造成原子灰落在干燥地面上产生粘接;在每个主水槽4的外侧设置副水槽1,并将两种水槽相连通且两种水槽由副水槽1朝向主水槽4倾斜的斜坡3连接,由此能够实现主水槽4和副水槽1之间的水循环,并且副水槽1内的水会通过斜坡3自动朝向主水槽4流动,在斜坡3上形成流动的水膜,使得工作人员的作业区域内落地原子灰不会与地面粘接。
具体地,所述主水槽4与副水槽1相互平行设置,且两者的长度方向平行于所述滚床系统5的行走方向,所述主水槽4和副水槽1的长度均与所述滚床系统5的长度相等,实现刮原子灰的整个作业区域内均有水槽和水膜设置。
所述主水槽4与副水槽1之间水循环的实现,具体通过在所述主水槽4的出水口设置水泵通过水泵将主水槽4内的水引入副水槽1,若直接通过水泵将水注入副水槽1内部的话,会造成副水槽1内局部水流速度大,该部位水的深度较深,由副水槽1流向主水槽4的水膜厚度不均匀,因此,本实施例在所述副水槽1内沿其长度方向设置出水管9,将所述出水管9的一端与所述水泵相连,另一端封闭,并在所述出水管9上均匀开设出水孔,能够实现副水槽1内各部位水流速度接近,水深相同,斜坡3上形成的水膜厚度均匀。优选地,所述出水管9的长度与所述副水槽1的长度相等。
为了保证设置水槽之后工作人员作业区域的安全性,本实施例在所述主水槽4的开口上铺设有格栅8,落地原子灰同样能够通过格栅8落入主水槽4内。
主水槽4靠近滚床系统5,主水槽4所在区域会产生一定量的落地原子灰,所以将主水槽的宽度和深度设置的相对大一些,副水槽1主要用于产生水膜,所以其宽度和深度可以设置的相对小一些。所述斜坡3的倾斜角度设置在5°~8°之间,避免斜坡3上水膜的厚度过大或者几乎没有,若该倾斜角度过小,则水膜很难形成,若该倾斜角度过大,则斜坡3上形成的水膜厚度会较大,会造成工作人员湿脚等问题。
为了保证斜坡3上水膜的质量,所述副水槽1的两面侧壁中,靠近所述主水槽4的内侧壁的高度低于远离所述主水槽4的外侧壁的高度,避免副水槽1内的水朝向其它方向流出;并且所述内侧壁的上端面为水平面,其水平平直度要求较高,保证斜坡3上水膜的厚度均匀一致。
以具体的实例为例介绍落地原子灰清理机构的设置结构,刮原子灰工序为独立灯囊体,共有四个车位,设置宽300mm、深600mm的主水槽4,槽内灌水,主水槽4上方铺设格栅8,占本工位面积的三分之一。人员操作时,少量原子灰从格栅8上滴落至水中,并沉积于水槽底,但无附着力,极易清理。其余作业区为保证员工登高安全,工位灯架2与送风管受力安全,地面为实心混凝土地基,宽为800mm,地基向主水槽4一端倾斜5~8°角,形成斜坡3,表层铺放大理石,大理石表面打磨粗糙,防滑。另一端向地基以下凿宽80mm、深120mm的长形副水槽1,靠灯架2一端水槽壁高于另一端约20mm,另端槽壁水平平直度要求较高,水溢流过槽壁在大理石地板表面能形成水膜。副水槽1内布φ12mmPVC出水管9,水管每隔150mm,均匀打φ5mm的出水孔。出水管9一端与主水槽4中流量为5m3的水泵出水口连接,另端封闭。水泵将水从主水槽4沿副水槽1内的出水管9抽至副水槽1,并均匀的提高副水槽内1内水位高度。副水槽1内水位高于其低端侧壁时,自然溢流形成厚2mm的水膜。在主水槽4的两端还分别设置有溢流管,溢流管与外置水槽6连通,通过溢流管将主水槽4内溢流的水注入外置水槽6,供工作人员使用。刮原子灰作业区域内设置水槽,并在作业区域形成水膜,能够改善工作环境的温度和湿度。
本实施例落地原子灰清理机构的结构简单,易实现,并且落地原子灰的清理省时省力,能够为工作人员提供一个舒适的工作环境。
实施例2
本实施例提供了一种原子灰落地清理方法,该清理方法基于实施例1中的清理机构来实施,具体地,使副水槽1的上端开口与主水槽4的上端开口之间形成水流,从而在刮原子灰作业台面的斜坡3上形成水膜,使原子灰落在所述水膜上,落在所述水膜上的原子灰通过水膜的作用,与作业区域地面不粘接,可进一步通过简单的打扫清理将落地原子灰清除,不会造成地面的杂乱无章,能够有效提高地面整洁度,保证员工良好的工作环境。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和替换,这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种原子灰落地清理机构,其特征在于,包括:设置在刮原子灰作业区域滚床系统(5)两外侧的主水槽(4),以及位于每个所述主水槽(4)外侧的副水槽(1),所述主水槽(4)与所述副水槽(1)上端均开口且两者相连通,连接所述主水槽(4)与副水槽(1)上端开口的作业台面为斜坡(3),所述斜坡(3)由所述副水槽(1)朝向所述主水槽(4)倾斜。
2.如权利要求1所述的原子灰落地清理机构,其特征在于,所述主水槽(4)与副水槽(1)相互平行设置,且两者的长度方向平行于所述滚床系统(5)的行走方向。
3.如权利要求1所述的原子灰落地清理机构,其特征在于,所述主水槽(4)的出水口设置有水泵,所述副水槽(1)内沿其长度方向设置有出水管(9);所述出水管(9)的一端与所述水泵相连,另一端封闭;所述出水管(9)上均匀开设有出水孔。
4.如权利要求3所述的原子灰落地清理机构,其特征在于,所述主水槽(4)、副水槽(1)和出水管(9)的长度均与所述滚床系统(5)的长度相等。
5.如权利要求1所述的原子灰落地清理机构,其特征在于,所述主水槽(4)的开口上铺设有格栅(8)。
6.如权利要求1所述的原子灰落地清理机构,其特征在于,所述斜坡(3)的倾斜角度为5°~8°。
7.如权利要求1所述的原子灰落地清理机构,其特征在于,所述主水槽(4)的宽度大于所述副水槽(1)的宽度。
8.如权利要求1所述的原子灰落地清理机构,其特征在于,所述副水槽(1)的两面侧壁中,靠近所述主水槽(4)的内侧壁的高度低于远离所述主水槽(4)的外侧壁的高度。
9.如权利要求8所述的原子灰落地清理机构,其特征在于,所述内侧壁的上端面为水平面。
10.基于权利要求1-9中任一清理机构的原子灰落地清理方法,其特征在于,使副水槽(1)的上端开口与主水槽(4)的上端开口之间形成水流,在刮原子灰作业台面上形成水膜,原子灰掉落后落在所述水膜上,直接将所述原子灰打扫清理即可。
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