一种水晶灯挂件玻璃的制作方法
技术领域
本发明涉及一种水晶灯挂件玻璃的制作方法。
背景技术
现有的水晶灯挂件玻璃的制作方法工艺复杂,而且生产出的水晶灯挂件玻璃产品在使用过程中容易磨损或腐蚀,而且使用一段时间后,表面会堆积灰尘之类的污垢,使得水晶灯挂件玻璃不再晶莹透彻。影响使用效果。
故此,现有的水晶灯挂件玻璃的制作方法有待于进一步完善。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处,提供一种工艺简单,生产出的产品耐磨损或耐腐蚀,能自洁的水晶灯挂件玻璃的制作方法。
为了达到上述目的,本发明采用以下方案:
一种水晶灯挂件玻璃的制作方法,其特征在于包括以下步骤:
A、将已成型的水晶灯挂件清洗后,放入磁控溅射托盘,然后送入镀膜机;
B、采用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射不锈钢平面靶,在水晶挂件上磁控溅射一SSTOx层;
C、采用氮气作为反应气体,直流电源溅射铬平面靶,在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层;
D、采用氧气作为反应气体,交流电源溅射锌锡靶,在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层;
E、采用氧气作为反应气体,交流电源溅射钛靶,在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层。
如上所述的一种水晶灯挂件玻璃的制作方法,其特征在于步骤A中水晶灯挂件的清洗具体包括:将成型的水晶灯挂件放在丙酮中超声清洗10分钟后,再用乙醇超声清洗10分钟,最后在去离子水中超声清洗10分钟。
如上所述的一种水晶灯挂件玻璃的制作方法,其特征在于步骤B中所述SSTOx层的厚度为30~45nm,氩气与氧气的体积比为1:2,溅射功率为75~115KW,分两个阴极溅射。
如上所述的一种水晶灯挂件玻璃的制作方法,其特征在于步骤C中氮化铬薄膜层的厚度为3~5nm,氩气与氮气的体积比为1:2,直流电源溅射功率3~6KW。
如上所述的一种水晶灯挂件玻璃的制作方法,其特征在于步骤D中氧化锌锡层的厚度为10~20nm,ZnSn合金旋转靶中Zn与Sn的摩尔比为48:52,氩气与氧气的体积比为1:2,所述交流电源的溅射功率为30~45KW。
如上所述的一种水晶灯挂件玻璃的制作方法,其特征在于步骤E氧化钛层的厚度为10~20nm,氩气与氧气的体积比为1:2,所述交流电源的溅射功率为30~45KW。
综上所述,本发明相对于现有技术其有益效果是:
本发明工艺简单,加工方便,制作出的水晶灯挂件玻璃耐磨损、耐腐蚀;本发明产品利用TiO2的光催化效果来达到自清洁的目的,使用效果好。本发明方法制作的水晶灯挂件,呈金黄色,有24K金效果,且透光,具有良好的视觉效果。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明作进一步描述:
实施例1
一种水晶灯挂件玻璃的制作方法,包括以下步骤:
A、将已成型的水晶灯挂件清洗后,放入磁控溅射托盘,然后送入镀膜机;其中水晶灯挂件的清洗具体包括:将成型的水晶灯挂件放在丙酮中超声清洗10分钟后,再用乙醇超声清洗10分钟,最后在去离子水中超声清洗10分钟;
B、采用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射不锈钢平面靶,在水晶挂件上磁控溅射一SSTOx层;其中所述SSTOx层的厚度为30nm,氩气与氧气的体积比为1:2,溅射功率为75KW,分两个阴极溅射;
C、采用氮气作为反应气体,直流电源溅射铬平面靶,在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层;其中氮化铬薄膜层的厚度为3nm,氩气与氮气的体积比为1:2,直流电源溅射功率3KW;
D、采用氧气作为反应气体,交流电源溅射锌锡靶,在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层;其中氧化锌锡层的厚度为10nm,ZnSn合金旋转靶中Zn与Sn的摩尔比为48:52,氩气与氧气的体积比为1:2,所述交流电源的溅射功率为30KW;
E、采用氧气作为反应气体,交流电源溅射钛靶,在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层;其中氧化钛层的厚度为10nm,氩气与氧气的体积比为1:2,所述交流电源的溅射功率为30KW。
实施例2
一种水晶灯挂件玻璃的制作方法,包括以下步骤:
A、将已成型的水晶灯挂件清洗后,放入磁控溅射托盘,然后送入镀膜机;其中水晶灯挂件的清洗具体包括:将成型的水晶灯挂件放在丙酮中超声清洗10分钟后,再用乙醇超声清洗10分钟,最后在去离子水中超声清洗10分钟;
B、采用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射不锈钢平面靶,在水晶挂件上磁控溅射一SSTOx层;其中所述SSTOx层的厚度为45nm,氩气与氧气的体积比为1:2,溅射功率为115KW,分两个阴极溅射;
C、采用氮气作为反应气体,直流电源溅射铬平面靶,在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层;其中氮化铬薄膜层的厚度为5nm,氩气与氮气的体积比为1:2,直流电源溅射功率6KW;
D、采用氧气作为反应气体,交流电源溅射锌锡靶,在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层;其中氧化锌锡层的厚度为20nm,ZnSn合金旋转靶中Zn与Sn的摩尔比为48:52,氩气与氧气的体积比为1:2,所述交流电源的溅射功率为45KW;
E、采用氧气作为反应气体,交流电源溅射钛靶,在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层;其中氧化钛层的厚度为20nm,氩气与氧气的体积比为1:2,所述交流电源的溅射功率为45KW。
实施例3
一种水晶灯挂件玻璃的制作方法,包括以下步骤:
A、将已成型的水晶灯挂件清洗后,放入磁控溅射托盘,然后送入镀膜机;其中水晶灯挂件的清洗具体包括:将成型的水晶灯挂件放在丙酮中超声清洗10分钟后,再用乙醇超声清洗10分钟,最后在去离子水中超声清洗10分钟;
B、采用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,直流电源溅射不锈钢平面靶,在水晶挂件上磁控溅射一SSTOx层;其中所述SSTOx层的厚度为40nm,氩气与氧气的体积比为1:2,溅射功率为90KW,分两个阴极溅射;
C、采用氮气作为反应气体,直流电源溅射铬平面靶,在SSTOx层上磁控溅射一氮化铬薄膜层;其中氮化铬薄膜层的厚度为4nm,氩气与氮气的体积比为1:2,直流电源溅射功率4KW;
D、采用氧气作为反应气体,交流电源溅射锌锡靶,在氮化铬薄膜层上磁控溅射一氧化锌锡层;其中氧化锌锡层的厚度为15nm,ZnSn合金旋转靶中Zn与Sn的摩尔比为48:52,氩气与氧气的体积比为1:2,所述交流电源的溅射功率为35KW;
E、采用氧气作为反应气体,交流电源溅射钛靶,在氧化锌锡层上磁控溅射一氧化钛层;其中氧化钛层的厚度为15nm,氩气与氧气的体积比为1:2,所述交流电源的溅射功率为40KW。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征以及本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。