一种可实现炉门升降和旋转一体运动的机构
技术领域
本发明涉及一种半导体立式热处理设备的炉门运动控制机构,更具体地,涉及一种可实现半导体立式热处理设备的炉门升降和旋转一体运动的控制机构。
背景技术
半导体立式热处理设备可包括例如立式氧化炉、LPCVD炉、立式退火炉等。在半导体立式热处理设备开始进行工艺之前,也就是将石英舟和硅片送入加热腔室之前,需要打开炉门;在工艺结束之后,也就是将石英舟和硅片移出加热腔室之后,需要封闭炉门,以起到隔离热量等作用。其动作过程请参阅图1,图1是一种半导体立式热处理设备工艺腔区域的炉门安装位置结构示意图。如图1所示,在工艺开始前,炉门驱动装置24驱动炉门23竖直向下运动;下降一段距离后炉门23脱离炉口,且不与设于炉门口的吸气装置210发生干涉时,再使炉门23水平旋转,打开炉门,然后就可以进行工艺;工艺开始时,处于硅片承载区域25内、承载石英舟26、保温桶28和硅片27的工艺门29,在驱动装置的驱动下直线向上运动,将石英舟26、保温桶28和硅片27移进已经打开的炉口,进入加热炉体21内的石英加热腔室22进行工艺。
目前,对立式炉的炉门运动控制,在领域内应用最多的是气动炉门、步进电机炉门等方式。
现有技术中,采用步进电机方式控制炉门升降及旋转的,是利用两个步进电机连接同步带轮以及减速装置,实现炉门的升降和旋转。在这种方式中,步进电机需要同步皮带的驱动,长时间后皮带容易出现磨损、张力不足和打滑等现象,影响炉门运动的控制。而且,其结构复杂,需要用到两个步进电机、一个减速机、一套丝杠螺母和一套滑块导轨。这样使得成本很高,不但体积、重量大,而且利用步进电机驱动,容易出现炉门摆动不到位的情况。
中国发明专利CN102719805A一种用于PECVD设备的自动炉门机构公开了一种炉门气动控制技术,利用一个X向直线气缸以及连杆机构,实现炉门的摆动;以及利用一个Y向直线气缸,实现炉门的开合。这种结构用到两个直线气缸、一套连杆机构和用于定位方向的导轨,需要至少两个驱动部件,导致成本较高、体积和重量比较大。
上述现有技术存在成本较高、体积和重量比较大,以及结构相对复杂的共同缺陷,这相对于半导体行业对成本控制严格、对设备占用空间及可维护性有着苛刻限制的要求是非常不利的。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷,提供一种结构简单、控制精确、空间占用小、维护方便的新型炉门运动控制机构,通过在炉门控制机构中利用螺纹旋合产生相对位移及旋转的原理,设计出一种独特的控制单元,可实现炉门升降和旋转的一体化运动,不但减少了驱动源,确保了炉门运动的可靠性,而且缩短了运动时间,从而提高了半导体立式热处理设备的工艺效率。
为实现上述目的,本发明的技术方案如下:
一种可实现炉门升降和旋转一体运动的机构,包括炉门联动机构、驱动装置,其特征在于,所述联动机构包括:
一螺杆,所述螺杆为固定件,表面加工有一段螺纹槽和一轴向竖直凹槽,所述螺纹槽的末端与所述凹槽的末端相切;
一螺杆外管,所述螺杆外管为活动件,内表面加工有一段与所述螺杆螺纹槽相对应的螺纹牙,所述螺杆外管与所述螺杆套接;其中,所述螺杆外管的螺纹牙可容纳在所述螺杆凹槽内,并可与所述螺杆对应的螺纹槽旋合形成螺纹副;所述螺杆外管与炉门固定连接,所述螺杆外管还活动连接驱动装置。
本技术方案通过螺杆和螺杆外管两个零件的旋合过程,就可以实现炉门升降与旋转的同步进行。螺杆为固定件,当驱动装置通过轴承组件给予活动的螺杆外管向上推力时,由于螺杆和螺杆外管套接,所对应的螺纹旋合形成螺纹副,螺纹受径向分力的作用,螺杆外管会进行旋转。因受轴向分力,使螺杆外管上升,当上升一定高度后(高度可根据需求自行设计螺纹升角),螺纹旋合结束(螺纹的长度设计决定旋转的摆角),螺纹相分离。此时,螺杆外管的凸出螺纹牙结束端面与螺杆上的凹槽侧面接触,起到限位作用,故旋转停止。因而,螺杆外管沿着螺杆上的凹槽只进行上升运动,当螺杆外管运动到限定位置后,结束上升运动。在此过程中,螺杆外管通过连接的悬臂带动炉门实现旋转和上升。驱动装置带动联动机构将炉门抬升,在抬升的过程中,由于螺纹的旋合作用,炉门同时会产生旋转,当旋转到与炉口同心的位置时(旋转的摆角由设计的螺纹长度决定),由于螺杆凹槽的限位作用,炉门就停止旋转。炉门停止旋转后只是进行上升动作,上升到指定高度后停止上升,完成一次炉门的封闭。
当需要打开炉门时,通过驱动装置将炉门降下,此时的作用力只要减小小于顶起的力,炉门就会由于自重而下落。初始下落为直线运动,到达螺杆上的凹槽下端与螺纹槽结束端交界面自然形成的角度限位后,螺纹开始旋合,炉门也随着开始旋转下降。当到达螺纹开始端时,螺纹旋合停止,螺杆外管停止转动,炉门同时旋转到位,完成一次炉门的打开。
进一步地,所述螺纹槽、螺纹牙的螺纹牙型为梯形或矩形传动螺纹,以减小旋合时需要的推力。
进一步地,所述螺纹槽、螺纹牙的螺纹升角大于自锁角,这样,在螺纹旋合时就不会发生螺纹自锁现象。
进一步地,所述螺纹槽的末端与所述凹槽的末端相切,其中,所述凹槽的底面与螺纹槽底面同面,所述凹槽的二个侧壁分别与螺纹槽的上、下侧面相切。
进一步地,所述螺纹槽的开始端位于所述螺杆表面的下端,所述螺纹牙的开始端位于所述螺杆外管内表面的下端。这种设计使螺杆外管可从螺杆的凹槽上部开始与螺杆套接,或从螺杆下端直接旋合套接。
进一步地,所述螺纹槽的上侧面开始端具有一竖直端面,所述螺纹牙开始端的端面、结束端的端面与所述凹槽的对应侧壁同向,所述凹槽侧壁的延伸面通过所述螺杆的轴线。当螺纹从螺杆下端开始加工时,在炉门下降、螺纹旋合结束时,此竖直端面起到限位作用,避免螺杆外管的螺纹牙滑出螺杆的螺纹槽,使炉门旋转的角度得到精确控制。
进一步地,所述螺杆外管是通过套接于其外的轴承组件连接驱动装置,所述轴承组件包括角接触球轴承、带孔的轴承盖和轴承座;其中,所述角接触球轴承与螺杆外管套接,并安装在轴承座中,所述角接触球轴承上方设有轴承盖,所述轴承盖与轴承座固定连接,所述轴承座固定连接驱动装置;所述螺杆与螺杆外管套接,螺杆下端穿过所述轴承座连接一固定支架。在炉门升降过程中,由于炉门的悬臂结构,会产生径向的倾覆力矩。本技术方案中利用角接触球轴承来承担径向力,使螺杆上只受到轴向力。
进一步地,所述驱动装置为驱动气缸,所述气缸的活塞杆连接气缸外接的转角滑台的上端,所述转角滑台的侧部通过一安装板与轴承组件的轴承座固定连接,所述气缸缸体侧部与滑台侧部之间通过滑块导轨连接。利用滑块导轨来承担作用在气缸活塞杆上的径向力。所述气缸缸体还通过固定支架与螺杆下端相连接。
在炉门运动过程中,可控制气缸的运动平稳、缓慢,使炉门旋转也平稳缓慢,这样可使炉门平稳地到达限位,减小冲击。
如果在气缸的气路中增加三通阀,还可使得气缸实现断电自保持,即使出现了突然的断电情况,气缸仍然能保压,顶住炉门,避免发生意外情况。
进一步地,所述螺杆上端连接一限位顶环,用来限制螺杆外管的上升高度。所述限位顶环与热处理设备内部固定安装;所述螺杆下端连接一固定支架,所述支架与热处理设备内部固定安装。
进一步地,所述螺杆外管的形状为带颈法兰形,其颈部与所述轴承组件的角接触球轴承过盈配合,其法兰部靠压角接触球轴承。所述螺杆外管的上端面通过悬臂连接炉门。
进一步地,所述带颈法兰形螺杆外管的颈部开有径向卡槽,卡槽设有一弹性挡圈,所述弹性挡圈卡压所述轴承组件的角接触球轴承的下端,用来限制角接触球轴承的移动。
从上述技术方案可以看出,本发明仅通过一个驱动源,利用螺杆上与螺杆外管内设计的一段传动螺纹副的旋合作用,以及利用螺杆凹槽的限位和导向作用,实现带动炉门旋转与升降的功能。这种设计的优势有:
1.增加了结构的可靠性。螺杆与螺杆外管上的限位结构,使得炉门的动作路径被限制,不会出现因为控制原因出现炉门的过运动;而且采用一个气缸的驱动方式使得运动不会中途停止,每次运动都会到位;断电自保持的设计使得发生断电时炉门也不会因为自重而下落,确保安全。
2.提高了运动效率。将两个动作合为一个动作进行,减少了运动的时间。
3.节约成本。一个驱动源和相对简单的结构,使得本发明的成本较现有其他结构的成本降低。
4.控制简单。旋转、升降两个动作只需要给定一个动作信号即可完成,拥有限位结构不需要传感器的反馈,使得控制简化,也提高了机构的可靠性。
附图说明
图1是一种半导体立式热处理设备工艺腔区域的炉门安装位置结构示意图;
图2是本发明一种可实现炉门升降和旋转一体运动的机构装配示意图;
图3是本发明的炉门联动机构中的螺杆结构示意图;
图4是本发明的炉门联动机构中的螺杆外管结构示意图;
图5是本发明的炉门联动机构中的螺杆与螺杆外管组合状态示意图;
图6是本发明的炉门联动机构中螺杆外管的螺纹牙旋入螺杆凹槽时的状态示意图;
图7是本发明一种可实现炉门升降和旋转一体运动的机构结构剖视图;
图8是本发明一种可实现炉门升降和旋转一体运动的机构装配状态分解示意图。
图中1.螺杆,2.螺杆外管,3.顶环,4.轴承盖,5.角接触球轴承,6.弹性挡圈,7.轴承座,8.悬臂,9.炉门,10.支架,11.安装板,12.气缸,13.滑块导轨,14.转角滑台,15.螺纹槽,16.凹槽,17.螺纹牙,18.螺纹槽上侧面开始端端面,19.卡槽,21.炉体,22.加热腔室,23.炉门,24.炉门驱动装置,25.硅片承载区域,26.石英舟,27.硅片,28.保温桶,29.工艺门,210.吸气装置。
具体实施方式
下面结合附图,对本发明的具体实施方式作进一步的详细说明。
首先介绍一下在通常的半导体立式热处理设备中,炉门的安装位置和工艺要求。半导体立式热处理设备可包括例如立式氧化炉、LPCVD炉、立式退火炉等,炉门的作用在于封闭设备的加热腔室,并与外界隔离。在半导体立式热处理设备开始进行工艺之前,也就是将石英舟和硅片送入加热腔室之前,需要打开炉门;在工艺结束之后,也就是将石英舟和硅片移出加热腔室之后,需要封闭炉门,以起到隔离热量等作用。
请参阅图1,图1是一种半导体立式热处理设备工艺腔区域的炉门安装位置结构示意图。如图所示,在工艺开始前,炉门驱动装置24驱动炉门23竖直向下运动;下降一段距离后炉门23脱离炉口,且不与设于炉门口的吸气装置210发生干涉时,再使炉门23水平旋转,打开炉门,然后就可以进行工艺;工艺开始时,处于硅片承载区域25内、承载石英舟26、保温桶28和硅片27的工艺门29,在驱动装置的驱动下直线向上运动,将石英舟26、保温桶28和硅片27移进已经打开的炉口,进入加热炉体21内的石英加热腔室22进行工艺。
下面开始介绍本发明的具体实施方式。
在本实施例中,请参阅图2,图2是本发明一种可实现炉门升降和旋转一体运动的机构装配示意图。如图所示,本发明的炉门机构中,炉门23通过联动机构连接驱动气缸12。工作时,驱动气缸12驱动联动机构动作,联动机构中的运动部件发生旋转和升降,带动与之相连的炉门23运动,实现炉门的开闭和旋转。
下面介绍一下本发明用于实现炉门旋转和升降的零件结构。
请参阅图3,图3是本发明的炉门联动机构中的螺杆结构示意图。如图所示,螺杆自下端面开始的外表面上向内加工有一段牙型为梯形的传动螺纹槽15,螺纹槽的数量为一个,本例采用右旋螺纹。所需螺纹的升角需计算获得,并应大于自锁角,防止螺纹自锁。本例中,经计算的螺纹自锁角为8.83度,为获得较好的旋升效果,将升角设计得较大,为27.9度,以减小旋合时需要的推力。梯形传动螺纹强度较高、不易自锁。螺杆侧面沿轴向开有一个长凹槽16,凹槽的下端与螺纹槽相切;其中,凹槽的底面与螺纹槽底面(牙底)同面,凹槽的侧壁分别与螺纹槽二个侧面结束端的端面相切重合;螺纹槽上侧面开始端端面18加工成垂直端面,起限位作用。螺杆的顶端面和底端面均加工有螺钉孔。
请参阅图4,图4是本发明的炉门联动机构中的螺杆外管结构示意图。如图所示,螺杆外管的形状为带颈法兰形,螺杆外管自下端面开始的内表面上加工有一段与螺杆上的螺纹槽相对应的传动螺纹牙17,螺纹牙的数量为一个。螺纹牙的底部开始端端面和顶部结束端端面均为竖直方向端面,螺纹牙开始端的端面、结束端的端面与螺杆凹槽的对应侧壁同向,凹槽侧壁的延伸面通过所述螺杆的轴线。当螺纹从螺杆下端开始加工时,在炉门下降、螺纹旋合结束时,此竖直端面起到限位作用,避免螺杆外管的螺纹牙滑出螺杆的螺纹槽,使炉门旋转的角度得到精确控制。螺杆外管的顶端面加工有螺钉孔。
请参阅图5,图5是本发明的炉门联动机构中的螺杆与螺杆外管组合状态示意图。如图所示,当螺杆外管2与螺杆1套接时,螺杆外管2与螺杆1所对应的螺纹旋合形成螺纹副。
请参阅图6,图6是本发明的炉门联动机构中螺杆外管的螺纹牙旋入螺杆凹槽时的状态示意图。如图所示,螺杆1侧面沿轴向开有长凹槽,在螺纹旋合结束时,能容纳螺杆外管的螺纹牙17进入凹槽。
本例中,将螺杆1的螺纹槽15加工成沿螺杆1圆周的轴向投影长度为1/2圆周长,凹槽与螺纹槽相切在螺纹槽的后1/2处,即凹槽沿螺杆1圆周的轴向投影长度为1/4圆周。螺杆外管2螺纹牙的长度为沿圆周的轴向投影长度1/4圆周,且凹槽与螺杆外管2螺纹牙形成间隙配合。当螺纹牙与螺纹槽旋合、转动90度角时,螺纹牙进入凹槽,即螺纹摆角为90度。这时,螺杆外管所连接的炉门也旋转90度。可以根据需要设计不同的摆角。
螺杆1为固定安装,当给螺杆外管2向上推力时,由于螺纹上径向分力的作用,螺杆外管2会进行旋转,轴向分力使螺杆外管2上升,当螺杆外管2上升一定高度后(高度根据需求自行设计),螺纹旋合结束(本例为旋转90°),螺纹分离,螺杆外管2的螺纹牙顶部结束端竖直面与螺杆1的长凹槽竖直面接触,旋转停止。螺杆外管2沿着螺杆1上的长凹槽只进行上升运动,螺杆外管2运动到顶部限定位置后结束运动。同样的,当螺杆外管2受到向下的推力下降时,由于螺杆1上长凹槽的限位作用,螺杆外管2从顶部向下做直线运动,到达螺纹旋合处时,由于受到长凹槽二个侧壁及螺杆1螺纹槽侧面的限位,作用在螺纹上的径向分力使螺杆外管2开始同时进行旋转运动。旋转指定角度后,螺杆1中螺纹槽上侧面开始端端面18的竖直面与螺杆外管2中螺纹牙的底部开始端竖直面接触,螺杆外管2停止旋转和下降。
请参阅图7,图7是本发明一种可实现炉门升降和旋转一体运动的机构结构剖视图。如图所示,炉门的悬臂8通过螺钉固定在带颈法兰形螺杆外管2上端面。轴承组件中的角接触球轴承5套接在螺杆外管2的颈部,螺杆外管2与角接触球轴承5的内圈为过盈配合,可以同时承受轴向和径向载荷。炉门和悬臂8由于重力作用产生的倾覆力矩作用在螺杆外管2上,因螺杆外管2与角接触球轴承5的内圈为过盈配合,故作用于螺杆外管2上的径向力作用到角接触球轴承5上,而螺杆1只受到来自炉门和悬臂8的轴向力。
请参阅图7,角接触球轴承5安装在轴承座7中,其外圈与轴承座7为过盈配合。轴用弹性挡圈6卡接在位于角接触球轴承5下方的螺杆外管2外壁上的卡槽19(请参阅图4或5)内,起到轴向阻挡轴承5的作用。轴承盖4通过螺钉与轴承座7连接,起到压紧轴承5外圈的作用。
请参阅图7,螺杆1的顶部盲孔与作为限位件的顶环3上的螺钉孔为过渡配合,通过螺钉连接;顶环3再通过螺钉或其他安装方式与设备的机架或者安装顶板固定。螺杆1的底部盲孔与支架10上的螺钉孔为过渡配合,通过螺钉连接;支架10通过螺钉或其他方式与机架或者顶板固定。需要保证顶环3的螺钉孔与支架10上的螺钉孔较高的同轴度,以保证螺杆1的稳定性。
请参阅图7,轴承座7通过螺钉与安装板11连接,安装板11通过螺钉与气缸12的转角滑台14相连。气缸12侧部与转角滑台14侧部之间装有滑块导轨13,可以承担径向力,使气缸12的活塞杆只受到轴向力,可有效地保护气缸活塞杆。
请参阅图8,图8是本发明一种可实现炉门升降和旋转一体运动的机构装配状态分解示意图,可以更清楚地表达本发明各零件的具体装配关系。如图所示,螺杆1通过顶环3、支架10与热处理设备的机架或者安装板相连固定。螺杆外管2与螺杆1旋接,并通过悬臂8连接炉门23。螺杆外管2下端外套接有安装在轴承座7中的角接触球轴承5。轴承盖4通过螺钉与轴承座7连接,起到压紧轴承5外圈的作用。轴用弹性挡圈6卡接在位于轴承5下方的螺杆外管2外壁上的卡槽19内,起到轴向阻挡轴承5的作用。轴承座7通过螺钉与安装板11连接,安装板11通过螺钉与气缸12的带有滑块导轨13的转角滑台14侧部相连,气缸12的缸体通过螺钉与支架10或者机架或者安装板相连固定。这样,气缸12被固定住,而气缸12的活塞杆则可以带动转角滑台14、安装板11、轴承座7、轴承5、螺杆外管2、悬臂8、炉门23等进行运动,从而实现炉门的升降及旋转。
本发明通过螺杆和螺杆外管两个零件的旋合过程,就可以实现炉门升降与旋转的同步进行。螺杆为固定件,当驱动气缸通过轴承组件给予活动的螺杆外管向上推力时,由于螺杆和螺杆外管套接,所对应的螺纹旋合形成螺纹副,螺纹受径向分力的作用,螺杆外管会进行旋转,炉门同时会产生旋转。因受轴向分力,使螺杆外管上升,当旋转上升到与炉口同心的位置时(旋转的摆角由设计的螺纹长度决定),螺杆外管的凸出螺纹牙顶部结束端竖直面与螺杆上的凹槽竖直面接触,由于螺杆凹槽的限位作用,炉门就停止旋转。因而,螺杆外管沿着螺杆上的凹槽只进行上升运动,当螺杆外管运动到螺杆顶部,接触限位件后,结束上升运动。在此过程中,螺杆外管通过连接的悬臂带动炉门实现旋转和上升,完成一次炉门的封闭。
当需要打开炉门时,通过驱动气缸将炉门降下,此时的作用力只要减小小于顶起的力,炉门就会由于自重而下落。初始下落为直线运动,到达螺杆上的凹槽下端与螺纹结束端交界面自然形成的角度限位后,螺纹开始旋合,炉门也随着开始旋转下降。当到达螺杆底部、螺纹槽上侧面开始端的竖直端面自然形成的角度限位后,螺杆外管停止转动,炉门同时旋转到位,完成一次炉门的打开。
可以在气缸的气路中增加三通阀,使得气缸可以实现断电自保持。即使出现了突然的断电情况,气缸仍然保压,顶住炉门,避免发生意外情况。
炉门在运动过程中,还可以利用调速阀使气缸的运动平稳、缓慢,炉门旋转也得以平稳、缓慢,这样,使炉门可以平稳到达限位,减小冲击。
需要说明的是,驱动装置也可以采用其他的驱动方式,例如,改为直线气缸和外部加装导轨滑块来承受径向倾覆力的方式;或者采用直线气缸外部加装直线轴承来承受径向倾覆力的方式;或者将气缸驱动改为直线电机驱动等。
以上所述的仅为本发明的优选实施例,所述实施例并非用以限制本发明的专利保护范围,因此凡是运用本发明的说明书及附图内容所作的等同结构变化,同理均应包含在本发明的保护范围内。